「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

A transition of matching between an image in a search window F1 and a reference pattern corresponding to a pedestrian image is acquired with horizontal movement of the search window F1 relative to an input image.例文帳に追加

入力画像に対して探索窓Ｆ１を横方向移動させながら、探索窓Ｆ１内の画像と歩行者像に対応する基準パターンとの一致度の推移を取得する。 - 特許庁

An SSW (self servo write) reads a mark 411 formed on a recording surface corresponding to a propagation head before starting to write a product servo pattern and determines a reference APC.例文帳に追加

本発明の一形態のＳＳＷは、プロダクト・サーボ・パターンを書き始める前に、プロパゲーション・ヘッドに対応する記録面上に形成されたマーク４１１を読み出して、基準ＡＰＣを決定する。 - 特許庁

To provide a technology for correcting map coordinates wherein, by dividing an area in a dividing pattern matching the correction amount of each reference point, the accuracy of coordinate value is kept high after correction transformation.例文帳に追加

個々の基準点の補正量に合致した区分パターンにて領域を区分することで、補正変換後の座標値の精度を高く保つ地図の座標補正技術を提供する。 - 特許庁

In addition, by applying phase modulation to the reference light to give a predetermined phase pattern, the correlation between the light intensity and the phase distribution can be suppressed on the recording medium.例文帳に追加

そのうえで、参照光については、所定の位相パターンが与えられるようにして位相変調を施すことで、記録媒体内での強度、位相分布の相関の発生を抑制する。 - 特許庁

The subtraction circuit 14 eliminates the fixed pattern noise of the image signal, by subtracting the new reference elimination signal from the image signal that is to be input from the receiving part 11.例文帳に追加

受信部１１から入力される画像信号から新たな基準除去信号を減算することによって、減算回路１４は画像信号の固定パターンノイズを除去する。 - 特許庁

Hereby, accurate distance data can be determined by setting the size of the image pattern capable of acquiring the number of reference extreme values as the size capable of acquiring desired distance measurement accuracy.例文帳に追加

従って、基準極値数を得ることができる画像パターンのサイズを、所望の測距精度を得ることができるサイズに設定しておくことで精度のよい距離データを求めることができる。 - 特許庁

A feature vector collation processing part 13 collates the projection feature vector and feature information in a pattern recognition dictionary 15 with each other based on a prescribed partial space classification reference.例文帳に追加

特徴ベクトル照合処理部１３は、射影特徴ベクトルとパターン認識辞書１５における特徴情報とを所定の部分空間類別基準に基づいて照合する。 - 特許庁

In the comparator 43, an alarm is given from an alarm part 44 if the computational result of the process gas supply periodic pattern has agreed the reference result adversely-affecting the processing result.例文帳に追加

比較部４３において、処理ガス供給周期パターンの演算結果と、プロセス結果に悪影響を与える参照結果が一致した場合、アラーム部４４からアラームが発せられる。 - 特許庁

To detect minute defects with improved sensitivity by preventing pseudo-defects from occurring because of minute variations of a pattern to be inspected for a method of inspecting defects for comparing inspection and reference patterns.例文帳に追加

検査パターンと参照パターンとの比較を行う欠陥検査法に関し、検査対象パターンの微小な変動による擬似欠陥の発生を防ぎ、微小な欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁

A checksum obtained from an image in a predetermined range in a commercial, and the start position and end position of the commercial using the position of the range as a reference, are described in a pattern file prepared for each commercial.例文帳に追加

CM毎に用意されるパターンファイルには、CMの所定の範囲の画像を対象として求められたチェックサムと、その範囲の位置を基準としたCMの開始位置、終了位置が記述される。 - 特許庁

Similarly, from a taken image of the projection pattern projected by the projector 6 on the reference plate 1 and the specimen, a projection phase image and a specimen phase image are obtained respectively.例文帳に追加

同様に、基準平板１及び試料にプロジェクタ６から投影された投影パターンが撮像された画像をもとに、それぞれ投影位相画像及び試料位相画像が求められる。 - 特許庁

A density measuring pattern 31 comprises three patterns wherein reference patterns composed of solid images in respective colors are arranged in central, left-offset and right-offset positions of thermal recording paper.例文帳に追加

濃度測定パターン３１は、各色のベタ画像からなる基準パターンを、感熱記録紙の中央位置、左オフセット位置及び右オフセット位置に配置した３パターンから構成される。 - 特許庁

This paper sheet discriminating device 1 comprises a light irradiating part 4, a light-receiving sensor 5, a paper sheet carrying part 6, a CPU 7, a ROM 8, a RAM 9 and a reference pattern storage part 10.例文帳に追加

紙葉類識別装置１は、光照射部４、受光センサ５及び紙幣搬送部６を有し、さらに、ＣＰＵ７、ＲＯＭ８、ＲＡＭ９及び基準パターン記憶部１０を有している。 - 特許庁

On the other hand, when the number U of starting storages is two at the start of pattern generation process, since the starting storage number U is smaller than the foreseeing execution reference number, bonanza foreseeing presentation is expressed.例文帳に追加

一方、図柄生成行程開始時点で、始動記憶数Ｕが２個であると、予見実行基準数よりも始動記憶数Ｕが少ないため、大当り予見演出が表出される。 - 特許庁

A reference pattern 102 of the length of 5 μm, the width of 1 μm, and the height (the film thickness) of 40 nm in plan view is formed on an insulating substrate 101 consisting of silicon oxide (SiO_2).例文帳に追加

酸化シリコン（ＳｉＯ_2）からなる絶縁性基板１０１の上に、平面視で長さ５μｍ，幅１μｍ，高さ（膜厚）４０ｎｍの基準パタン１０２が形成された状態とする。 - 特許庁

To bore a reference hole and a product hole in a position relationship of a high precision in any case of a gang die boring method and a grid pattern boring method.例文帳に追加

ギャングダイ穿孔方式とグリッドパターン穿孔方式の何れの場合においても、基準孔と製品孔とを高精度な位置関係で穿孔できる多軸穿孔装置を提供する。 - 特許庁

When the printing is started, the reference opening volumes of respective ink fountain keys of respective colors are found based on the 'pattern area ratio-ink fountain key opening volume conversion curve' for respective colors and corrected by the correction rate after being adjusted.例文帳に追加

印刷開始時に、各色ごとの「絵柄面積率−インキツボキー開き量変換カーブ」から各色の各インキツボキーの基準の開き量を求め、調整後の補正量で補正する。 - 特許庁

The thickness Ta of the absorber pattern and a reference value Tr are compared (s5), and when the relationship: Ta≥Tr is satisfied, the thickness Ta is adopted, and the reflection-type exposure masks are manufactured (s6).例文帳に追加

そして、吸収体パターンの厚さＴａと基準値Ｔｒとを比較し（ｓ５）、Ｔａ≧Ｔｒである場合、厚さＴａを採用して反射型露光マスクを製造する（ｓ６）。 - 特許庁

Further, the payment display device 1 comprises a payment table 14 with payment information stored therein, and forms the combination pattern of payment and change in reference to this.例文帳に追加

更に、支払金額表示装置１は、支払金額情報が記録された支払金額テーブル１４を用意し、これを参照して支払金額と釣り銭の組み合わせパターンを作成する。 - 特許庁

The first through fourth tilting mirrors are (i) respectively offset in height from a reference plane by first through fourth mirror displacements, and (ii) are respectively arranged clockwise in a substantially square pattern.例文帳に追加

第１から第４の可傾ミラーは、ｉそれぞれ第１から第４のミラー変位だけ基準面から高さが偏位し、ｉｉ実質的に正方形のパターンとしてそれぞれ時計回りに配置される。 - 特許庁

The reference points are used for determining a tool course and in accordance with the tool course, an engraving head is driven and a tool or a needle responds to the tool course to engrave a pattern in an engraving region.例文帳に追加

基準点は、工具経路を決定するために使用し、工具経路に応じて彫刻ヘッドを駆動して、工具又は針が工具経路に応答して、彫刻領域にパターンを彫刻する。 - 特許庁

An L/S pattern with a pitch P2 is formed which is subjected to deformation of the shape due to optical proximity effect in an exposure device A which is a reference device used in the creation of the OPE rule.例文帳に追加

ＯＰＥルールの作成に使用した基準装置である露光装置Ａにおいて、光近接効果による形状変形が生じるピッチＰ２のＬ／Ｓパターンを形成する。 - 特許庁

In the calibration of the reference value of the gas sensor 20, an applied voltage in an internal heater part 27 of the gas sensor 20 is controlled by a predetermined control pattern to maintain a gas sensing part 26 of the gas sensor 20 at a predetermined temperature.例文帳に追加

ガスセンサ（20）の基準値の較正において、ガスセンサ（20）の感ガス部（26）を所定温度に維持するために、ガスセンサ（20）の内部ヒータ部（27）の印加電圧を所定の制御パターンで制御する。 - 特許庁

A third control means 35 switches the mode to the outside air blocking mode even if the gas content is within each threshold when the patterned output signal is similar to the reference pattern.例文帳に追加

第３の制御手段３５は、パターン化された出力信号が参照パターンに類似しているときには、各閾値以内のガスの濃度であっても外気遮断モードにモードを切り替える。 - 特許庁

Therefore, in the post-process, the base material 4 can be processed by making this clamp block 5 as a reference, and a processing can be accurately applied to the base material 4 to the shape pattern of the stamper 26.例文帳に追加

そのため、後工程において、このクランプブロック５を基準に基材４を加工でき、スタンパ２６の形状パターンに対して正確に基材４に加工を施すことができる。 - 特許庁

The stencil reference value determined is collated with an element value of the stencil pattern, and based on the color mask determined and using the one component, a three-dimensional model is drawn at a pixel which corresponds to matching values.例文帳に追加

そして、決定されたステンシル参照値とステンシルパターンの要素値を照合し、一致した値に対応する画素に、決定されたカラーマスクに基づき１成分で立体モデルを描画する。 - 特許庁

This device shifts gradually a sync-pattern position of recording data from a recording reference position and records it, and when its shift quantity reaches the prescribed quantity, the position is fixed to the prescribed shift quantity and recording is performed.例文帳に追加

記録データのシンクパターン位置を記録基準位置から徐々にシフトさせて記録し、そのシフト量が所定量以上に達したら所定シフト量に固定して記録を行う。 - 特許庁

An image density control means includes a means for detecting color toner concentration by detecting the diffusion reflection light of each color toner with, as a reference, the diffusion reflection light of a black solid pattern.例文帳に追加

画像濃度制御手段はブラックのベタパターンの拡散反射光を基準として色トナーの拡散反射光を検知することにより、色トナー濃度を検知する手段を有する。 - 特許庁

In recording information, a reproduction light generated by the diffraction of the recording reference light by the interference pattern formed on the information recording layer is detected by a CCD array 133.例文帳に追加

情報の記録時には、情報記録層に形成された干渉パターンによって記録用参照光が回折されて生じる再生光が、ＣＣＤアレイ１３３によって検出される。 - 特許庁

A plurality of toner images of the reference pattern are formed in the main scanning direction on an image carrier, and the density of the toner image is detected, whereby the image forming conditions are controlled, based on the density information obtained.例文帳に追加

像担持体上の主走査方向の複数位置に基準パターンのトナー像を形成し、その濃度を検知し、得られた濃度情報に基づいて画像形成条件を制御する。 - 特許庁

The confidence reference level and the correlation output are compared to identify a peak in the received signal indicating that a present signal state of the received signal contains the known pattern.例文帳に追加

この信頼基準レベルおよび相関出力は、受信信号の現在の信号状態が既知のパターンを含むことを示す受信信号におけるピークを識別するために、比較される。 - 特許庁

A first design layer in the plural design layers is formed from a first plural layout elements from the pattern layout, and the first plural layout is parallel to the first reference axis.例文帳に追加

この複数の設計層の第１の設計層は上記パターンレイアウトからの第１の複数のレイアウトエレメントから構成され、第１の複数のレイアウトエレメントが第１の基準軸に平行である。 - 特許庁

The land is provided between the semiconductor component and the piezoelectric element, connected to the reference potential pattern, and formed by exposing the wiring part from a solder resist layer of the printed-wiring board.例文帳に追加

ランドは、半導体部品と圧電素子との間に設けられ、かつ、基準電位パターンと接続され、プリント配線基板のソルダーレジスト層から配線部を露出させることで形成される。 - 特許庁

A black reference line extended in a main scanning direction and a subscanning direction and a yellow, magenta or cyan line to be compared are printed as a pattern for measuring the positional deviation on paper.例文帳に追加

主走査方向および副走査方向へ延びるブラックの基準直線と、比較するイエロー、マゼンタまたはシアンの直線とを位置ずれ測定用パターンとして用紙に印刷する。 - 特許庁

The channel identifier adding circuit 2 of a transmitter 1 adds an intrinsic bit pattern in modulo 2 to the HEC byte part of the ATM cell header of a first channel signal to generate a reference channel signal.例文帳に追加

送信装置１のチャネル識別子付加回路２は第１のチャネル信号のＡＴＭセルヘッダのＨＥＣバイト部分に固有のビットパターンをモジュロ２加算し、基準チャネル信号を生成する。 - 特許庁

The original reading apparatus reads the width of the triangle pattern 9A through the scanning of an image sensor and sets a position of the image sensor at which the width reaches a prescribed value as the reference position of the original reading.例文帳に追加

イメージセンサの走査により三角パターン９Ａの幅を読み取り、この幅が所定値になったときのイメージセンサの位置を原稿読み取りの基準位置として設定する。 - 特許庁

After lighting the LED 2, the light emission pattern and emission luminance of the LED 2 are changed according to the difference of a sound detection signal from a sound sensor 3 from a reference value or the magnitude of the variation thereof.例文帳に追加

また、ＬＥＤ２の点灯後、音センサー３からの音検知信号の基準値との差または変化の大きさに応じてＬＥＤ２の発光パターンおよび発光強度が変化される。 - 特許庁

Prior to the inspection, a reference image data for stop figures of the pattern display device 23 previously captured by the imaging device 2 is registered related to a command for the generation of stop figures.例文帳に追加

検査の前に予め撮像装置２により撮像された図柄表示装置２３の停止図柄の基準画像データを、停止図柄生成用のコマンドと関連付けて登録する。 - 特許庁

The high voltage output value of the primary electrostatic charge bias in the formation of a reference batch pattern is changed in accordance with the integrated time by referencing the data on a dark attenuation rate table.例文帳に追加

暗減衰率テーブル上のデータを参照することで、この積算時間に基づいて基準パッチパターンの形成における一次帯電バイアスの高圧出力値が変更される。 - 特許庁

Further, equipotential numbers are added to the post-change layout pattern, and a verification target portion having the same equipotential number as the changed node is extracted with reference to the equipotential numbers.例文帳に追加

また、変更後のレイアウトパタンデータに対して等電位番号を付与して該等電位番号を参照して該変更ノードと同じ等電位番号を持つ検証対象箇所を抽出する。 - 特許庁

The through-holes 48 are arranged to be asymmetric up and down and right and left with a horizontal axis and a vertical axis passing through the center of the light shielding plate 47 as reference in their array pattern.例文帳に追加

通過孔４８は、それらの配列パターンが、遮光板４７の中心を通る水平軸及び垂直軸を基準として、上下左右が非対称となるように配置されている。 - 特許庁

The terminal 3 generates an image exhibiting a normal pattern of the substrate based on CAD data as a reference image for supporting an operation of identifying an area to be visually inspected.例文帳に追加

目視端末３では、目視を行うべき場所を特定する作業を支援するための参照用画像として、ＣＡＤデータに基づき基板の正常パターンを示す画像を生成する。 - 特許庁

The recognition collation processing part 14 collates the command signal Sh and a reference pattern signal and executes control based on the command signal Sh with the control equipment 20 when being collated.例文帳に追加

認識照合処理部１４は、コマンド信号Ｓｈと標準パターン信号とを照合し、照合した場合にはコマンド信号Ｓｈに基づく制御を制御機器２０に実行させる。 - 特許庁

A technology which segments the halftone formation bitmap into a plurality of image tiles, compares each image tile with a corresponding halftone-formed reference pattern, and identifies it as the one comprising a uniform region by which halftone is formed if it is compatible with the corresponding reference pattern and detects a region which is not uniform in the halftone formation bitmap.例文帳に追加

ハーフトーン形成ビットマップを複数のイメージフタイルに区分化すること、各イメージタイルを対応するハーフトーン形成された基準パターンと比較すること、及び、これが対応する基準パターンと適合する場合には、該イメージタイルをハーフトーン形成された一様な領域を含むものとして識別することを含む、ハーフトーン形成ビットマップにおいて一様でない領域を検出する技術。 - 特許庁

The layout pattern data correction system for correcting the layout patterns of circuits by using simulation has means (53, 54 and 55) for correcting the layout pattern data in case a difference in level produced by an OPC reaches a prescribed reference value or above, by redividing the edge of the object for correction by repeating the division until the above difference in level attains the reference value or less.例文帳に追加

シミュレーションを用いて、回路のレイアウトパターンを補正するレイアウトパターンデータ補正装置において、ＯＰＣにより発生する段差が、所定の段差の基準値以上となる場合に、段差が段差の基準値未満となるように繰り返し補正対象のエッジを再分割して、レイアウトパターンデータを補正する手段（５３、５４、５５）を有するレイアウトパターンデータ補正装置である。 - 特許庁