「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

Coil sensors 1 and 2 using a pot core arranged to face each side surface part of a coin carrier path 3 are arranged and the coin is discriminated by permitting a high frequency current to flow in the coil sensors and comparing the pattern of amplitude change when the coin 4 passes in front of the coil sensors with a reference pattern in a coin identifying device.例文帳に追加

硬貨搬送路３の側面部に対向して配置したポットコアを用いたコイルセンサ１，２と、該コイルセンサ１，２に高周波電流を流し、硬貨４がコイルセンサ１，２の前を通過した時の振幅変化のパターンを基準パターンと比較することにより硬貨の識別を行う。 - 特許庁

It is the presence of faults 16, 17 in an expanding or contracting direction to increase the distance between coordinates of respective boundary points of a boundary line 14 of the reference pattern image and of a boundary line 15 of the pattern image to be detected, and the fault is decided by detecting a predetermined threshold value of the maximum distance.例文帳に追加

基準パターン画像の境界線１４と対象パターン画像の境界線１５との各境界点座標間の距離が大きくなるのは、膨張方向または縮小方向の欠陥１６、１７があるためで、最大距離を所定の閾値で検出して欠陥を判定する。 - 特許庁

To provide an LIPS sensor for measuring an EUV (extreme ultra violet) projected from a mask pattern through an opening by a photo-diode to search a position relation between a mask and a wafer, and to prevent heat distortion from being generated even when EUV is absorbed by a slit for detecting lights from a reference pattern on the mask.例文帳に追加

マスクパターンから投影されたＥＵＶを、開口を通してフォトダイオードで測定し、マスクとウエハの位置関係を求めるというＬＩＰＳセンサーに関する発明で、マスク上の基準パターンからの光を検出するためのスリットがＥＵＶを吸収しても熱歪みを生じさせない様にする。 - 特許庁

To provide a visual inspection device and a visual inspection method capable of defect detection even in a domain other than a repeated pattern domain without generating a reference image, when detecting a defect appearing in the appearance of a substrate on whose surface an electric pattern is to be formed or has been formed.例文帳に追加

表面に電気的パターンが形成される、又は形成された基板の外観に現れる欠陥を検出する際に、基準画像を生成することなく、繰り返しパターン領域以外の領域においても欠陥検出が可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。 - 特許庁

The digital mobile phones 51-1 to 51-4 acquire the reference time information from the base stations 31-1 to 31-4, generate a synchronizing signal, and blink the light on the basis of 'blink pattern data' included in a blink pattern file received from the contents server 21 synchronously with the synchronizing signal.例文帳に追加

ディジタル携帯電話機５１乃至５１−４は、基地局３１乃至３１−４から基準時刻情報を取得し、同期信号を生成し、生成された同期信号に同期して、コンテンツサーバ２１から受信した点滅パターンファイルに含まれる「点滅パターンデータ」に基づいて発光部を点滅させる。 - 特許庁

On a substrate 30, a ground area 34 connected to a reference potential (GND) and power wiring 35 (VBATT pattern) electrically connected with the positive pole terminal 41a of a rechargeable battery 40 are formed by a prescribed pattern, and a noise reduction part 80 is formed.例文帳に追加

基板３０には、基準電位（ＧＮＤ）に接続されるグランド領域３４と、充電池４０の正極端子４１ａと電気的に接続される電源配線３５（ＶＢＡＴＴパターン）と、が所定のパターンにより形成されており、ノイズ低減部８０が形成されている。 - 特許庁

The second gate electrode 39 is formed by accumulating an electrode material on the first gate electrode 38 and polishing the electrode material with the cover pattern 47 as a stopper film, and patterned in highly accurate alignment with reference to the alignment mark 45 kept in an easy-to-observe condition by the cover pattern 47.例文帳に追加

第２ゲート電極３９は、第１ゲート電極３８等の上に電極材料を堆積し、カバーパターン４７等をストッパ膜として電極材料を研磨し、カバーパターン４７によって観察し易い状態に保たれたアライメントマーク４５を参照して高精度に位置合わせされてパターニングされる。 - 特許庁

In this case, a resynchronization lock signal generating circuit 5 checks whether the captured reception data are in error, and outputs a resynchronization lock signal to the pseudo-random pattern generating circuit 3, when it is in error and allows the circuit 3 to re-fetch the data and to generate a reference PN pattern.例文帳に追加

その際に、再同期引き込み信号発生回路５は、取り込んだ受信データが誤っていないかをチェックし、誤っている場合は、疑似ランダムパターン発生回路３に対して再同期引き込み信号を出力し、再度受信データを取り込んで基準のＰＮパターンを発生させる。 - 特許庁

The thermal printer converts monochromatic data of one bit per one dot received from a host computer into 8-bit data through bit rate conversion processing, develops a dot pattern on a memory, and compares a 9-dot matrix pattern including 8 dots surrounding each dot of outline with a plurality of reference dot patterns.例文帳に追加

サーマルプリンタは、ホストコンピュータから受信した1ドットあたり1ビットの白黒データをビットレート変換処理により8ビットデータに変換するとともにメモリ上にドットパターンを展開し、アウトラインの各ドットを中心としてその周囲8ドットを含む9ドットマトリックスパターンを複数の参照ドットパターンと比較する。 - 特許庁

An improved device for determining 3D coordinates of an object 1 has a projector 10 for projecting a pattern to the object 1, a camera 11 connected with the projector 10 for imaging the object 11, and a reference camera 16 connected with the projector 10 and the camera 11 for imaging one or more reference marks 6 and 24 in a field 25 of the reference mark 6.例文帳に追加

対象物１の３次元座標を決定するための改良された装置は、対象物１にパターンを投影するプロジェクタ１０と、上記プロジェクタ１０に結合され、対象物１を撮影するカメラ１１と、上記プロジェクタ１０、およびカメラ１１に結合され、リファレンスマーク６のフィールド２５の１つ以上のリファレンスマーク６，２４を撮影するリファレンスカメラ１６とを備える。 - 特許庁

In recognition operation, the reference template is rotated by an offset angle, to form a recognition execution template, a reference search area corresponding to the reference template is converted to a converted search area for recognition execution, and pattern matching of the recognition image with the search area for recognition execution is performed by raster scanning within the converted search area, whereby the position of the chip is recognized.例文帳に追加

認識動作においては基準テンプレートをオフセット角度だけ回転させて認識実行用のテンプレートを作成するとともに、基準テンプレートに対応した基準サーチエリアを認識実行用の変換後サーチエリアに変換し、変換後サーチエリア内でラスタ走査を行って認識画像と認識実行用のサーチエリアとのパターンマッチングを行い、チップの位置を認識する。 - 特許庁

Since one relative position is assigned uniquely to the identified reference pattern 16 of the group, the relative position of the first imaging device and the second imaging device is identified.例文帳に追加

グループの特定された参照パターン１６には１つの相対位置が一義的に割り当てられているので、第２の画像付け装置に対する第１の画像付け装置の相対位置を特定することができる。 - 特許庁

The reference wiring pattern has a first portion (2a), extending in a first direction and a second portion (2b), which is connected with the first portion and extends, in a second direction that is different from the first direction.例文帳に追加

ここで、前記基準配線パターンは、第１方向に延びる第１部分（２ａ）と、前記第１部分に接続し、前記第１方向と異なる第２方向に延びる第２部分（２ｂ）とを備えている。 - 特許庁

On the basis of the characteristic point of an arrow pattern included in the object frame and the characteristic points of arrow patterns included in the reference frames, a displacement vector when the arrow patterns are displaced are obtained (S3 and S5).例文帳に追加

対象フレームに含まれる矢印図柄の特徴点と、参照フレームに含まれる矢印図柄の特徴点とに基づいて、矢印図柄を変位させたときの変位ベクトルが取得される（Ｓ３、Ｓ５）。 - 特許庁

When the timing of executing processing for making the image density appropriate is obtained (S11: YES), the reference output of the density detection sensor is calibrated (S12), and a toner pattern formed on the intermediate transfer belt is detected by the density detection sensor (S15).例文帳に追加

画像濃度適正化処理の実行のタイミングになると（S11：YES）、濃度検出センサの基準出力を校正し（S12）、中間転写ベルト上に形成されたトナーパターンを濃度検出センサで検出する（S15）。 - 特許庁

Next, the insulating substrate 101 with the reference pattern 102 being formed thereon is conveyed into a treatment chamber of a well-known thermal CVD apparatus, heated to 850°C, and ethanol gas is fed thereto as raw material gas.例文帳に追加

次に、基準パタン１０２が形成された絶縁性基板１０１を、よく知られた熱ＣＶＤ装置の処理室内に搬入し、８５０℃に加熱し、原料ガスとしてエタノールガスを供給する。 - 特許庁

In such a manner, even in the case of adopting the transfer paper of the large peculiar size, the reference pattern can be formed on the image carrier whose peripheral length is short, therefore the miniaturization of the image forming device is contributed thereby.例文帳に追加

これにより、大きな特殊サイズの転写紙を用いる場合でも、周囲長の短い像担持体に基準パターンを作成することを可能にし、画像形成装置の小型化に寄与するようにする。 - 特許庁

Continuous pattern extracting means 105 extract a plurality of patterns of the same shape common to an image to be processed and a reference image and present in a regular array on the images of a form or the like.例文帳に追加

連続パターン抽出手段１０５は、処理対象画像と参照画像とに共通する帳票等の画像上に規則的な配置で存在する同一形状の複数のパターンを抽出する。 - 特許庁

The exposure of the camera 1 is controlled so that an average value of the luminance of each pixel included in a search area set with a range decided that the two-dimensional pattern is present as a reference reaches a prescribed value.例文帳に追加

２次元パターンが存在すると判定された範囲を基準として設定された探索領域に含まれる各画素の輝度の平均値が所定値となるようにカメラ１の露出を制御する。 - 特許庁

Then, the image processing apparatus 15 decomposes the color image into image data of brightness I, hue H, and chroma S for comparing with the reference pattern for each of H, S and I for each image for judgment.例文帳に追加

そして、画像処理装置１５がこのカラー画像をＨＳＩ変換で、明度Ｉ、色相Ｈ、彩度Ｓの画像データに分解し、この各画像に対してＨ、Ｓ、Ｉ毎の基準パターンと比較して判定する。 - 特許庁

For an image bit map after the exception processing 1, exception processing 2 for determining a pulse growing direction while overrides a pulse growing direction determined based upon a reference position in a half-tone pattern is performed.例文帳に追加

該例外処理１後の画像ビットマップに対して、ハーフトーンパターン内の参照位置に基づいて決定されるパルス成長方向を無視してパルス成長方向を決定する例外処理２を行う。 - 特許庁

A zero voltage is constituted with reference to the intermediate voltage phase of an input-phase voltage of an AC-AC direct conversion circuit, and a zero-phase switching pattern is determined by dividing an input spatial vector by 12.例文帳に追加

交流−交流直接変換回路の入力相電圧の中間電圧相を基準にして零電圧を構成し、入力空間ベクトルを１２分割して零相スイッチングパターンを決定する。 - 特許庁

When the count value of a probability variation counter matches with a probability variation end reference value when a special pattern game is started, an under-probability-variation flag is cleared to be in an off-state, and an under-time-shortening flag is in an on-state.例文帳に追加

特図ゲームが開始されるときに、確変カウンタのカウント値が確変終了基準値と合致すると、確変中フラグがクリアされてオフ状態になるとともに、時短中フラグがオン状態となる。 - 特許庁

Further, when trailing phenomenon prevention operation is performed on the binarized image data, the patterns to be used for pattern matching are changed and selected according to whether the subscan direction line shifting point lies within the reference window.例文帳に追加

また、二値化された画像データに対して、尾引き現象抑制処理を行う際に、副走査方向のラインの切り替えが、参照ウィンドウ内にあるか否かでパターンマッチング用のパターンを切り替えて選択する。 - 特許庁

A luminance degradation correction pattern production unit 230 calculates a luminance degradation value from the luminance degradation information produced by the luminance degradation information integration unit 220, and the luminance characteristics of the pixel circuit being a reference.例文帳に追加

輝度劣化補正パターン生成部２３０は、輝度劣化情報積算部２２０により生成された輝度劣化情報と、基準となる画素回路の輝度特性とから輝度劣化値を算出する。 - 特許庁

Next, a mora representative value is calculated for each mora of the F0 variation pattern, and a mora variation amount which is a variation amount of a mora representative value adjoining thereafter, with reference to the mora representative value, is respectively calculated.例文帳に追加

次に、Ｆ０変化パターンのモーラ毎にモーラ代表値を求め、このモーラ代表値を基準とした後方に隣接するモーラのモーラ代表値との変化量であるモーラ変化量をそれぞれ算出する。 - 特許庁

The abradable coating forms a pattern formed by strip-like constituent elements 5, and the constituent elements are located along the directions of the ribs on connection lines 45 connecting between bending points 41, 42 of a reference grid 40.例文帳に追加

アブレイダブル被膜はストリップ状の構成要素５で構成されたパターンを形成し、基準格子４０における屈曲位置４１，４２の間を結ぶ線４５上をリブ方向に沿って位置する。 - 特許庁

The segmented area SA is composed of a cell as a base and has information of the cell and information of a reference area including a partial design pattern of other cells adjacent to the periphery of the cell.例文帳に追加

この分割領域ＳＡは、セルを基本として構成されており、セルの情報と、そのセルの周辺に隣接する他のセルの一部の設計パターンを含む参照領域の情報とを有している。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a wafer, that can easily align the OF part of a thin-plate semiconductor wafer and the display reference point of a photo mask, and can bake a highly accurate photoresist pattern.例文帳に追加

薄板状半導体ウエハのＯＦ部とフォトマスクの表示基準点との位置合わせ作業が容易にでき、それにより高精密なフォトレジストパターンを焼付けできるウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

Plural binary data reproduced in parallel from a magnetic tape are sequentially determined as one of plural mark patterns by a mark detecting means 204 and a mark pattern whose reproducing time reaches a reference time is established.例文帳に追加

磁気テープからパラレル再生される複数の二値データをマーク検出手段２０４が複数のマークパターンの一つとして順次判定し、その再生時間が基準時間に到達したマークパターンを確定する。 - 特許庁

A pixel-by-pixel comparison is then made of the image with the document, such that the reference pixel is compared only with the locations in the document that are both within the identified areas and have the determined offset from the pattern.例文帳に追加

次に、画像と文書とのピクセル単位の比較が行われ、識別された領域内にあり、かつパターンから特定された偏移を有する文書内の場所と、参照ピクセルを比較する。 - 特許庁

An image composition circuit 53 combines a mask image 57 for a test having a prescribed reference pattern 65 with the endoscope image 30a including a test chart image 35a to generate a mask composite image 67 for the test.例文帳に追加

画像合成回路５３は、テストチャート画像３５ａを含む内視鏡画像３０ａに所定の基準パターン６５を有するテスト用マスク画像５７を合成し、テスト用マスク合成画像６７を生成する。 - 特許庁

A parametric generator 130 fetches description information from the text definition file and arranges on the basis of this reference information a segment description code describing the segment of the specific test pattern, in memory 132.例文帳に追加

パラメトリック発生器１３０は、テキスト定義ファイルから記述情報を取り出し、この基準情報に基づいて、特定テスト・パターンのセグメントを記述するセグメント記述コードをメモリ１３２に配置する。 - 特許庁

When the determination result of the light reception waveform determination part 21 is a consecutive outgoing pattern, the reference coordinate data whose shape is round and whose size is "large" is copied to the coordinate data of the instruction pointer data PointInf.例文帳に追加

受光波形判定部２１の判定結果が連続状の出射パターンであると、形状が丸、大きさが「大きい」の基準座標データを、指示ポインタデータＰｏｉｎｔＩｎｆの座標データにコピーする。 - 特許庁

To provide an indirect transfer type image forming apparatus capable of appropriately adjusting an imaging condition for a photoreceptor and an imaging condition for a transfer belt, respectively, based on one reference toner pattern.例文帳に追加

一つの基準トナーパターンに基づいて、感光体に対する作像条件と転写ベルトに対する作像条件の夫々を適切に調整できる間接転写方式の画像形成装置を提供する。 - 特許庁

When a decision is made that an all over on switching element is switched from an underside switching element to an upper side switching element, its output voltage pattern alteration timing is set to minimize a triangle reference wave.例文帳に追加

べたオンとなるスイッチング素子が下側のスイッチング素子から上側のスイッチング素子に切り替ると判断すると、その出力電圧パターンの変更タイミングを、三角基準波が最小になるタイミングにする。 - 特許庁

The toner pattern 50A for detecting color shift in the main scanning direction Y includes a reference line 51 extending in the main scanning direction Y and first and second slant lines 52, 53 having a prescribed angle θ.例文帳に追加

主走査方向Ｙの色ずれ検出用トナーパターン５０Ａは、主走査方向Ｙに延在する基準線５１と、所定の角度θを有する第１及び第２斜線５２，５３を備えている。 - 特許庁

A reference image generation part 3 finds an edge border condition and detects the edge position through convolutional operation between an optical point spread function corresponding to the intensity of the laser beam and the image of a measured pattern.例文帳に追加

参照画像生成部３は、レーザービームの強度に相当する光学的点拡がり関数と被測定パターンの画像との畳み込み演算により、エッジ境界条件を求め、エッジ位置を検出する。 - 特許庁

To provide a mobile body system for detecting a position shift of a mobile body without pattern matching, a panel as a reference for detecting a position of the mobile body, and a mobile body position correction method.例文帳に追加

パターンマッチングの処理を行わずに移動体の位置ずれを検知する移動体システム、及び移動体の位置を検知する基準となるパネル、並びに移動体の位置補正方法を提供する。 - 特許庁

On the other hand, in the case of performing the setup operation, that is, in the case of forming a toner pattern for adjustment, each color toner image is formed not depending on the detection result by the reference mark sensor 517 in the image forming apparatus.例文帳に追加

一方、セットアップ動作を行うとき、すなわち調整用トナーパターンを形成するときには、画像形成装置は基準マークセンサ５１７の検知結果によらずに各色のトナー像を形成する。 - 特許庁

Then, a guide display control part 11 superposes and displays a guide pattern template as an auxiliary line on an electronic finder display screen in order to make it reference for determination of the structural outline and the framing and the like.例文帳に追加

この際、ガイド表示制御部１１は、予め準備された補助線としてのガイドパターンテンプレートを、構図およびフレーミング等の決定に参考とすべく、電子ファインダ表示画面に重畳表示させる。 - 特許庁

Subsequently, the second reference light is applied to the optical information recording medium to reproduce the data pattern, and 2-dimensional EQ processing is carried out by using the tap coefficient stored as a learning value (S4 and S5).例文帳に追加

続いて、第２の参照光を光情報記録媒体に照射してデータパターンを再生し、学習値として記憶しておいたタップ係数を利用して２次元ＥＱ処理を行う（Ｓ４，Ｓ５）。 - 特許庁

Reading is started (step 10), the line sensor is moved as shown by an arrow Y (step 108) to make a first scan (step 110), and a read signal of a test pattern is analyzed to set reference (step 112).例文帳に追加

読み取りを開始し（ステップ１００）、ラインセンサを矢印Ｙ方向に移動し（ステップ１０８）、第１のスキャンを行い（ステップ１１０）、テストパターンの読取信号を解析し、基準を設定する（ステップ１１２）。 - 特許庁

For a pattern in which magnetization inversion is continued three times, in the first magnetization inversion, the write-in pulse is generated with the same timing as the reference clock, in the second, it is generated lagging by the WPC1, in the third, it is generated lagging by a WPC2.例文帳に追加

磁化反転が3回連続するパターンに対しては、1回目の磁化反転は基準クロックと同じタイミングで、2回目はWPC1だけ遅らせ、3回目はWPC2だけ遅れたタイミングで書込みパルスを生成する。 - 特許庁

A bulk wafer which has microroughness of an irregular rugged pattern formed on a surface with high precision and has roughness of the surface roughness guaranteed is used as a reference wafer to calibrate the dark field inspection system.例文帳に追加

表面に不規則な凹凸パターンのマイクロラフネスが精度よく形成され、その表面のマイクロラフネスの粗さが保証されたバルクウエハを基準ウエハとして暗視野検査装置の校正を行う。 - 特許庁