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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > reference patternに関連した英語例文

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reference patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1662件



例文

It is the presence of faults 16, 17 in an expanding or contracting direction to increase the distance between coordinates of respective boundary points of a boundary line 14 of the reference pattern image and of a boundary line 15 of the pattern image to be detected, and the fault is decided by detecting a predetermined threshold value of the maximum distance.例文帳に追加

基準パターン画像の境界線14と対象パターン画像の境界線15との各境界点座標間の距離が大きくなるのは、膨張方向または縮小方向の欠陥16、17があるためで、最大距離を所定の閾値で検出して欠陥を判定する。 - 特許庁

The digital mobile phones 51-1 to 51-4 acquire the reference time information from the base stations 31-1 to 31-4, generate a synchronizing signal, and blink the light on the basis of 'blink pattern data' included in a blink pattern file received from the contents server 21 synchronously with the synchronizing signal.例文帳に追加

ディジタル携帯電話機51乃至51−4は、基地局31乃至31−4から基準時刻情報を取得し、同期信号を生成し、生成された同期信号に同期して、コンテンツサーバ21から受信した点滅パターンファイルに含まれる「点滅パターンデータ」に基づいて発光部を点滅させる。 - 特許庁

To provide an LIPS sensor for measuring an EUV (extreme ultra violet) projected from a mask pattern through an opening by a photo-diode to search a position relation between a mask and a wafer, and to prevent heat distortion from being generated even when EUV is absorbed by a slit for detecting lights from a reference pattern on the mask.例文帳に追加

マスクパターンから投影されたEUVを、開口を通してフォトダイオードで測定し、マスクとウエハの位置関係を求めるというLIPSセンサーに関する発明で、マスク上の基準パターンからの光を検出するためのスリットがEUVを吸収しても熱歪みを生じさせない様にする。 - 特許庁

In this paper transport amount measuring method in a printer, while a paper sheet on which a measurement pattern is printed by designated print pitch is fed in a inspection object printer 100, the measurement pattern is measured, and the obtained measurement value is corrected by reference measurement data to measure the paper feed amount.例文帳に追加

プリンタにおける紙搬送量の測定方法において、所定の印字ピッチで測定パターンが印刷された用紙を検査対象プリンタ100で紙送りしながら、その測定パターンを測定し、得られた測定値を基準測定データで補正することによって紙送り量を測定する。 - 特許庁

例文

When 'walk 1' is designated on a registration picture and an owner inputs start by a key input part 13 while walking, a moving acceleration is detected by an acceleration sensor part 1 just for previously designated time, and the reference action pattern of 'walk 1' is stored in a pattern storage part 3.例文帳に追加

登録画面で「歩く1」を指定し、所有者が歩きながらキー入力部13によりスタートを入力すると、予め指定された時間だけ加速度センサ部1は運動加速度を検出し、「歩く1」の基準行動パターンがパターン格納部3に格納されることとなる。 - 特許庁


例文

Coil sensors 1 and 2 using a pot core arranged to face each side surface part of a coin carrier path 3 are arranged and the coin is discriminated by permitting a high frequency current to flow in the coil sensors and comparing the pattern of amplitude change when the coin 4 passes in front of the coil sensors with a reference pattern in a coin identifying device.例文帳に追加

硬貨搬送路3の側面部に対向して配置したポットコアを用いたコイルセンサ1,2と、該コイルセンサ1,2に高周波電流を流し、硬貨4がコイルセンサ1,2の前を通過した時の振幅変化のパターンを基準パターンと比較することにより硬貨の識別を行う。 - 特許庁

In order to provide a semiconductor device on which a desired position can be located easily and a method for searching for a predetermined position on the semiconductor device, the semiconductor device is configured using indication lines or an indication pattern together with a dummy pattern or a reference plane.例文帳に追加

本発明の目的は、所望の位置を容易に探せる半導体素子とその半導体素子上の所定位置を探す方法とを提供するものであって、これを達成するために半導体素子に表示線または表示用パターンをダミーパターンまたはレファレンスプレーンと共に構成する。 - 特許庁

To enable high-speed, stable, and accurate inspection of circuit pattern having insulating materials in a method for inspection by detecting a defect, contamination, residue, or the like appearing on the circuit pattern of a semiconductor-device wafer, by radiating an electron beam onto the wafer and comparing the secondary electron image with a reference image.例文帳に追加

半導体装置等基板上で発生した回路パターンの欠陥、異物、残渣等を電子線をウエハに入射して二次電子像を比較することにより検査する方法において、絶縁材料を有する回路パターンを高速に且つ安定して高精度に検査可能とする。 - 特許庁

A luminance pattern by reflected light or transmitted light for every angle on a preset slice level of the atypical industrial products are pregathered by a reference sample, and is registered in a computer, and is matched in a pattern with luminance data obtained from the atypical industrial products on the production line.例文帳に追加

予め基準サンプルによって、異形製品の予め設定したスライスレベル上の各角度ごとの反射光又は透過光による輝度パターンを収集してコンピュータに登録、生産ライン上の異形工業製品から得られる輝度データとのパターンマッチングを行う。 - 特許庁

例文

At final stop, when variation time required is not an integer value, by adding a swinging display pattern in a reference position to the fractional period, and a swinging stop period shorter than the swinging display pattern, the variation period is made an integer value.例文帳に追加

この最終停止時に、要した変動時間が整数値でない場合に、その端数時間に基準位置で停止する揺動表示形態を追加揺動させると共に該追加した揺動表示形態より短い揺動静止時間を追加させ、前記変動時間を整数値にした。 - 特許庁

例文

On a substrate 30, a ground area 34 connected to a reference potential (GND) and power wiring 35 (VBATT pattern) electrically connected with the positive pole terminal 41a of a rechargeable battery 40 are formed by a prescribed pattern, and a noise reduction part 80 is formed.例文帳に追加

基板30には、基準電位(GND)に接続されるグランド領域34と、充電池40の正極端子41aと電気的に接続される電源配線35(VBATTパターン)と、が所定のパターンにより形成されており、ノイズ低減部80が形成されている。 - 特許庁

The second gate electrode 39 is formed by accumulating an electrode material on the first gate electrode 38 and polishing the electrode material with the cover pattern 47 as a stopper film, and patterned in highly accurate alignment with reference to the alignment mark 45 kept in an easy-to-observe condition by the cover pattern 47.例文帳に追加

第2ゲート電極39は、第1ゲート電極38等の上に電極材料を堆積し、カバーパターン47等をストッパ膜として電極材料を研磨し、カバーパターン47によって観察し易い状態に保たれたアライメントマーク45を参照して高精度に位置合わせされてパターニングされる。 - 特許庁

In this case, a resynchronization lock signal generating circuit 5 checks whether the captured reception data are in error, and outputs a resynchronization lock signal to the pseudo-random pattern generating circuit 3, when it is in error and allows the circuit 3 to re-fetch the data and to generate a reference PN pattern.例文帳に追加

その際に、再同期引き込み信号発生回路5は、取り込んだ受信データが誤っていないかをチェックし、誤っている場合は、疑似ランダムパターン発生回路3に対して再同期引き込み信号を出力し、再度受信データを取り込んで基準のPNパターンを発生させる。 - 特許庁

The thermal printer converts monochromatic data of one bit per one dot received from a host computer into 8-bit data through bit rate conversion processing, develops a dot pattern on a memory, and compares a 9-dot matrix pattern including 8 dots surrounding each dot of outline with a plurality of reference dot patterns.例文帳に追加

サーマルプリンタは、ホストコンピュータから受信した1ドットあたり1ビットの白黒データをビットレート変換処理により8ビットデータに変換するとともにメモリ上にドットパターンを展開し、アウトラインの各ドットを中心としてその周囲8ドットを含む9ドットマトリックスパターンを複数の参照ドットパターンと比較する。 - 特許庁

In recognition operation, the reference template is rotated by an offset angle, to form a recognition execution template, a reference search area corresponding to the reference template is converted to a converted search area for recognition execution, and pattern matching of the recognition image with the search area for recognition execution is performed by raster scanning within the converted search area, whereby the position of the chip is recognized.例文帳に追加

認識動作においては基準テンプレートをオフセット角度だけ回転させて認識実行用のテンプレートを作成するとともに、基準テンプレートに対応した基準サーチエリアを認識実行用の変換後サーチエリアに変換し、変換後サーチエリア内でラスタ走査を行って認識画像と認識実行用のサーチエリアとのパターンマッチングを行い、チップの位置を認識する。 - 特許庁

An improved device for determining 3D coordinates of an object 1 has a projector 10 for projecting a pattern to the object 1, a camera 11 connected with the projector 10 for imaging the object 11, and a reference camera 16 connected with the projector 10 and the camera 11 for imaging one or more reference marks 6 and 24 in a field 25 of the reference mark 6.例文帳に追加

対象物1の3次元座標を決定するための改良された装置は、対象物1にパターンを投影するプロジェクタ10と、上記プロジェクタ10に結合され、対象物1を撮影するカメラ11と、上記プロジェクタ10、およびカメラ11に結合され、リファレンスマーク6のフィールド25の1つ以上のリファレンスマーク6,24を撮影するリファレンスカメラ16とを備える。 - 特許庁

To provide a mobile body system for detecting a position shift of a mobile body without pattern matching, a panel as a reference for detecting a position of the mobile body, and a mobile body position correction method.例文帳に追加

パターンマッチングの処理を行わずに移動体の位置ずれを検知する移動体システム、及び移動体の位置を検知する基準となるパネル、並びに移動体の位置補正方法を提供する。 - 特許庁

Subsequently, the second reference light is applied to the optical information recording medium to reproduce the data pattern, and 2-dimensional EQ processing is carried out by using the tap coefficient stored as a learning value (S4 and S5).例文帳に追加

続いて、第2の参照光を光情報記録媒体に照射してデータパターンを再生し、学習値として記憶しておいたタップ係数を利用して2次元EQ処理を行う(S4,S5)。 - 特許庁

The reference wiring pattern has a first portion (2a), extending in a first direction and a second portion (2b), which is connected with the first portion and extends, in a second direction that is different from the first direction.例文帳に追加

ここで、前記基準配線パターンは、第1方向に延びる第1部分(2a)と、前記第1部分に接続し、前記第1方向と異なる第2方向に延びる第2部分(2b)とを備えている。 - 特許庁

On the other hand, in the case of performing the setup operation, that is, in the case of forming a toner pattern for adjustment, each color toner image is formed not depending on the detection result by the reference mark sensor 517 in the image forming apparatus.例文帳に追加

一方、セットアップ動作を行うとき、すなわち調整用トナーパターンを形成するときには、画像形成装置は基準マークセンサ517の検知結果によらずに各色のトナー像を形成する。 - 特許庁

Then, a guide display control part 11 superposes and displays a guide pattern template as an auxiliary line on an electronic finder display screen in order to make it reference for determination of the structural outline and the framing and the like.例文帳に追加

この際、ガイド表示制御部11は、予め準備された補助線としてのガイドパターンテンプレートを、構図およびフレーミング等の決定に参考とすべく、電子ファインダ表示画面に重畳表示させる。 - 特許庁

Next, the insulating substrate 101 with the reference pattern 102 being formed thereon is conveyed into a treatment chamber of a well-known thermal CVD apparatus, heated to 850°C, and ethanol gas is fed thereto as raw material gas.例文帳に追加

次に、基準パタン102が形成された絶縁性基板101を、よく知られた熱CVD装置の処理室内に搬入し、850℃に加熱し、原料ガスとしてエタノールガスを供給する。 - 特許庁

In such a manner, even in the case of adopting the transfer paper of the large peculiar size, the reference pattern can be formed on the image carrier whose peripheral length is short, therefore the miniaturization of the image forming device is contributed thereby.例文帳に追加

これにより、大きな特殊サイズの転写紙を用いる場合でも、周囲長の短い像担持体に基準パターンを作成することを可能にし、画像形成装置の小型化に寄与するようにする。 - 特許庁

When the timing of executing processing for making the image density appropriate is obtained (S11: YES), the reference output of the density detection sensor is calibrated (S12), and a toner pattern formed on the intermediate transfer belt is detected by the density detection sensor (S15).例文帳に追加

画像濃度適正化処理の実行のタイミングになると(S11:YES)、濃度検出センサの基準出力を校正し(S12)、中間転写ベルト上に形成されたトナーパターンを濃度検出センサで検出する(S15)。 - 特許庁

Continuous pattern extracting means 105 extract a plurality of patterns of the same shape common to an image to be processed and a reference image and present in a regular array on the images of a form or the like.例文帳に追加

連続パターン抽出手段105は、処理対象画像と参照画像とに共通する帳票等の画像上に規則的な配置で存在する同一形状の複数のパターンを抽出する。 - 特許庁

The exposure of the camera 1 is controlled so that an average value of the luminance of each pixel included in a search area set with a range decided that the two-dimensional pattern is present as a reference reaches a prescribed value.例文帳に追加

2次元パターンが存在すると判定された範囲を基準として設定された探索領域に含まれる各画素の輝度の平均値が所定値となるようにカメラ1の露出を制御する。 - 特許庁

A luminance degradation correction pattern production unit 230 calculates a luminance degradation value from the luminance degradation information produced by the luminance degradation information integration unit 220, and the luminance characteristics of the pixel circuit being a reference.例文帳に追加

輝度劣化補正パターン生成部230は、輝度劣化情報積算部220により生成された輝度劣化情報と、基準となる画素回路の輝度特性とから輝度劣化値を算出する。 - 特許庁

Next, a mora representative value is calculated for each mora of the F0 variation pattern, and a mora variation amount which is a variation amount of a mora representative value adjoining thereafter, with reference to the mora representative value, is respectively calculated.例文帳に追加

次に、F0変化パターンのモーラ毎にモーラ代表値を求め、このモーラ代表値を基準とした後方に隣接するモーラのモーラ代表値との変化量であるモーラ変化量をそれぞれ算出する。 - 特許庁

The abradable coating forms a pattern formed by strip-like constituent elements 5, and the constituent elements are located along the directions of the ribs on connection lines 45 connecting between bending points 41, 42 of a reference grid 40.例文帳に追加

アブレイダブル被膜はストリップ状の構成要素5で構成されたパターンを形成し、基準格子40における屈曲位置41,42の間を結ぶ線45上をリブ方向に沿って位置する。 - 特許庁

The segmented area SA is composed of a cell as a base and has information of the cell and information of a reference area including a partial design pattern of other cells adjacent to the periphery of the cell.例文帳に追加

この分割領域SAは、セルを基本として構成されており、セルの情報と、そのセルの周辺に隣接する他のセルの一部の設計パターンを含む参照領域の情報とを有している。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a wafer, that can easily align the OF part of a thin-plate semiconductor wafer and the display reference point of a photo mask, and can bake a highly accurate photoresist pattern.例文帳に追加

薄板状半導体ウエハのOF部とフォトマスクの表示基準点との位置合わせ作業が容易にでき、それにより高精密なフォトレジストパターンを焼付けできるウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

A zero voltage is constituted with reference to the intermediate voltage phase of an input-phase voltage of an AC-AC direct conversion circuit, and a zero-phase switching pattern is determined by dividing an input spatial vector by 12.例文帳に追加

交流−交流直接変換回路の入力相電圧の中間電圧相を基準にして零電圧を構成し、入力空間ベクトルを12分割して零相スイッチングパターンを決定する。 - 特許庁

For an image bit map after the exception processing 1, exception processing 2 for determining a pulse growing direction while overrides a pulse growing direction determined based upon a reference position in a half-tone pattern is performed.例文帳に追加

該例外処理1後の画像ビットマップに対して、ハーフトーンパターン内の参照位置に基づいて決定されるパルス成長方向を無視してパルス成長方向を決定する例外処理2を行う。 - 特許庁

Further, when trailing phenomenon prevention operation is performed on the binarized image data, the patterns to be used for pattern matching are changed and selected according to whether the subscan direction line shifting point lies within the reference window.例文帳に追加

また、二値化された画像データに対して、尾引き現象抑制処理を行う際に、副走査方向のラインの切り替えが、参照ウィンドウ内にあるか否かでパターンマッチング用のパターンを切り替えて選択する。 - 特許庁

Then, the image processing apparatus 15 decomposes the color image into image data of brightness I, hue H, and chroma S for comparing with the reference pattern for each of H, S and I for each image for judgment.例文帳に追加

そして、画像処理装置15がこのカラー画像をHSI変換で、明度I、色相H、彩度Sの画像データに分解し、この各画像に対してH、S、I毎の基準パターンと比較して判定する。 - 特許庁

A pixel-by-pixel comparison is then made of the image with the document, such that the reference pixel is compared only with the locations in the document that are both within the identified areas and have the determined offset from the pattern.例文帳に追加

次に、画像と文書とのピクセル単位の比較が行われ、識別された領域内にあり、かつパターンから特定された偏移を有する文書内の場所と、参照ピクセルを比較する。 - 特許庁

Plural binary data reproduced in parallel from a magnetic tape are sequentially determined as one of plural mark patterns by a mark detecting means 204 and a mark pattern whose reproducing time reaches a reference time is established.例文帳に追加

磁気テープからパラレル再生される複数の二値データをマーク検出手段204が複数のマークパターンの一つとして順次判定し、その再生時間が基準時間に到達したマークパターンを確定する。 - 特許庁

To provide an indirect transfer type image forming apparatus capable of appropriately adjusting an imaging condition for a photoreceptor and an imaging condition for a transfer belt, respectively, based on one reference toner pattern.例文帳に追加

一つの基準トナーパターンに基づいて、感光体に対する作像条件と転写ベルトに対する作像条件の夫々を適切に調整できる間接転写方式の画像形成装置を提供する。 - 特許庁

An image composition circuit 53 combines a mask image 57 for a test having a prescribed reference pattern 65 with the endoscope image 30a including a test chart image 35a to generate a mask composite image 67 for the test.例文帳に追加

画像合成回路53は、テストチャート画像35aを含む内視鏡画像30aに所定の基準パターン65を有するテスト用マスク画像57を合成し、テスト用マスク合成画像67を生成する。 - 特許庁

When a decision is made that an all over on switching element is switched from an underside switching element to an upper side switching element, its output voltage pattern alteration timing is set to minimize a triangle reference wave.例文帳に追加

べたオンとなるスイッチング素子が下側のスイッチング素子から上側のスイッチング素子に切り替ると判断すると、その出力電圧パターンの変更タイミングを、三角基準波が最小になるタイミングにする。 - 特許庁

A parametric generator 130 fetches description information from the text definition file and arranges on the basis of this reference information a segment description code describing the segment of the specific test pattern, in memory 132.例文帳に追加

パラメトリック発生器130は、テキスト定義ファイルから記述情報を取り出し、この基準情報に基づいて、特定テスト・パターンのセグメントを記述するセグメント記述コードをメモリ132に配置する。 - 特許庁

When the determination result of the light reception waveform determination part 21 is a consecutive outgoing pattern, the reference coordinate data whose shape is round and whose size is "large" is copied to the coordinate data of the instruction pointer data PointInf.例文帳に追加

受光波形判定部21の判定結果が連続状の出射パターンであると、形状が丸、大きさが「大きい」の基準座標データを、指示ポインタデータPointInfの座標データにコピーする。 - 特許庁

The toner pattern 50A for detecting color shift in the main scanning direction Y includes a reference line 51 extending in the main scanning direction Y and first and second slant lines 52, 53 having a prescribed angle θ.例文帳に追加

主走査方向Yの色ずれ検出用トナーパターン50Aは、主走査方向Yに延在する基準線51と、所定の角度θを有する第1及び第2斜線52,53を備えている。 - 特許庁

When a decision is made that the all over on switching element is switched from an upper side switching element to an underside switching element, its output voltage pattern alteration timing is set to maximize a triangle reference wave.例文帳に追加

べたオンとなるスイッチング素子が上側のスイッチング素子から下側のスイッチング素子に切り替ると判断すると、その出力電圧パターンの変更タイミングを、三角基準波が最大になるタイミングにする。 - 特許庁

To improve workability by facilitating setting of a stand-by film without requiring complicated work of measuring and cutting it to a registration mark C for reference even in a case where it requires pattern matching.例文帳に追加

模様合わせを必要とするフィルムであっても、レジマークCを基準としてフィルムを測長し切断する煩雑な作業を必要とせず、待機用フィルムのセッティングを容易化して作業性の向上を図る。 - 特許庁

A plurality of normalization images are captured, by using a reference plate at a plurality of different defocus positions, and proper normalization is subtracted from a measuring spectrum of the target pattern, thereby compensating defocus errors.例文帳に追加

複数の異なるデフォーカス位置で基準板を使用して複数の正規化用の像を取り込み、さらにターゲットパターンの測定スペクトルから適切な正規化を引くことによって、デフォーカスエラーは補償される。 - 特許庁

A reference image generation part 3 finds an edge border condition and detects the edge position through convolutional operation between an optical point spread function corresponding to the intensity of the laser beam and the image of a measured pattern.例文帳に追加

参照画像生成部3は、レーザービームの強度に相当する光学的点拡がり関数と被測定パターンの画像との畳み込み演算により、エッジ境界条件を求め、エッジ位置を検出する。 - 特許庁

On the basis of the characteristic point of an arrow pattern included in the object frame and the characteristic points of arrow patterns included in the reference frames, a displacement vector when the arrow patterns are displaced are obtained (S3 and S5).例文帳に追加

対象フレームに含まれる矢印図柄の特徴点と、参照フレームに含まれる矢印図柄の特徴点とに基づいて、矢印図柄を変位させたときの変位ベクトルが取得される(S3、S5)。 - 特許庁

Further, evaluation reference for adaptability to the standard of undecoded data is set and compared with the adaptability of undecoded data read in from the optical pattern reading and decoding machine to output a comparison result.例文帳に追加

さらに未解読データの規格に対する適合度合の評価基準を設定し、光学パターン読取解読機から取り込んだ未解読データの適合度合と比較して比較結果を出力する。 - 特許庁

例文

A runout quantity detector 40 mounted to the tool headstock 10 detects the reference pattern of a runout quantity when the turning tool 30 is normally clamped and rotated at low speed, and stores it in a control unit.例文帳に追加

工具主軸台10に取付けた振れ量検出装置40は、旋削工具30が正常にクランプされて、低速回転するときの振れ量の基準パターンを検出し、制御装置に記憶する。 - 特許庁




  
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