「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

The maximum values are corrected based on the ratio calculated by the ratio computing unit 15, and compared with the pattern of the maximum values of the time series signals in each frequency zone of each content residual quantity level set up beforehand and with the pattern of a vibration reference value by a comparator 10, to thereby detect the content residual quantity.例文帳に追加

その最大値を比率演算器１５にて算出した比率を基に補正し、比較器１０において予め設定した内容物残量レベル毎の周波数帯域毎の時系列信号の最大値のパターンと振動基準値のパターンと比較して内容物残量を検出する。 - 特許庁

The inspection areas 16a-16i are partitioned into a plurality of vertical and lateral visual field areas, and reference pattern portions 17a-17i different each other including respective edge shapes a difference by a difference of the edge shapes of the inspection areas 16a-16i included in the respective partitioned visual field areas are used as the master pattern 17.例文帳に追加

検査領域１６ａ〜１６ｉを縦横の複数の視野領域に区画し、マスタパターン１７として、区画された各視野領域に含まれる検査領域１６ａ〜１６ｉの縁形状の違い毎で各縁形状を含む相互に異なる基準パターン部分１７ａ〜１７ｉを用いる。 - 特許庁

An alignment mark 13 as a positional reference for trimming is provided in a resistive body 11, having a resistive pattern which can be trimmed, and an alignment mark 14 serving both as a laser passing confirming mark which does not affect the electrical characteristics is provided in a margin near parts 12a, 12b which can trim the resistive pattern, respectively.例文帳に追加

トリミング可能な抵抗パターンを有する抵抗体１１にそれぞれトリミングするための位置基準となるアライメントマーク１３および、抵抗パターンのトリミング可能な部分１２ａ、１２ｂの近傍余白に、電気特性上影響のないレーザー通過確認マークを兼ねるアライメントマーク１４を設ける。 - 特許庁

This surface shape measuring instrument of the present invention is provided with the imaging element, an optical system, having a reference face and arranged to form an interference fringe pattern on an imaging face of the imaging element, and a calculation part for calculating a surface shape of a measuring object, based on the interference fringe pattern.例文帳に追加

本発明の表面形状測定装置は、撮像素子と、参照面を有し、干渉縞パターンを撮像素子の撮像面に形成するように配置された光学系と、干渉縞パターンに基づいて前記測定対象物の表面形状を算出する算出部と、を備える。 - 特許庁

Using vector quantization technology, the image is transposed with either of a plurality of different pixel patterns for each of the blocks consisting of the number of predetermined pixels, and the index image expressed by an index value of each of the pixel patterns is decoded with reference to a code book in which the pixel pattern and the index value of the pixel pattern are associated.例文帳に追加

ベクトル量子化技術を利用し、画像を所定画素数からなるブロック毎に複数の異なる画素パターンのいずれかに置き換え、各画素パターンのインデックス値で表わしたインデックス画像を、画素パターン及び画素パターンのインデックス値が対応付けられているコードブックを参照して復号する。 - 特許庁

On a substrate 30, a ground area 34 connected to a reference potential (GND) and power wiring 35 (VBATT pattern) electrically connected with the positive pole terminal 41a of a rechargeable battery 40 are formed by a prescribed pattern, and a noise reduction part 80 is formed.例文帳に追加

基板３０には、基準電位（ＧＮＤ）に接続されるグランド領域３４と、充電池４０の正極端子４１ａと電気的に接続される電源配線３５（ＶＢＡＴＴパターン）と、が所定のパターンにより形成されており、ノイズ低減部８０が形成されている。 - 特許庁

The second gate electrode 39 is formed by accumulating an electrode material on the first gate electrode 38 and polishing the electrode material with the cover pattern 47 as a stopper film, and patterned in highly accurate alignment with reference to the alignment mark 45 kept in an easy-to-observe condition by the cover pattern 47.例文帳に追加

第２ゲート電極３９は、第１ゲート電極３８等の上に電極材料を堆積し、カバーパターン４７等をストッパ膜として電極材料を研磨し、カバーパターン４７によって観察し易い状態に保たれたアライメントマーク４５を参照して高精度に位置合わせされてパターニングされる。 - 特許庁

In this case, a resynchronization lock signal generating circuit 5 checks whether the captured reception data are in error, and outputs a resynchronization lock signal to the pseudo-random pattern generating circuit 3, when it is in error and allows the circuit 3 to re-fetch the data and to generate a reference PN pattern.例文帳に追加

その際に、再同期引き込み信号発生回路５は、取り込んだ受信データが誤っていないかをチェックし、誤っている場合は、疑似ランダムパターン発生回路３に対して再同期引き込み信号を出力し、再度受信データを取り込んで基準のＰＮパターンを発生させる。 - 特許庁

The thermal printer converts monochromatic data of one bit per one dot received from a host computer into 8-bit data through bit rate conversion processing, develops a dot pattern on a memory, and compares a 9-dot matrix pattern including 8 dots surrounding each dot of outline with a plurality of reference dot patterns.例文帳に追加

サーマルプリンタは、ホストコンピュータから受信した1ドットあたり1ビットの白黒データをビットレート変換処理により8ビットデータに変換するとともにメモリ上にドットパターンを展開し、アウトラインの各ドットを中心としてその周囲8ドットを含む9ドットマトリックスパターンを複数の参照ドットパターンと比較する。 - 特許庁

An improved device for determining 3D coordinates of an object 1 has a projector 10 for projecting a pattern to the object 1, a camera 11 connected with the projector 10 for imaging the object 11, and a reference camera 16 connected with the projector 10 and the camera 11 for imaging one or more reference marks 6 and 24 in a field 25 of the reference mark 6.例文帳に追加

対象物１の３次元座標を決定するための改良された装置は、対象物１にパターンを投影するプロジェクタ１０と、上記プロジェクタ１０に結合され、対象物１を撮影するカメラ１１と、上記プロジェクタ１０、およびカメラ１１に結合され、リファレンスマーク６のフィールド２５の１つ以上のリファレンスマーク６，２４を撮影するリファレンスカメラ１６とを備える。 - 特許庁

In recognition operation, the reference template is rotated by an offset angle, to form a recognition execution template, a reference search area corresponding to the reference template is converted to a converted search area for recognition execution, and pattern matching of the recognition image with the search area for recognition execution is performed by raster scanning within the converted search area, whereby the position of the chip is recognized.例文帳に追加

認識動作においては基準テンプレートをオフセット角度だけ回転させて認識実行用のテンプレートを作成するとともに、基準テンプレートに対応した基準サーチエリアを認識実行用の変換後サーチエリアに変換し、変換後サーチエリア内でラスタ走査を行って認識画像と認識実行用のサーチエリアとのパターンマッチングを行い、チップの位置を認識する。 - 特許庁

Next, the insulating substrate 101 with the reference pattern 102 being formed thereon is conveyed into a treatment chamber of a well-known thermal CVD apparatus, heated to 850°C, and ethanol gas is fed thereto as raw material gas.例文帳に追加

次に、基準パタン１０２が形成された絶縁性基板１０１を、よく知られた熱ＣＶＤ装置の処理室内に搬入し、８５０℃に加熱し、原料ガスとしてエタノールガスを供給する。 - 特許庁

In such a manner, even in the case of adopting the transfer paper of the large peculiar size, the reference pattern can be formed on the image carrier whose peripheral length is short, therefore the miniaturization of the image forming device is contributed thereby.例文帳に追加

これにより、大きな特殊サイズの転写紙を用いる場合でも、周囲長の短い像担持体に基準パターンを作成することを可能にし、画像形成装置の小型化に寄与するようにする。 - 特許庁

Continuous pattern extracting means 105 extract a plurality of patterns of the same shape common to an image to be processed and a reference image and present in a regular array on the images of a form or the like.例文帳に追加

連続パターン抽出手段１０５は、処理対象画像と参照画像とに共通する帳票等の画像上に規則的な配置で存在する同一形状の複数のパターンを抽出する。 - 特許庁

During pattern recognition, nonconincidence to both the reference edge model and the error edge model is calculated, and the value of the former nonconincidence is adjusted to be larger as the latter nonconincidence gets smaller.例文帳に追加

パターン認識の際には、基準エッジモデルおよびエラーエッジモデルの双方に対する不一致度が算出され、前者の不一致度を、後者の不一致度が小さくなるほど値が大きくなるように調整する。 - 特許庁

The station transmitter 10 calculates a correlation between a input signal from the liquid crystal fiber 12 and a reference pattern with the time slot assigned to the designated optical transmitter-receive and integrates the result of correlation.例文帳に追加

局伝送装置１０は、光ファイバ１２からの入力信号を、指定の光送受信装置に割り羽照られたタイムルスロットで参照パターンとの相関を演算し、相関結果を積分する。 - 特許庁

Then, the image processing apparatus 15 decomposes the color image into image data of brightness I, hue H, and chroma S for comparing with the reference pattern for each of H, S and I for each image for judgment.例文帳に追加

そして、画像処理装置１５がこのカラー画像をＨＳＩ変換で、明度Ｉ、色相Ｈ、彩度Ｓの画像データに分解し、この各画像に対してＨ、Ｓ、Ｉ毎の基準パターンと比較して判定する。 - 特許庁

For an image bit map after the exception processing 1, exception processing 2 for determining a pulse growing direction while overrides a pulse growing direction determined based upon a reference position in a half-tone pattern is performed.例文帳に追加

該例外処理１後の画像ビットマップに対して、ハーフトーンパターン内の参照位置に基づいて決定されるパルス成長方向を無視してパルス成長方向を決定する例外処理２を行う。 - 特許庁

A zero voltage is constituted with reference to the intermediate voltage phase of an input-phase voltage of an AC-AC direct conversion circuit, and a zero-phase switching pattern is determined by dividing an input spatial vector by 12.例文帳に追加

交流−交流直接変換回路の入力相電圧の中間電圧相を基準にして零電圧を構成し、入力空間ベクトルを１２分割して零相スイッチングパターンを決定する。 - 特許庁

Further, when trailing phenomenon prevention operation is performed on the binarized image data, the patterns to be used for pattern matching are changed and selected according to whether the subscan direction line shifting point lies within the reference window.例文帳に追加

また、二値化された画像データに対して、尾引き現象抑制処理を行う際に、副走査方向のラインの切り替えが、参照ウィンドウ内にあるか否かでパターンマッチング用のパターンを切り替えて選択する。 - 特許庁

A luminance degradation correction pattern production unit 230 calculates a luminance degradation value from the luminance degradation information produced by the luminance degradation information integration unit 220, and the luminance characteristics of the pixel circuit being a reference.例文帳に追加

輝度劣化補正パターン生成部２３０は、輝度劣化情報積算部２２０により生成された輝度劣化情報と、基準となる画素回路の輝度特性とから輝度劣化値を算出する。 - 特許庁

Next, a mora representative value is calculated for each mora of the F0 variation pattern, and a mora variation amount which is a variation amount of a mora representative value adjoining thereafter, with reference to the mora representative value, is respectively calculated.例文帳に追加

次に、Ｆ０変化パターンのモーラ毎にモーラ代表値を求め、このモーラ代表値を基準とした後方に隣接するモーラのモーラ代表値との変化量であるモーラ変化量をそれぞれ算出する。 - 特許庁

The abradable coating forms a pattern formed by strip-like constituent elements 5, and the constituent elements are located along the directions of the ribs on connection lines 45 connecting between bending points 41, 42 of a reference grid 40.例文帳に追加

アブレイダブル被膜はストリップ状の構成要素５で構成されたパターンを形成し、基準格子４０における屈曲位置４１，４２の間を結ぶ線４５上をリブ方向に沿って位置する。 - 特許庁

The segmented area SA is composed of a cell as a base and has information of the cell and information of a reference area including a partial design pattern of other cells adjacent to the periphery of the cell.例文帳に追加

この分割領域ＳＡは、セルを基本として構成されており、セルの情報と、そのセルの周辺に隣接する他のセルの一部の設計パターンを含む参照領域の情報とを有している。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a wafer, that can easily align the OF part of a thin-plate semiconductor wafer and the display reference point of a photo mask, and can bake a highly accurate photoresist pattern.例文帳に追加

薄板状半導体ウエハのＯＦ部とフォトマスクの表示基準点との位置合わせ作業が容易にでき、それにより高精密なフォトレジストパターンを焼付けできるウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

Plural binary data reproduced in parallel from a magnetic tape are sequentially determined as one of plural mark patterns by a mark detecting means 204 and a mark pattern whose reproducing time reaches a reference time is established.例文帳に追加

磁気テープからパラレル再生される複数の二値データをマーク検出手段２０４が複数のマークパターンの一つとして順次判定し、その再生時間が基準時間に到達したマークパターンを確定する。 - 特許庁

A pixel-by-pixel comparison is then made of the image with the document, such that the reference pixel is compared only with the locations in the document that are both within the identified areas and have the determined offset from the pattern.例文帳に追加

次に、画像と文書とのピクセル単位の比較が行われ、識別された領域内にあり、かつパターンから特定された偏移を有する文書内の場所と、参照ピクセルを比較する。 - 特許庁

An image composition circuit 53 combines a mask image 57 for a test having a prescribed reference pattern 65 with the endoscope image 30a including a test chart image 35a to generate a mask composite image 67 for the test.例文帳に追加

画像合成回路５３は、テストチャート画像３５ａを含む内視鏡画像３０ａに所定の基準パターン６５を有するテスト用マスク画像５７を合成し、テスト用マスク合成画像６７を生成する。 - 特許庁

The exposure of the camera 1 is controlled so that an average value of the luminance of each pixel included in a search area set with a range decided that the two-dimensional pattern is present as a reference reaches a prescribed value.例文帳に追加

２次元パターンが存在すると判定された範囲を基準として設定された探索領域に含まれる各画素の輝度の平均値が所定値となるようにカメラ１の露出を制御する。 - 特許庁

The reference APC is used to determine the track pitch, and by using the mark 411 of the defined size, the product servo pattern can be written at a desirable exact track pitch.例文帳に追加

基準ＡＰＣはトラック・ピッチを決定するものであり、寸法が確定しているマーク４１１を使用することによって、所望の正確なトラック・ピッチでプロダクト・サーボ・パターンを書き進めることができる。 - 特許庁

To provide a method and a device for generation as to reference data used for inspection to perform pattern inspection of a mask, etc., with high precision, and manufacturing method for the mask using them.例文帳に追加

マスク等のパターン検査を高精度に行うために、検査の際に用いる参照データについての発生方法と発生装置、パターン検査装置および、それを用いたマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The system 10 is aligned by positioning the radiation source 14 and the detector 16 with reference to the map, so that the detector 16 is disposed at a predetermined location within the beam pattern.例文帳に追加

システム１０は、マップを基準にして、検出器１６がビームパターン内の所定の位置に配置されるように放射線源１４及び検出器１６を相対的に位置決めすることによって位置合せされる。 - 特許庁

A parametric generator 130 fetches description information from the text definition file and arranges on the basis of this reference information a segment description code describing the segment of the specific test pattern, in memory 132.例文帳に追加

パラメトリック発生器１３０は、テキスト定義ファイルから記述情報を取り出し、この基準情報に基づいて、特定テスト・パターンのセグメントを記述するセグメント記述コードをメモリ１３２に配置する。 - 特許庁

When the determination result of the light reception waveform determination part 21 is a consecutive outgoing pattern, the reference coordinate data whose shape is round and whose size is "large" is copied to the coordinate data of the instruction pointer data PointInf.例文帳に追加

受光波形判定部２１の判定結果が連続状の出射パターンであると、形状が丸、大きさが「大きい」の基準座標データを、指示ポインタデータＰｏｉｎｔＩｎｆの座標データにコピーする。 - 特許庁

To provide an indirect transfer type image forming apparatus capable of appropriately adjusting an imaging condition for a photoreceptor and an imaging condition for a transfer belt, respectively, based on one reference toner pattern.例文帳に追加

一つの基準トナーパターンに基づいて、感光体に対する作像条件と転写ベルトに対する作像条件の夫々を適切に調整できる間接転写方式の画像形成装置を提供する。 - 特許庁

When a decision is made that an all over on switching element is switched from an underside switching element to an upper side switching element, its output voltage pattern alteration timing is set to minimize a triangle reference wave.例文帳に追加

べたオンとなるスイッチング素子が下側のスイッチング素子から上側のスイッチング素子に切り替ると判断すると、その出力電圧パターンの変更タイミングを、三角基準波が最小になるタイミングにする。 - 特許庁

The toner pattern 50A for detecting color shift in the main scanning direction Y includes a reference line 51 extending in the main scanning direction Y and first and second slant lines 52, 53 having a prescribed angle θ.例文帳に追加

主走査方向Ｙの色ずれ検出用トナーパターン５０Ａは、主走査方向Ｙに延在する基準線５１と、所定の角度θを有する第１及び第２斜線５２，５３を備えている。 - 特許庁

A reference image generation part 3 finds an edge border condition and detects the edge position through convolutional operation between an optical point spread function corresponding to the intensity of the laser beam and the image of a measured pattern.例文帳に追加

参照画像生成部３は、レーザービームの強度に相当する光学的点拡がり関数と被測定パターンの画像との畳み込み演算により、エッジ境界条件を求め、エッジ位置を検出する。 - 特許庁

When a decision is made that the all over on switching element is switched from an upper side switching element to an underside switching element, its output voltage pattern alteration timing is set to maximize a triangle reference wave.例文帳に追加

べたオンとなるスイッチング素子が上側のスイッチング素子から下側のスイッチング素子に切り替ると判断すると、その出力電圧パターンの変更タイミングを、三角基準波が最大になるタイミングにする。 - 特許庁

A plurality of normalization images are captured, by using a reference plate at a plurality of different defocus positions, and proper normalization is subtracted from a measuring spectrum of the target pattern, thereby compensating defocus errors.例文帳に追加

複数の異なるデフォーカス位置で基準板を使用して複数の正規化用の像を取り込み、さらにターゲットパターンの測定スペクトルから適切な正規化を引くことによって、デフォーカスエラーは補償される。 - 特許庁

After the bonus is won, referring to the table for the time of winning the bonus in the stop control table group selected according to the reference pattern in accordance with the result of the internal winning to determine the stop position of the reels.例文帳に追加

ボーナス当選後は、参照パターンに従って選択される停止制御テーブル群のボーナス当選時用テーブルを内部抽選の結果に応じて参照してリールの停止位置を決定する。 - 特許庁

Since one relative position is assigned uniquely to the identified reference pattern 16 of the group, the relative position of the first imaging device and the second imaging device is identified.例文帳に追加

グループの特定された参照パターン１６には１つの相対位置が一義的に割り当てられているので、第２の画像付け装置に対する第１の画像付け装置の相対位置を特定することができる。 - 特許庁

To provide a mobile body system for detecting a position shift of a mobile body without pattern matching, a panel as a reference for detecting a position of the mobile body, and a mobile body position correction method.例文帳に追加

パターンマッチングの処理を行わずに移動体の位置ずれを検知する移動体システム、及び移動体の位置を検知する基準となるパネル、並びに移動体の位置補正方法を提供する。 - 特許庁

On the other hand, in the case of performing the setup operation, that is, in the case of forming a toner pattern for adjustment, each color toner image is formed not depending on the detection result by the reference mark sensor 517 in the image forming apparatus.例文帳に追加

一方、セットアップ動作を行うとき、すなわち調整用トナーパターンを形成するときには、画像形成装置は基準マークセンサ５１７の検知結果によらずに各色のトナー像を形成する。 - 特許庁

The reference wiring pattern has a first portion (2a), extending in a first direction and a second portion (2b), which is connected with the first portion and extends, in a second direction that is different from the first direction.例文帳に追加

ここで、前記基準配線パターンは、第１方向に延びる第１部分（２ａ）と、前記第１部分に接続し、前記第１方向と異なる第２方向に延びる第２部分（２ｂ）とを備えている。 - 特許庁