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reference patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1662件
In the aligner with the variable-pattern forming devices 10a to 10e forming transfer patterns and projection optical systems PL1 to PL5 projecting the images of the transfer patterns formed by the forming devices on a photosensitive substrate, the aligner has a reference-mark display means for displaying reference marks in the forming devices and a measuring means for measuring the positions of the reference marks.例文帳に追加
転写パターンを生成する可変パターン生成装置10a〜10eと、前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系PL1〜PL5とを備える露光装置において、前記可変パターン生成装置において基準マークを表示させる基準マーク表示手段と、前記基準マークの位置を計測する計測手段とを備える。 - 特許庁
In the alignment mark Sm composed of a mask mark Mm given to a mask M having a specified pattern and of a work mark Wm given to a substrate W so as to align the mask and the substrate, the work mark is composed of a first reference mark Km_1 formed as penetrating the substrate and of a second reference mark Km_2 formed near the first reference mark and not penetrating the substrate.例文帳に追加
所定のパターンを備えるマスクMに設けたマスクマークMmと、基板Wに設けたワークマークWmとにより前記マスクおよび前記基板の整合作業を行う整合マークSmにおいて、前記ワークマークは、その基板に貫通して形成した第一基準マークKm_1と、この第一基準マークの近傍で前記基板に非貫通に形成した第二基準マークKm_2とから構成される整合マークとした。 - 特許庁
In an evaluation means 44b, the dimension of the reference mark corresponding to the dimension detection data is obtained, based on the dimension detection data and the reliability of the overlap error of the circuit pattern or the like is evaluated, based on the dimension.例文帳に追加
評価手段44bでは、寸法検出データに基づき該寸法検出データに対応する基準マークの寸法を求め、該寸法に基づいて前記回路パターンなどの重ね合わせ誤差の信頼性を評価する。 - 特許庁
The image of the logo of the sponsor company of a commercial displayed at a predetermined commercial timing and the start position and end position of the commercial using the timing of logo display as a reference are described on a pattern file prepared for each of commercials.例文帳に追加
CM毎に用意されるパターンファイルには、CMの所定のタイミングで表示されるCM提供元の会社のロゴのイメージと、ロゴが表示されるタイミングを基準とした、CMの開始位置、終了位置が記述される。 - 特許庁
The image forming position for a measurement color is corrected based on the first judgement result of the judging means when issuing the test command (when detecting the position of a pattern) in addition to the positional deviation of patterns 93 and 95 to a reference position.例文帳に追加
そして、基準位置に対するパターン93,95の位置ずれ量に加えて、テスト指令時(パターンの位置の検出時)における判断手段の第1判断結果に基づき測定色の画像形成位置を補正する。 - 特許庁
A printed coil 30 in a printed wiring pattern is formed with both ends being opened at a reference arrow portion 30a in such a manner as to encircle the almost whole board along the outer periphery at the side edge of the circuit board 10.例文帳に追加
回路基板10の基板辺縁の外周に沿ってほぼ基板全体を包囲するように、かつ矢指部30aにおいて両端を開放状態にして、プリント配線パターンによるプリントコイル30を形成する。 - 特許庁
The output adjustment value of an image signal in output control is set by the peak value of the image signal when a test pattern 20 is photographed under reference conditions, and is set to 50 to 70 IRE.例文帳に追加
出力制御における映像信号の出力調整値は、基準条件の下でテストパターン20を撮影したときの映像信号のピーク値によって設定され、50〜70IREになるように設定されている。 - 特許庁
This group of the plurality of unit patches is printed one line by one line in each part of the front end, the center and the rear ends of a head in the reference and comparison nozzle arrays 15A and 15B, to form a pattern 40 for adjusting a head mounting position.例文帳に追加
この複数対の単位パッチ群を、基準ノズル列15Aと比較ノズル列15Bにおけるヘッド前端、中央、後端の各部分で1列ずつ印刷したものをヘッド取付位置調整用パターン40とする。 - 特許庁
A trench 5 is dug into a transparent substrate 1 by etching and the light shielding film 2 of the segment corresponding to the reference pattern 4 is also etched to make the residual film 9 of the light shielding film 2 of this segment into the prescribed thickness.例文帳に追加
エッチング加工によって透明基板1にトレンチ5を掘り込むと共に、基準パターン4に対応した部分の遮光膜2も蝕刻して、その部分の遮光膜2の残膜9を所定の厚さにする。 - 特許庁
A user identifies a density part coinciding with reference density from a printed density pattern to input the density value (corrected input value) thereof and the input/output characteristics of a printer engine is reset on the basis of the corrected input value.例文帳に追加
ユーザーは印刷した濃度パターンから基準濃度に一致する濃度部分を同定してその濃度値(補正入力値)を入力し、プリンタエンジンの入出力特性を補正入力値を基に再設定する。 - 特許庁
These vias are arranged in a triangular pattern and the ground reference plane of the circuit board is provided with voids, one void being associated and encompassing a pair of the differential signal vias of a single terminal triplet.例文帳に追加
これらのビアは三角パターンで配列されており、回路基板の接地基準平面に空所を設け、一つの空所は単一の端子三つ組の一対の作動信号ビアと関連付けられるとともに取り囲まれている。 - 特許庁
To reconstruct and calibrate an imaging system 100 having a detector element array 160 arranged with respect to a reference position and having an energy source 110 moving in a pattern to irradiate the array, on the basis of a multi-pin phantom.例文帳に追加
基準位置に対して配列させた検出器素子アレイ(160)と、該アレイを照射するパターンで移動するエネルギー源(110)を有するイメージング・システム(100)をマルチピン・ファントームに基づいて再構成較正する。 - 特許庁
The cutting conditions and the mechanical characteristics obtained on the processed face are simulated for the curve processing, so that the mechanical characteristics of the processed face and the pattern of the processing conditions are created and saved as a reference table.例文帳に追加
そして、切削条件と加工面に得られる機械的特性を曲面加工のシミュレーションすることにより、加工面の機械的特性とその加工条件のパターンを参照表として作成・保存する。 - 特許庁
By reading the positioning pattern in reading, certain detection of a presence range thereof and specification of the data display color that is a reference can be performed, so that the color of each of the cell of a data area can be certainly decided.例文帳に追加
読取時には、位置決めパターンを読み取ることで、その存在範囲の確実な検出と基準となるデータ表示色の特定をすることができ、データ領域の各セルの色を確実に判定することができる。 - 特許庁
In order to hold image density as specified, the high density correction is performed by forming a toner pattern for detecting high density on a photoreceptor, and comparing value detecting by a reflection type sensor with the high density reference value (S3).例文帳に追加
画像濃度を一定に保持するために、感光体上に高濃度検出用トナーパターンを形成し、反射型センサーにて検出した値と高濃度基準値との比較を行って高濃度補正を行う(S3)。 - 特許庁
It lowers detection sensitivity from a case of comparing and inspecting other parts when detecting defect of the OPC pattern by comparing and inspecting a detection image obtained to scan the optical proximity effect mask with the reference image 3'.例文帳に追加
光学近接効果マスクをスキャンして得た検出画像と、参照画像3’とを比較検査することにより、OPCパターンの欠陥検査を行う際に、他の部分の比較検査する場合よりも検査感度を下げる。 - 特許庁
When data are recorded, signal light and reference light are simultaneously emitted to a specified site in the volume holographic memory 10 and an interference pattern is recorded as a refractive index lattice, where a refractive index has a lattice-like distribution.例文帳に追加
データを記録するときには信号光と参照光とを同時に体積ホログラフィックメモリ10内の所定部位に照射し、干渉パターンを屈折率が格子状の分布を有する屈折率格子として記録する。 - 特許庁
A magnitude comparison part 5 determines whether the reference image data are located in a repetitive object including a predetermined repetitive pattern by comparing the horizontal integration values in terms of magnitude on the basis of the number (k) of separation pixels.例文帳に追加
大小比較部5は離間画素数k毎の水平積算値を大小比較することによって、基準画素データが所定の繰り返しパターンを含む繰り返しオブジェクト内に位置する画素データであるか否かを判定する。 - 特許庁
In the method, reference numeral 1 denotes the resin molding (waterproof pan); 2, the core mat; 3, a vinyl ester resin; 4, the plate for surface re-finishing; 4a, the pattern; 5, the coated resin layer; 6, the putty burying material; 7, top coating material; and 10, the obtained resin molding (waterproof pan).例文帳に追加
1‥樹脂成形体(防水パン)、2‥コアマット、3‥ビニルエステル系樹脂、4‥再表面仕上用板、4a‥パターン、5‥コーティングされた樹脂層、6‥パテ埋め材、7‥トップ塗装材、10‥得られた樹脂成形体(防水パン)。 - 特許庁
When the image pickup element 2 is put in a storage recessed part 1b, the coordinate points of at least three corners of the image pickup element 2 are determined on the basis of the reference pattern 1a and the image pickup element is stored and fixed in the storage recessed part 1b.例文帳に追加
撮像素子2を収納凹部1b内に収納する際には、基準パターン1aを基準として撮像素子2の少なくとも3隅の座標点を決めて収納凹部1b内に収納し固定する。 - 特許庁
In this game machine, when the number U of starting storages is six at the start of pattern generation process, since the starting storage number U is larger than a foreseeing execution reference number predetermined to be four, bonanza foreseeing presentation is not expressed.例文帳に追加
本発明は、図柄生成行程開始時点で、始動記憶数Uが6個であると、予め4個と定めた予見実行基準数よりも始動記憶数Uが多いため、大当り予見演出は表出されない。 - 特許庁
This automatic optical inspection system determines the presence of pattern defects in brightness of image data captured by the printed circuit board, by utilizing transmitted light and/or reflected light, through the 1st reference value of an illuminometer.例文帳に追加
本発明の自動光学検査システムは印刷回路基板から透過光および/または反射光を利用して獲得した映像データの明るさを照度計の第1基準値によってパターンの不良の有無を判別する。 - 特許庁
The optical waveguide pattern 133 for alignment purpose has both ends exposed to the end face of the optical waveguide film 10, and serves as a reference for alignment when the optical waveguide film 10 is laminated on an electric circuit substrate 20.例文帳に追加
このアライメント用光導波路パターン133は、その両端部が光導波路フィルム10の端面に露出しており、光導波路フィルム10を電気回路基板20に積層する際の位置合わせの基準となる。 - 特許庁
The abradable coating has a pattern formed by a strip-like component element 5, the component element is positioned along in the direction of the rib on a line 45 joining the bending positions 41 to 42 in the reference grid 40.例文帳に追加
アブレイダブル被膜はストリップ状の構成要素5で構成されたパターンを形成し、その構成要素は基準格子40における屈曲位置41,42;の間を結ぶ線45上をリブ方向に沿って位置する。 - 特許庁
In the case of a chord pattern matching mode, a pitch in accordance with a combination of the string information 31 and the position information 32 is determined with reference to a pitch conversion table for guitar corresponding to an input code inputted in the code key area.例文帳に追加
コードマッチモード時には、弦情報31とポジション情報32の組み合わせに応じた音高が、コード鍵域で入力された入力コードに対応するギター用音高変換テーブルを参照して決定される。 - 特許庁
Thereafter, the density of the second pattern formed in the printer is measured in the same manner at prescribed timing, and the density correction table is corrected, on the basis of the measured value and the correction reference value by the correction table correction part 211.例文帳に追加
その後、所定のタイミングでプリンタ内に形成した前記第2のパターンの濃度を同様に測定し、補正テーブル補正部211で、該測定値と前記補正基準値とに基づいて前記濃度補正テーブルを補正する。 - 特許庁
While changing a phase of a phase shifter 42 connected to the calibration target antenna element 22, a receiving power change pattern formed by the reference antenna element 21 and the calibration target antenna element 22 is acquired.例文帳に追加
そして、校正対象アンテナ素子22に接続された移相器42の位相を変化させつつ、基準アンテナ素子21及び校正対象アンテナ素子22によって形成される受信電力変化パターンを取得する。 - 特許庁
A frequency reuse pattern 510 is generated by applying frequency shifts to reference signals transmitted from cells that provide coverage for a Node B based on cell IDs or cell group IDs for the cells.例文帳に追加
セルのセル・グループIDまたはセルIDに基づいて、周波数シフトを、ノードBのカバレッジを提供するセルから送信された基準信号へ適用することによって、周波数再使用パターン510が生成される。 - 特許庁
To enhance dimensional accuracy of a printed matter pattern by maintaining a constant angle of separation of a printing object from a plate immediately after printing, without reference to a position of a squeegee moving on a screen plate, in off-contact printing.例文帳に追加
オフコンタクト印刷において、スクリーン版上を移動するスキージ位置にかかわらず印刷直後の印刷対象物の版離れの角度を一定に維持し、印刷された被印刷物パターンの寸法精度の向上を図る。 - 特許庁
The test is conducted by using a tester having a test mask and an radiator to emit light and an objective lens to observe the test mask and a reference grid provided in a pattern observing area of the test mask.例文帳に追加
テストマスクと、テストマスクの、パターンを観察する領域に、光を照射する照射手段と、テストマスクを観察するための対物レンズと、基準格子と、観察手段とを備える検査装置を用いて、検査を行う。 - 特許庁
A patch selection accepting means 20e accepts selection of respective achromatic patches from a plurality of patches at each gray level of the pattern sheet utilizing a reference patch at each gray level printed using K ink.例文帳に追加
そして、パッチ選択受付手段20eによって、Kインクを用いて印刷された、各階調毎の基準パッチを利用して、パターンシートの各階調毎の複数のパッチから、それぞれ無彩色のパッチの選択が受け付けられる。 - 特許庁
Of the pattern inspection device 1, a comparing inspection part 10 generates a defect candidate area D in an inspected image S by comparing the inspected image S with a reference image R.例文帳に追加
パターン検査装置1において、比較検査部10は、被検査画像Sと参照画像Rとを比較して被検査画像Sにおける欠陥候補領域Dを特定する2値化された欠陥候補画像Qを生成する。 - 特許庁
A performance control CPU specifies a main variation pattern determined by a CPU of a main board (step S651), and determines whether or not the execution history of the pseudo successive variation is more than the prescribed reference number of times (step S652).例文帳に追加
演出制御CPUは、主基板のCPUが決定したメイン変動パターンを特定し(ステップS651)、擬似連変動の実行履歴が所定の基準回数より多いか否かを判定する(ステップS652)。 - 特許庁
In an area 115, a mirror table 116 which reflects the contents of the memory 112, and a ghost table 117 which stores a reference value related to an inserted binary pattern are provided.例文帳に追加
さらに、メモリ領域(115)内には、TRIEメモリ(112)の内容を反映するミラーテーブル(116)と、挿入された2進パターンと関連づけられた前記基準値を記憶するゴーストテーブル(117)とが備えられる。 - 特許庁
In the inspection method, video data are acquired in pixel units, and the widths of a circuit pattern or spatial component are measured in a direction perpendicular to a measurement direction, to detect short circuit, when the measured width is larger than the reference width.例文帳に追加
本発明の製造方法は、光学検査工程で回路パターンの良否及びオープン又はショート不良を検出して、製造工程を減らすことができ、後続工程での収率を向上させることができる。 - 特許庁
In the assembling and adjusting operations in a factory, a plural sheets of test prints are formed by a 50% gray image print pattern by raising each of the head temperature and the ambient temperature by one degree by starting from a head temperature T0 and an ambient temperature T1 in a reference temperature condition.例文帳に追加
工場での組み立て調整時に、標準温度条件のヘッド温度T0,環境温度T1から1度ずつ上げながら50%グレイの印画パターンで複数枚のテストプリントを作成する。 - 特許庁
The detecting unit determines the detected values representative of the characteristics of the pattern from the sensed radiation, compares the detected values with a reference value representing a desired standard for the characteristics, and outputs a signal according to the result of the comparison.例文帳に追加
検出ユニットは、検知した放射からのパターンの特徴を表す検出値を確定し、検出値を特徴についての所望の標準を表す基準値と比較し、比較結果に従って信号を出力する。 - 特許庁
The patterning of a phosphor is carried out on a glass substrate instead of a slit for detecting the rays of light from a reference pattern on a mask, and visible lights emitted by the phosphor are measured by a photo-diode through the glass substrate.例文帳に追加
マスク上の基準パターンからの光を検出するためのスリットの代わりに、ガラス基板上に蛍光体をパターニングし、蛍光体が発光する可視光を、ガラス基板を通してフォトダイオードで測定する。 - 特許庁
A frequency selecting circuit 22 selects the clock signal having a frequency close to the reference frequency fST from among the clock signals CLK10-CLK20 outputted from the frequency- dividing circuit 10 based on the pattern of the levels of the detection signals C10-C18.例文帳に追加
周波数選択回路22では、検知信号C10 〜C18 のレベルのパターンに基づいて、分周回路10から出力されるクロック信号CLK10 〜CLK20 の中から基準周波数fST に近い周波数を有するクロック信号を選択する。 - 特許庁
In addition, the image forming conditions are appropriately controlled since detection of the light reflection density to the reference pattern is stably performed and the image forming device without toner scattering and scumming, etc. and with high stability is provided.例文帳に追加
また基準パターンに対する光反射濃度検知が安定して行えるため適切に画像形成条件を制御することができ、トナー飛散、地汚れ等の無い、安定性の高い画像形成装置を提供できる。 - 特許庁
An organic pigment element is used as the nonlinear optical element to acquire a two-dimensional pattern of autocorrelation waveform information to waveform information and determines the pulse width through the use of a reticule as a scale reference on the basis of the autocorrelation waveform information.例文帳に追加
非線形光学素子として、有機色素素子を用い、自己相関波形情報対波長情報の2次元パターンを得、自己相関波形情報からスケール基準としてのレチクルを用いてパルス幅を決定する。 - 特許庁
When synchronized with this time clock, a current reference value of a deflection electromagnet is output from the pattern memory 3 for defection electromagnet current to a deflection electromagnet current generator 6 and a coil current flows to the deflection electromagnet 10.例文帳に追加
このタイムクロックに同期し、偏向電磁石電流用パターンメモリ3から偏向電磁石の電流基準値が偏向電磁石電流発生装置6に出力され、偏向電磁石10にコイル電流が流れる。 - 特許庁
The retrieval device comprises a measurement data reading means 46, a reference data reading means 48, a peak retrieving means 50, a peak correlating means 52, an inter-pattern distance calculating means 60, and a plant variety classifying means 62.例文帳に追加
検索装置は、測定データ読出し手段46と、基準データ読出し手段48と、ピーク探索手段50と、ピーク対応付け手段52と、パターン間距離計算手段60と、植物品種分類手段62とを備えている。 - 特許庁
Referring to a processing rule storage part 35 or receiving information stored in a history storage part 30 from a history reference part 12, a request analysis processing part 11 determines a retrieval pattern and produces a query.例文帳に追加
要求分析処理部11は、処理ルール記憶部35を参照することにより、また、履歴参照部12から履歴記憶部30に記憶された情報を受け取ることにより、検索パターンを判断し、クエリーを生成する。 - 特許庁
The maximum values are corrected based on the ratio calculated by the ratio computing unit 15, and compared with the pattern of the maximum values of the time series signals in each frequency zone of each abnormal model of the pipe 1 set up beforehand and with the pattern of the vibration reference value by a comparator 10, and the content of abnormality of the pipe 1 is displayed.例文帳に追加
その最大値を比率演算器15にて算出した比率を基に補正し、比較器10において予め設定した配管の異常モデル毎の周波数帯域毎の時系列信号の最大値のパターンと振動基準値のパターンと比較して配管の異常の内容を表示する。 - 特許庁
When the total current value is determined to be larger than the reference value, the CPU 323 replaces the performance pattern data for the respective specified performance means 130-160, 70 with those for lower current corresponding to the performance pattern data involved to control the respective performance means 110-160, 70 and 80.例文帳に追加
CPU323は、その電流合計値が基準値よりも大きいと判断した場合、各特定演出手段130〜160,70についての当該演出パターンデータを、当該演出パターンデータに対応する低電流用演出パターンデータに差し替えて、各演出手段110〜160,70,80を制御する。 - 特許庁
By executing a program PG1 for correcting the uneven display in a computer, an uneven display correction system 100 displays a reference image AA as a test pattern PT in the display area of the CRT 105, photographs the displayed test pattern PT with the digital camera 1, and acquires a photographed image CC.例文帳に追加
この表示ムラ補正システム100は、表示ムラ補正用のプログラムPG1をコンピュータにおいて実行することによって、CRT105の表示領域においてテストパターンPTとしての基準画像AAを表示させ、表示されたテストパターンPTをデジタルカメラ1によって撮影して撮影画像CCを取得する。 - 特許庁
When center lines, etc., have to be modified after the center lines and a wiring pattern which are in a form being before preparing a thick wiring pattern are prepared, an input device 30 first, collectively selects the plurality of center lines, etc., and also designates a point and a line to be reference to modification change.例文帳に追加
厚みのある配線パターンを作成する前の形態である中心線や配線パターンを作成した後において、それら中心線等に修正を要する場合、まず、入力装置30によって、複数の中心線等を一括して選択するとともに、修正変更の基準となる点や線を指定する。 - 特許庁
The division pixel is compared with a reference division pixel; and if the division pixel is found larger, the charged particle beam is made to repeatedly scan a plurality of times in the first scanning direction by using the data corresponding to the pattern in the scanning line portion of the pattern data without aligning the scanning start positions of the charged particle beam in the same division pixel.例文帳に追加
基準分割画素と分割画素とを比較し、分割画素が大きい場合、同じ分割画素内で荷電粒子ビームの走査開始位置を一致させることなく、パターンデータのうち、走査線部分のパターンに相当するデータを用いて、荷電粒子ビームを第1の走査方向に複数回繰り返し走査させる。 - 特許庁
In this case, the characteristics deciding means 303 successively decides the characteristics according to the reference of information quantity maximization under a condition that already decided characteristics are known while adding an effective noise to the learning pattern, and approximately quickly executes information quantity calculation while merging the learning pattern with the N pieces of groups as necessary.例文帳に追加
この時、特徴決定手段303は、学習パターンに実効的ノイズを加えながら、決定済みの特徴が既知であるとの条件の下、情報量最大化の基準に従って順次特徴を決定し、学習パターンをN個の集合に適時マージしながら情報量計算を近似的に高速に行う。 - 特許庁
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