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reference patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1662件
In the game machine in one embodiment, a specific presentation pattern in which the degree of expectancy is at least a prescribed reference value or higher is selected when the result of a winning lottery is a miss, and when the game state when the specific presentation pattern is selected satisfies a prescribed condition, a guide presentation executing means executes guide presentation for urging the player to perform ball shooting operation to advance the play advantageously to the player.例文帳に追加
ある態様の遊技機においては、期待度の高さが所定基準以上となる特定の演出パターンが当否抽選の結果が外れであるときに選択され、その選択されたときの遊技状態が所定の条件を満たす場合に、ガイド演出実行手段が、遊技を遊技者に有利に進行させるための打球操作を促すガイド演出を実行する。 - 特許庁
The reference grid manufacturing device 10 is constituted such that the photo-curing resin layer 18 is cured by irradiation with ultraviolet rays from below it with the photo-curing resin layer 18 interlaid between the microirregularity pattern 12 of the tabular transfer master 14 and the flat surface 16 of the replica base 20 to press the microirregularity pattern to the photo-curing resin layer 18.例文帳に追加
基準格子製造装置10では、平板状転写マスタ14と微細凹凸形状パターン12とレプリカベース20の成型用平面16との間に光硬化性樹脂層18を介在し、光硬化性樹脂層18に微細凹凸形状パターン12を押圧させた状態で、光硬化性樹脂層18の下方から紫外線を照射して光硬化性樹脂層18を硬化させる。 - 特許庁
Information light carrying and supporting the two-dimensional pattern information corresponding to data and reference light for recording modulated by phase modulation patterns are arranged on the hologram optical information recording medium in such a manner that the optical axes are aligned to the same line and the generated interference patterns are recorded.例文帳に追加
ホログラム光情報記録媒体に、データに対応する2次元パターン情報を担持した情報光と位相変調パターンで変調された記録用参照光を光軸が同一線上となるように配置し、発生する干渉パターンを記録される。 - 特許庁
When the vertical contour does not exist, a y_r collation searching unit 13 performs vector search for a place matching in pattern on a reference image by using a block composed of intermediate pixels generated from pixels of the image to be enhanced in resolution in the input SBS image.例文帳に追加
垂直輪郭が存在しないときは、y_r照合探索部13は、入力SBS画像の被高解像度化画像の画素から生成した中間画素から構成したブロックを用いて、参照画像上でパターンの一致する場所をベクトル探索する。 - 特許庁
According to plural feature data obtained from image data by the specific areas that the image processing units 22 take in, the data transfer units 21 and 20 in the higher layer specify reference data representing features of the pattern of the top surface of the object 30 of image processing.例文帳に追加
上記画像処理ユニット22が取り込んだ所定領域毎の画像データから得られた複数の特徴データに基づいて、上位層のデータ転送ユニット21,20により画像処理対象物30表面のパターンの特徴を表す基準データを特定する。 - 特許庁
As for the vertical direction, a transition of matching with the reference pattern is similarly acquired with movement of the search window, and the width (W21, W22) of matching areas is compared with the vertical width of the search window at the height to determine whether there is a pedestrian.例文帳に追加
また、上下方向についても同様であり、探索窓を移動させながら基準バターンとの一致度の推移を取得し、一致度の高い領域の幅(W21,W22)とその高さにおける探索窓の縦方向の幅とを比較して、歩行者の有無を判定する。 - 特許庁
The image of the moving object is picked up (S1) by an image pickup device 100, a luminescent point for constituting a pattern is detected from the picked-up image, the image of a specified area is segment with the detected luminescent point as a reference point and a feature amount inside the specified area is extracted (S3).例文帳に追加
映像撮像装置100で移動物体を撮像し(S1)、撮像された画像からパターンを構成する輝点を検出し、検出された輝点を基準点として特定領域の画像の切り出し、特定領域内の特徴量を抽出する(S3)。 - 特許庁
In detection, the actual measurement values X1, Y1 are detected by the pattern matching between the reference image and a detection target image obtained by imaging the detection target disposed in the attitude which includes the displacement in the rotational direction, and the detected actual measurement values X1, Y1 are corrected by the calibration amounts ΔX1, ΔY1.例文帳に追加
検出時には、回転方向の位置ずれを含んだ姿勢で配置されている検出対象を撮像した検出対象画像と、基準画像とのパターンマッチングにより実測値を検出し、この実測値を校正量ΔX1,ΔY1で補正する。 - 特許庁
By means of employing this pattern sequence, the power source voltage and the reference potential exerts a shield effect, consequently the optical pickup device outputting the light detecting waveform can be inexpensively provided, the light detecting waveform being hardly affected by the external noise and faithfully responding to the recording light emitting waveform.例文帳に追加
このパターン配列にすることにより、電源電圧と基準電位がシールド効果を発揮し、外来雑音の影響を受け難く、記録発光波形に忠実に応答した光検出波形を出力する光ピックアップ装置を安価に提供することができる。 - 特許庁
The inhaler detects positive pressure B caused by exhalation by pressure sensing means from a user's exhaling action before the user begins inhaling, namely from the stage of exhalation, and prepares the user's exhalation profile by comparing the pressure with a reference pattern stored in a storage means.例文帳に追加
利用者が吸気を開始する以前の息を吐き出す動作、すなわち呼気の段階から、呼気によって発生する正圧Bを圧力検知手段によって検出し、記憶手段に記憶させた標準パターンと照合して利用者の呼気プロファイルを作成する。 - 特許庁
The image forming apparatus creates a LUT_2 for correcting a laser output signal value after the correction using a LUT_1 for a γ correction, depending on the density change amount from the reference density value of the density value measured from a test pattern image formed on a photosensitive drum.例文帳に追加
本発明の画像形成装置は、γ補正用のLUT_1を用いた補正後のレーザ出力信号値を補正するためのLUT_2を、感光ドラムに形成したテストパターン画像から測定した濃度値の、基準濃度値からの濃度変化量に応じて作成する。 - 特許庁
The measurement system is provided with a target mounted to any one of the substrate support and the reference frame, a radiation source mounted to the other one and a sensor configured to detect a pattern of radiation propagating from the target, indicating the position or movement of the substrate support.例文帳に追加
この測定システムは、基板支持体および基準フレームのうち一方に設けられたターゲットと、他方に設けられた放射源と、ターゲットから伝播した、基板支持体の位置または移動を示す放射のパターンを検出するように構成されたセンサと、を備える。 - 特許庁
When the actual tip position is deviated from the reference teaching position due to the replacement of the welding torch 2 or the deformation caused by collision, the robot 1 is operated in accordance with the operation pattern determined in advance and is stopped when a welding wire 11 comes into contact with a recessed part 8a.例文帳に追加
溶接トーチ2の交換あるいは衝突による変形によって実際の先端位置が基準教示位置からずれた場合に、ロボット1をあらかじめ決められた動作パターンで動作し、溶接ワイヤ11と凹部8aが接触すればロボット1を停止する。 - 特許庁
A semiconductor integrated circuit device DUT 640 is provided with probe light pulse and reference pulse during each repetition cycle of the electric test pattern signal applied repeatedly, for guiding the same optical path as to sample the electric waveform on the DUT.例文帳に追加
半導体集積回路デバイス(DUT640)に繰り返し印加する電気的テストパターン信号の各反復サイクル期間中に、プローブ光パルスおよび基準光パルスを供給して、DUT上の電気的波形をサンプリングするように同一光路を導く。 - 特許庁
The performance-determining means 132 determines the performance mode corresponding to the game state after the limited period of time even while the limit reference is being referred to in the variation-pattern determining means 115 after the restoration of the power supply when the power supply is stopped during the limited period of time.例文帳に追加
演出決定手段132は、限定期間に給電が停止した場合、給電の復旧後には、変動パターン決定手段115において限定基準を参照中であっても、限定期間後の遊技状態に対応する演出態様を決定する。 - 特許庁
An outline motion vector searching section 103 uses a small area set in an encoding object frame and a small area set in the reference frame to perform block matching and to decide a searching pattern of a motion vector of entire frames.例文帳に追加
そして、概要動きベクトル探索部103では、符号化対象フレーム内に設定される小領域と参照フレーム内に設定される小領域とを用いて所定範囲内でブロックマッチングが行われ、フレーム全体の動きベクトルの探索パターンが決定する。 - 特許庁
In addition, an inspection image read-out section 62 reads out the image of the printed matter as inspection image information, and a registration error information generating section 63 detects the registration error between the reference image information and the inspection information by recognizing the registration checking pattern information printed by yellow.例文帳に追加
また、検査画像読取部62で印刷物の画像を検査画像情報として読み取り、位置ズレ情報生成部63において、イエローで印刷された位置照合パターンを認識して参照画像情報と検査画像情報の位置ズレ量を検出する。 - 特許庁
When the total area of flesh-colored areas 20 extracted from image data is larger than a reference value, it is classified which area combination pattern multiple flesh-colored areas 20 selected in the decreasing order of the area values from the image data.例文帳に追加
画像データから抽出された肌色領域20の合計面積が基準以上である時、前記画像データにおける複数の肌色領域20の各面積の大きい順に選んだ複数の肌色領域20が、どの面積組み合わせパターンに属するか分類する。 - 特許庁
The image sensor unit 71 emits a light onto the upper side of the 2nd reference white board 68 to detect a reflected light pattern with a luminous quantity distribution corresponding to the mount position of the image sensor unit 71 from the first index faces S1.S1 and the second index faces S2.S2.例文帳に追加
イメージセンサユニット71は第2基準白板68の上面に光照射を行って、第1指標面S1・S1および第2指標面S2・S2からの、イメージセンサユニット71の取り付け位置に応じた光量分布の反射光パターンを検出する。 - 特許庁
When pressure force received by the stop button exceeds a reference value, a CPU and a reel driving controller controls the stop of first to third reels 14a-14c, while referring to a stop table by which the drawing range of a small role pattern corresponding to a small role is defined as zero frame.例文帳に追加
ストップボタンが受けた押圧力が基準値を超えていた場合、CPU及びリール駆動コントローラは小役に対応する小役図柄の引き込み範囲を0コマとする停止テーブルを参照しながら第1〜第3リール14a〜14cの停止制御を行う。 - 特許庁
A video level decision circuit 22 compares a level of an imaged video signal a1 with a reference level, discriminates the pattern part of a subject, outputs a binarized video signal c1 and supplies it to a video signal processing circuit 27 via a synchronous conversion circuit 23.例文帳に追加
映像レベル判定回路22は、撮像した映像信号a1のレベルを基準レベルと比較し、被写体のパターン部分を判別し、二値化された映像信号c1を出力し、同期変換回路23を介して映像信号処理回路27に供給する。 - 特許庁
To provide a method for sorting a defect distribution which can accurately sort defect distributions on substrates, even when the positional displacement or size of a defect on a substrate to be inspected is changed with respect to a known defect distribution pattern as a sorting reference.例文帳に追加
分類の基準となる既知の欠陥分布パターンに対して検査対象となる基板上の欠陥の位置ズレや大きさの変化が発生する場合であっても、基板上の欠陥分布を精度良く分類できる欠陥分布分類方法を提供すること。 - 特許庁
A first polygon motor adjustment value Mpp is provided to a polygon motor and a first drum motor adjustment value Mpd is provided to a photoreceptive drum motor so as to obtain the image formed by a printer part of 100% magnifying force based on a data provided by a reference pattern generating part 7.例文帳に追加
基準パターン生成部7から提供されるデータに基づいて、プリンタ部により形成された画像が倍率100%となるように、ポリゴンモータに第1のポリゴンモータ調整値Mpp及び感光ドラムモータに第1のドラムモータ調整値Mpdを提供する。 - 特許庁
Thereby, image recognition allowing one-to-many correspondence between the detection image and the reference pattern can be used.例文帳に追加
複数の被検査物に記された情報を画像認識する認識手段と、複数の認識情報を比較する手段と、比較結果を出力する手段とを備えることにより、検出画像と基準パターンとが1対多の対応を可能とする画像認識を用いることが可能となる。 - 特許庁
When a prescribed pattern is overlapped with the divided region formed on an exposed wafer so as to expose them, an interpolation function 413 at dislocation, where the position coordinate of the reference position of the divided region is set to be the variable in dislocation accompanying distortions in the wafer, is decided.例文帳に追加
露光済みのウエハ上に形成された区画領域に、所定のパターンを重ね合わせ露光を行う場合に、ウエハに歪等に伴う位置ずれに関し、区画領域の基準位置の位置座標を変数とする位置ずれに関する補間関数413を決定する。 - 特許庁
Plural imaging apparatuses 21-27 are installed on the runway 1 in its lengthwise direction with a certain interval, the images of the surface of the runway 1 photographed by the imaging apparatuses 21-27 are compared with a reference image pattern in a normal time, and the obstacle 3 is extracted and displayed.例文帳に追加
複数台の撮像機器21〜27を滑走路1に長手方向に沿い間隔をなして設置し、これら撮像機器21〜27で撮像された滑走路1面の映像を正常時の基準映像パターンと比較し、障害物3の抽出して表示する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus which can prevent degradation in the accuracy of density error detection, even when there is abnormality in misregistration detection information, by regulating the sizes, intervals, numbers, etc., of reference pattern images for density error detection based on the misregistration detection information.例文帳に追加
位置ずれ検出情報に基づき濃度誤差検出用基準パターン像のサイズ、間隔、数などを調整することにより、位置ずれ検出情報に異常があった場合でも、濃度誤差検出精度の低下を防止できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
An MPU 411 allows a reference table 423, which is related to a series of transmission timings for transmitting the changeover command of a rendition screen to a special picture pattern display part 43 during the big hit game, to be stored in the ROM 413 of a lot processing part 41.例文帳に追加
抽選処理部41のROM413には、MPU411が、大当たり遊技中に特別図柄表示部43に対して演出画面の切替指令を送信する一連の送信タイミングを対応付けた参照テーブル423が記憶されている。 - 特許庁
By using the digitized image of an uncorrected formed image generated by the picture reproducing system of a test image as the learning pattern of a neural network, digital image data including the test image are defined as learning reference data in a direct learning process.例文帳に追加
ニューラルネットワークを使用し、テスト画像の画像再生システムにより発生された未修正結像のディジタル化画像をニューラルネットワークの学習パターンとして用い、テスト画像の格納されているディジタル画像データを直接学習プロセスでの学習基準データとして定める。 - 特許庁
A specific region such as a face is detected from a basis image BO or a reference image RO acquired by a first photographing means 2 or a second photographing means 3, and pattern light according to the specific region is emitted from a projector 4 to the specific part of the object.例文帳に追加
第1の撮影手段2または第2の撮影手段3が取得した基準画像B0または参照画像R0から顔等の特定領域を検出し、特定領域に応じたパターン光をプロジェクタ4から被写体の特定部分に照射する。 - 特許庁
A speed angle detecting section 40 comprises a section 41 for detecting pattern switching every 60 degrees of electrical angle based on the Hall IC signal of each phase, and a 360-degree counter 43 for defining an electrical angle of 360 degrees and counting the number of times of reference clock for 360 degrees.例文帳に追加
速度角度検出部40は各相のホールIC信号に基づいて電気角60度毎のパターン切換を検出するパターン検出部41と、電気角360度を規定して360度分の基準クロック回数を積算する360度カウンタ43を備える。 - 特許庁
A power reception control circuit 52 uses a driving clock DRCK of a primary coil in a normal power transmission period as a reference of timing to control a load demodulation section 46, thereby causing the power transmitting device to transmit regular authentication data including a 010 pattern.例文帳に追加
受電制御回路52は、通常送電期間中において、1次コイルの駆動クロックDRCKをタイミングの基準として用いて、負荷変調部46を制御することによって、010のパターンを含む定期認証データを送電装置に送信させる。 - 特許庁
The exposure device EX comprises an exposure unit which exposes a substrate P to be exposed with a circuit pattern, and an alignment system 4 provided to penetrate the substrate P and to detect the position of the substrate P by passing light through an alignment mark AM becoming a position reference of exposure.例文帳に追加
本発明の露光装置EXは、露光対象の基板Pに回路パターンを露光する露光部と、基板Pを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークAMに光を通して基板Pの位置を検出するアライメント系4を備える。 - 特許庁
In a stress echo workflow, patterns of View images as references among MPR images are stored in a storage device 61, a View which is considered to be the closest to the patterns of View images is extracted as the reference View image by pattern matching, and further, other necessary View images are automatically determined based on positional information of the reference View image.例文帳に追加
トレスエコーワークフローの中にMPR画像の中で基準となるViewの画像パターンを記憶装置61に記憶しておき、かかるViewの画像パターンに対しパターンマッチングにより、最も近いと思われるViewを基準となるViewの画像として抽出し、さらに、基準となるViewの画像位置情報を基に、他に必要なViewの画像を自動的に決定する。 - 特許庁
A contour data interpolating part 51 sets reference contour data for endocardium and epicardium of the reference image data (a first image data) selected from a plurality of sheets of time-series image data, and a tracking part 52 sets contour data to the endocardium and epicardium of a second image data by pattern matching between the first image data and a plurality of image data (the second image data) in the other time phase.例文帳に追加
輪郭データ補間部51は、時系列的な複数枚の画像データの中から選択した基準画像データ(第1の画像データ)の心内膜及び心外膜に対し基準輪郭データを設定し、トラッキング処理部52は、第1の画像データと他の時相における複数の画像データ(第2の画像データ)とのパターンマッチングにより第2の画像データの心内膜及び心外膜に対し輪郭データを設定する。 - 特許庁
In a pattern sequence of input/output signals of an optical pickup, a differential output signal of a light quantity detecting element outputting an electrical signal according to a light beam receiving quantity emitted from a light source, is arranged adjacently to a power source voltage and a reference potential.例文帳に追加
光ピックアップ装置の入出力信号のパターン配列において、光源から出射される光ビーム受光量に応じた電気信号を差動信号で出力する光量検出素子の差動出力信号が、電源電圧と基準電位に隣接配置されたパターン配列とする。 - 特許庁
When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before.例文帳に追加
レチクルR1のパターンを投影光学系PLを介して露光する際には、TTL方式のレチクルアライメント顕微鏡5A,5Bによって基準マーク34A,34Bの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ23Aを駆動する。 - 特許庁
In each information table, the rendition times of some rendition patterns are adjusted, so as to allow an average rendition time, which is obtained by adding the products of the appearing rates by registered rendition pattern with the rendition times concerning the whole rendition patterns, to coincide with a prescribed reference average time.例文帳に追加
各情報テーブルは、登録されている演出パターン毎の出現率と演出時間との積をすべての演出パターンについて加算した平均演出時間が所定の基準平均時間と一致するようにいくつかの演出パターンの演出時間が調整されている。 - 特許庁
This image reader has a function which corrects the skew by reading an optional pattern arranged near a reference scale 103 by an optical device element, dividing image data into optional amounts of data in a main scanning direction on the basis of obtained data and shifting the data in a sub-scanning direction.例文帳に追加
画像読み取り装置において、基準スケール103近辺に配置された任意のパターンを光デバイス素子で読み取り、得られたデータをもとに画像データを主走査方向に任意のデータ量に分割し、そのデータを副走査方向にシフトすることにより、スキューを補正する機能を有する。 - 特許庁
To solve a problem that the color blur can not be calculated correctly because of the influence of the remarkable image formation unevenness due to the reference color derivation when a registration pattern is read for measurement of the color deviation in an image forming device which is used as an output device of computer, etc.例文帳に追加
コンピュータ等の出力機器として使用される画像形成装置において、色ずれ量を検出するためのレジストレーションパターンを読み取る際に、基準色の画像形成むらが大きい場合、その影響によって正しく色ずれ量を換算できず色ずれ量演算が正確に行えない。 - 特許庁
The spray condition inspection apparatus photographs the cross section D of the visualized spray pattern, measures the width dimension, number, area, and center of gravity position in the cross section D, compares these various measured values with various preset reference values, and determines whether the spray condition of the transparent coating P is normal.例文帳に追加
そして、可視化した噴射パターンの断面Dを撮影して、その断面Dにおける幅寸法、数、面積、重心位置を測定し、これら各種測定値と予め設定されている各種基準値とを比較して、透明塗料Pの噴射状態が正常であるか否かを判定する。 - 特許庁
Next, an image of a test pattern is projected and is picked up by the camera, and difference between average RGB and reference RGB of the correction area is used as an evaluation function, and a setting parameter of a color having the largest absolute value of difference of RGB is changed in a reverse direction so that a sum of squares of the difference is minimized.例文帳に追加
次いで、テストパターンの画像を投射してカメラで取り込み、補正領域の平均RGBと基準RGBとの差を評価関数として、この差の二乗の和が最小となるように、RGBの差の絶対値が最も大きい色の設定パラメータを逆方向に変化させる。 - 特許庁
The reference dimensions of the plurality of patterns may be obtained by measuring the plurality of patterns by an Atomic Force Microscope: AFM, or alternatively, may be obtained on the basis of sectional shapes or the like of the patterns obtained by applying simulation to semiconductor pattern design data.例文帳に追加
複数パターンの基準寸法は、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)によって、上記複数のパターンを測定することによって得るようにしても良いし、半導体パターンの設計データにシミュレーションを施すことによって得られるパターンの断面形状等に基づいて求めるようにしても良い。 - 特許庁
A moving vector detecting part 24 detects moving vectors in the respective areas of the image on the basis of these frame image data and car speed data and a moving vector processing part 25 evaluates the pattern of the moving vector on a reference horizontal line and finds a distance and road width up to the wall surface of a road end.例文帳に追加
移動ベクトル検出部24では、これらのフレーム画像データと車速データに基づき画像の各領域の移動ベクトルを検出し、移動ベクトル処理部25では、基準水平ライン上の移動ベクトルのパターンを評価して、道路端の壁面までの距離と道幅を求める。 - 特許庁
The authentication server 20 retrieves attribute information of the employee based on the code and transmits it to the first terminal 11, and the OA server 30 retrieves the attribute information of the employee based on the code and transmits it to the first terminal with a document reference/update authority range pattern table.例文帳に追加
認証サーバ20は社員コードに基づいて社員の属性情報を検索して第1の端末11に送信し、OAサーバ30は社員コードに基づいて社員の属性情報を検索して文書参照・更新権限範囲パターン表とともに第1の端末11に送信する。 - 特許庁
Before inspecting an inspection object 1, the light quantity of a test pattern 1a is measured with an accumulation type line sensor 7, whether the measurement results are within a predetermined reference value range is judged, calibration is conducted according to the judgment, and then the inspection object 1 is inspected.例文帳に追加
検査対象1を検査する前には、テストパターン1aの光量を蓄積型ラインセンサ7で測定し、測定結果が予め定められている基準値範囲内に入っているかを判断し、それに応じてキャリブレーショウンを行い、その後に検査対象1を検査する。 - 特許庁
A selection means 5 narrows the number of candidate phonemic sequences by comparing the fundamental frequency of the waveform data of each candidate phonemic sequence with the value of the fundamental frequency pattern, discriminating whether the difference between the two is in a prescribed range, and discriminating further whether each candidate phonemic sequence satisfies a prescribed reference.例文帳に追加
選択手段5は、各候補音素列の波形データの基本周波数と、基本周波数パターンの値とを比較し、両者の差分が所定範囲内にあるか否かを判別し、更に、各候補音素列が所定の基準を満足するか否かを判別することにより、候補音素列の数を絞る。 - 特許庁
To solve the problem wherein the deterioration of image quality could not be avoided, when the density in the main scanning direction becomes uneven in image quality control that image forming is performed by forming a toner image of a reference pattern, detecting the density of the toner image and feeding back the result of detection to the image forming conditions.例文帳に追加
基準パターンのトナー像を形成し、その濃度を検知して、検知結果を画像形成条件にフィードバックして画像形成を行う画質制御においては、主走査方向の濃度の不均一がある場合に画質の低下が避けられないという問題を解決する。 - 特許庁
By photographing the object irradiated with the pattern light, correspondences between images on the specific regions in a basis image B1 and a reference image R1 acquired with the first and second photographing means 2, 3 are established, and the three dimensional shape of the specific part is measured.例文帳に追加
パターン光が照射された被写体を撮影することにより第1および第2の撮影手段2,3が取得した基準画像B1および参照画像R1における特定領域上の画素の対応付けを行って、特定部分の3次元形状を計測する。 - 特許庁
The inclination of an LR camera is aligned with that of a reference line of a master plate, a focus of the LR camera is changed from a pattern formation plane of the master plate to a nozzle formation plane of the head, so that the inclinations of the heads are aligned to that of the LR camera to align the inclinations of a plurality of the heads.例文帳に追加
LRカメラの傾きとマスタープレートの基準線の傾きとを一致させ、LRカメラの焦点をマスタープレートのパターン形成面からヘッドのノズル形成面に切り替え、ヘッドの傾きをLRカメラの傾きと一致させて、複数のヘッドの傾きを一致させる。 - 特許庁
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