「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

Regardless of a change in sectional shape of the information reproducing light and the reference reproducing light, the pattern region S1 and the non-light shielding area S2 are set according to the sectional shapes, thereby allowing the reproduction photodetector 46 to receive one of the light beams while blocking the other.例文帳に追加

情報再生光と参照再生光の断面形状がどのように変化しても、その断面形状に応じてパターン対応領域Ｓ１および非遮光対応領域Ｓ２を設定することで、一方の光を再生用フォトディテクタ４６に受光させ、他方の光を遮光することができる。 - 特許庁

A beam connecting means 4 is provided with a collimator lens 41 and a half mirror 42, and reference beams are made to be parallel beams, thereafter, are returned in the same direction with object beams which are emitted from microlens arrays 32 by the half mirror 42, are superposed on the object beams and causes an interference pattern to be generated.例文帳に追加

光結合手段４は、コリメートレンズ４１とハーフミラー４２を備え、参照光を平行光とした後、ハーフミラー４２によりマイクロレンズアレイ３２から出射した物体光と同方向に折り返され、物体光と重ね合わされて干渉パターンを発生する。 - 特許庁

A position relation between an external shape and the crystal orientation of a specimen is clarified by comparative measurement using a reference sample having a clear position relation between the external shape and the crystal orientation on the same sample coordinate, by using a back-scattered electron beam diffraction pattern method (EBSP method).例文帳に追加

後方散乱電子線回折パターン法（ＥＢＳＰ法）を用いて、同じ試料座標上で外形形状と結晶方位の位置関係が明確な基準試料を用いて比較測定する事で、被検体の外形形状と結晶方位の位置関係を明確にする。 - 特許庁

The origin for polar coordinate transformation is specified as a point at which the error of the position of an object to be compared detected by performing pattern matching between an image to be compared obtained by picking up the image of an object to be compared disposed in an attitude containing displacement in the direction of rotation and the reference image becomes the minimum.例文帳に追加

極座標変換用原点は、回転方向の位置ずれを含んだ姿勢で配置されている比較対象を撮像した比較対象画像と基準画像とのパターンマッチングで検出される比較対象の位置の誤差が最小になるような点として特定される。 - 特許庁

A wire 23G connected electrically to a reference potential (grounding potential) is arranged between a plurality of wires 23S used for transmitting a signal, out of the plurality of wires 23 formed in a thin sheet, and a pattern is formed to be extended to the vicinity of the probes 7A, 7B as much as possible.例文帳に追加

薄膜シート中に形成される複数の配線２３のうち、基準電位（接地電位）と電気的に接続する配線２３Ｇを信号送信に用いられる複数の配線２３Ｓ間に配置し、可能な限りプローブ７Ａ、７Ｂの近傍まで延在するパターンとする。 - 特許庁

In addition, when the light axis is decided as being abnormal in normal/abnormal decision of the measurement of the light axis, replacement of mounting members is promoted by selectively instructing a mounting member with the shape in which a range to deviate from a proper range of a reference pattern becomes the smallest from among plural prepared mounting members.例文帳に追加

また、光軸測定の良否判定において否と判定されたとき、予め用意された複数の取付け部材の中から、基準パターンの適正範囲を逸脱する範囲が最も小さくなる形状を持つ取付け部品材を選択指示して取り付け部材の交換を促す。 - 特許庁

When the integrated circuit chip on the semiconductor wafer is inspected after the exposure and any pattern defect is found out; the operating information by each pulse in cross-reference with the information of the lot number of the semiconductor wafer whose defect is found out, and the information of the integrated circuit chip position is acquired from the stored information items.例文帳に追加

露光後に半導体ウェーハ上の集積回路チップを検査し、パターン不良が発見された場合は、記憶した情報の中から不良が発見された半導体ウェーハのロット番号の情報及び集積回路チップ位置の情報に対応するパルス毎の動作情報を取得する。 - 特許庁

In the reference potential pattern layer 75, a circuit board side recessed portion 171 is formed which is recessed in a thickness direction on the circuit board 70 and on a bottom face 162 of the ribs 62a, a case body side projecting portion 163 is formed which is at least partially inserted into the circuit board side recessed portion 171.例文帳に追加

基準電位パターン層７５には、回路基板７０における厚さ方向に窪む回路基板側凹部１７１が形成され、リブ６２ａの底面１６２には、回路基板側凹部１７１に少なくとも一部が挿入されるケース体側凸部１６３が形成される。 - 特許庁

When a difference between the reference image and the real time image is calculated, a Euclidean distance between two images (two-dimensional pattern) included in the two blocks of the corresponding respective images is calculated, and the presence of the difference is judged based on the length of the Euclidean distance with respect to a threshold for every block.例文帳に追加

基準画像とリアルタイム画像との差分計算を行う際には、対応する各画像の２つのブロックに含まれる２つの画像（２次元パターン）間のユークリッド距離を算出し、個々のブロック毎に設定した閾値に対するユークリッド距離の大小により差分の有無を判断する。 - 特許庁

To provide a recording apparatus which can prevent a cut line from being cut in the middle while maintaining a sufficient picture quality and a sufficient printing speed in a pattern printing such as the cut line or a cut reference line of the recording apparatus, and also, can delay the shortage of the residual amount of an ink having a small residual amount.例文帳に追加

記録装置のカットラインやカット基準ライン等のパターン印字において、十分な画質と印刷速度とを維持しながら、カットラインの途切れを阻止することができ、また、残量の少ないインクの残量不足を遅らせることができる記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A plurality of pixel select ranges are provided (13, 14), the ranges are searched for a plurality of corresponding points using the selected pixels (19, 20), and according to the degree of bias of a pattern of a reference image (23), the final distance may be selected from the plurality of corresponding point search results (21).例文帳に追加

複数の画素選択範囲を用意し（１３，１４）、それらの範囲をそれぞれ用いて選択された画素を用いて複数の対応点探索を行ない（１９，２０）、基準画像の模様の偏り度合に応じて（２３）、複数の対応点探索結果から最終的な距離を選択してもよい（２１）。 - 特許庁

The reference dimensions of the plurality of patterns may be obtained by measuring the plurality of patterns by an Atomic Force Microscope: AFM, or alternatively, may be obtained on the basis of sectional shapes or the like of the patterns obtained by applying simulation to semiconductor pattern design data.例文帳に追加

複数パターンの基準寸法は、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：ＡＦＭ）によって、上記複数のパターンを測定することによって得るようにしても良いし、半導体パターンの設計データにシミュレーションを施すことによって得られるパターンの断面形状等に基づいて求めるようにしても良い。 - 特許庁

The control unit finds a peak value of the photoelectric transfer signal corresponding to the best focus position, and sets the exposure amount for pattern transfer according to the result of comparison between the peak value and the reference intensity value.例文帳に追加

制御装置は、これらの光電変換信号に基づいて投影光学系ＰＬのベストフォーカス位置を求め、そのベストフォーカス位置に対応する光電変換信号のピーク値を算出し、そのピーク値を基準強度値と比較した結果に基づいて、パターン転写時の露光量を設定する。 - 特許庁

When the determination result of a light reception waveform determination part 21 is pulse-shaped outgoing pattern, a central arithmetic unit 15 copies reference coordinate data whose shape is rectangular, and whose size is "middle" to the coordinate data of instruction pointer data PointInf, and transmits a page feed command to a video generation device 50.例文帳に追加

中央演算部１５は、受光波形判定部２１の判定結果がパルス状の出射パターンであると、形状が四角形、大きさが「中間」の基準座標データを、指示ポインタデータＰｏｉｎｔＩｎｆの座標データにコピーするとともに、改頁コマンドを映像生成装置５０に送信する。 - 特許庁

Using as a mask the mask pattern for selective growth, the imbedding layer is made to selectively grow under the conditions growing sideways from the side face of the mesa extending in the second direction opposite from the first direction with the first boundary position as a reference, with the front face of the growth becoming a slope.例文帳に追加

選択成長用マスクパターンをマスクとして用い、第１の境界位置を基準として第１の向きとは反対の第２の向きに向かって延びるメサの側面から側方に向かって成長し、成長の前面が斜面になる条件で埋込層を選択成長させる。 - 特許庁

A reference image recording apparatus records a test pattern image on the electronic paper being a calibration object and derives paper calibration data for correcting variations in the finish of the recording image due to the electronic paper being the calibration object on the basis of the finish of the image (refer to Figure 2 (A)).例文帳に追加

基準としての画像記録装置により校正対象の電子ペーパにテストパターン画像を記録し、該画像の仕上がりに基づいて校正対象の電子ペーパに起因する記録画像の仕上がりの変動を補正するためのペーパキャリブレーションデータを導出する（（Ａ）参照）。 - 特許庁

A refractive index of a peripheral part of the objective lens is increased, and a part of the reference light for recording passed through the peripheral part is intersected with the information light passed through a center part in the optical information recording medium to record an interference pattern when the information is recorded on the optical information recording medium.例文帳に追加

対物レンズの周辺部の屈折率を高めて、光情報記録媒体に対する情報の記録時には、周辺部を通過した記録用参照光の一部が中央部を通過した情報光と光情報記録媒体の中で交差して干渉パターンを記録させる。 - 特許庁

A position where shading is palest in the gradation pattern GP is detected by a signal from a reflection type sensor S provided integrally with a print head H (S5), and skewing amount accompanying with conveyance of the print sheet P1 is obtained based on deviation amount from a reference position at the detection position to display it (S6).例文帳に追加

プリントヘッドＨと一体に設けた反射型センサＳからの信号によりグラデーションパターンＧＰにおける濃度の最淡位置を検出し（Ｓ５）、この検出位置の基準位置からのずれ量に基づいてプリントシートＰ１の搬送に伴う斜行量を求めて、これを表示する（Ｓ６）。 - 特許庁

Then, the adaptive control type controller operates the current flowing through the parasitic element so as to put a correlation coefficient ρ_n of the reception signal y(n) and a reference signal r(n) (the desired wave) closer to "1" and, on the basis of the operated current, operates a beam pattern virtually coincident with the desired wave.例文帳に追加

そして、適応制御型コントローラは、受信信号ｙ（ｎ）と参照信号ｒ（ｎ）（所望波）との相関係数ρ_ｎが”１”に近づくように無給電素子に流れる電流を演算し、その演算した電流に基づいて、所望波に実質的に一致するビームパターンを演算する。 - 特許庁

To provide a level block for a CMP device and the CMP device capable of polishing a workpiece by a surface reference method, capable of flatly polishing even a workpiece of wafer or the like with pattern without being influenced by its step difference, and capable of attaining almost complete global planarization.例文帳に追加

ワークを表面基準方式で研磨することができ、しかも、パターン付きウエハ等のワークについてもパターンの段差に影響されることなく平坦に研磨することができ、ほぼ完全なグローバルプラナリゼーションを達成可能なＣＭＰ装置の定盤及びＣＭＰ装置を提供する。 - 特許庁

The opposed two sides 6a, 6b of the pattern 3 incline with respect to a reference side 4a of the circuit board 1, and the projection lengths of the sides 6a, 6b to a vertical side 4b, i.e., the inclination fraction H' is set equal to the pixel size or integral multiple thereof.例文帳に追加

このアライメントマーク３の対向する平行な２辺６ａ，６ｂは電気回路基板の基準辺４ａに対して傾斜し、これら辺６ａ，６ｂの垂直辺４ｂへの投影長、即ち、傾斜量Ｈ’を画素サイズにほぼ等しくもしくはその整数倍程度とする。 - 特許庁

Since a correction amount determining pattern has a characteristic of the correction amount changing in response to magnitude of the correction reference amount, the sharpness correction is carried out for an appropriate correction amount in response to the level change of the original image data, and sharpening of the original image data can be carried out for an appropriate degree.例文帳に追加

ここで、補正量決定パターンは、補正基準量の大きさに応じて補正量が変化する特性を有するので、元画像データのレベル変化に応じて、適切な補正量だけシャープネス補正が行われることになり、適切な程度に元画像データの先鋭化を行うことができる。 - 特許庁

When a self-photographing mode is designated, a face position detecting means 180 detects the present face position from a through picture; and a reference position of a face, in a composition pattern preset by an evaluation value calculating part 181, is compared with the present face position to calculate an evaluation value.例文帳に追加

セルフ撮影モードが指定されたときには、スルー画から顔位置検出手段１８０で現在の顔位置を検出して、評価値算出手段１８１に予め設定された構図パターン中の顔の基準位置と現在の顔位置とを比較し評価値を算出する。 - 特許庁

For correction of the vibration state, vibration characteristics can be kept constant all the time by comparing the vibration measurement result with the reference vibration pattern to adjust the value of a drive command to an ultrasonic oscillator 7 and the value of a load command to a lifting drive unit 8.例文帳に追加

振動状態の較性処理に際しては、振動計測結果と基準振動パターンとを比較して超音波振動子７に対する駆動指令値および昇降駆動部８に対する荷重指令値を調整することにより、振動特性を常に一定に保つことができる。 - 特許庁

There are luminance value alteration sign patterns of a general system 103, and two kinds of concrete A 101 and B 102; and the concrete of the luminance value alteration sign pattern of the information elementary unit insert chip is determined and an image whose luminance value is varied by reference thereto is outputted.例文帳に追加

輝度値変更符号パタンは、一般系１０３、具体はＡ１０１、B１０２の２種があり、挿入情報と画像上の位置に応じて、情報基本単位挿入チップの輝度値変更符号パタンの具体を決め、これを参照して画像の輝度値を変更した画像を出力する。 - 特許庁

The detection output of a position shift detection mark is compared with a reference voltage Xm [V] stored in a nonvolatile memory (step S4) and when a difference larger than a specified value is not detected, it can not be known which of the real position shift detection pattern and noise is detected.例文帳に追加

不揮発メモリに記憶されている基準電圧Ｘｍ［Ｖ］と位置ずれ検出マークの検出出力を比較し（ステップＳ４）、所定値以上の差が検出できない場合には、本当に位置ずれ検出パターンを検出したのかノイズを検出したのか分からない。 - 特許庁

In a substrate 9 which is the processing target for a pattern drawing apparatus, a plurality of alignment marks 60, each of which being an information recording code for recording the relative position between a reference position on the substrate 9 and itself, are formed in an assembled state in a predetermined domain as an alignment region 92.例文帳に追加

パターン描画装置が処理の対象とする基板９においては、アライメント領域９２としての所定の範囲内に、それぞれが基板９上の基準位置と自身との相対位置を記録した情報記録コードである複数のアライメントマーク６０が集合して形成されている。 - 特許庁

To solve a problem that the color blur can not be calculated correctly because of the influence of the remarkable image formation unevenness due to the reference color derivation when a registration pattern is read for measurement of the color deviation in an image forming device which is used as an output device of computer, etc.例文帳に追加

コンピュータ等の出力機器として使用される画像形成装置において、色ずれ量を検出するためのレジストレーションパターンを読み取る際に、基準色の画像形成むらが大きい場合、その影響によって正しく色ずれ量を換算できず色ずれ量演算が正確に行えない。 - 特許庁

In each information table, the rendition times of some rendition patterns are adjusted, so as to allow an average rendition time, which is obtained by adding the products of the appearing rates by registered rendition pattern with the rendition times concerning the whole rendition patterns, to coincide with a prescribed reference average time.例文帳に追加

各情報テーブルは、登録されている演出パターン毎の出現率と演出時間との積をすべての演出パターンについて加算した平均演出時間が所定の基準平均時間と一致するようにいくつかの演出パターンの演出時間が調整されている。 - 特許庁

This image reader has a function which corrects the skew by reading an optional pattern arranged near a reference scale 103 by an optical device element, dividing image data into optional amounts of data in a main scanning direction on the basis of obtained data and shifting the data in a sub-scanning direction.例文帳に追加

画像読み取り装置において、基準スケール１０３近辺に配置された任意のパターンを光デバイス素子で読み取り、得られたデータをもとに画像データを主走査方向に任意のデータ量に分割し、そのデータを副走査方向にシフトすることにより、スキューを補正する機能を有する。 - 特許庁

The spray condition inspection apparatus photographs the cross section D of the visualized spray pattern, measures the width dimension, number, area, and center of gravity position in the cross section D, compares these various measured values with various preset reference values, and determines whether the spray condition of the transparent coating P is normal.例文帳に追加

そして、可視化した噴射パターンの断面Ｄを撮影して、その断面Ｄにおける幅寸法、数、面積、重心位置を測定し、これら各種測定値と予め設定されている各種基準値とを比較して、透明塗料Ｐの噴射状態が正常であるか否かを判定する。 - 特許庁

Next, an image of a test pattern is projected and is picked up by the camera, and difference between average RGB and reference RGB of the correction area is used as an evaluation function, and a setting parameter of a color having the largest absolute value of difference of RGB is changed in a reverse direction so that a sum of squares of the difference is minimized.例文帳に追加

次いで、テストパターンの画像を投射してカメラで取り込み、補正領域の平均ＲＧＢと基準ＲＧＢとの差を評価関数として、この差の二乗の和が最小となるように、RGBの差の絶対値が最も大きい色の設定パラメータを逆方向に変化させる。 - 特許庁

The plurality of lines constituting the detection object color pattern extend in the main scanning direction with one virtual straight line running in the sub scanning direction defined as a reference position, and the length dimension of the respective lines in the main scanning direction are formed stepwise long or short at uniform length dimensions.例文帳に追加

検出対象色パターンを構成する複数本のラインは、副走査方向に走る一つの仮想直線を基準位置として主走査方向に伸びており、各ラインの主走査方向の長さ寸法は、均等な長さ寸法で段階的に長くまたは短く形成されるようになっている。 - 特許庁

The in-focus position is detected surely and quickly by irradiating the sample with the measuring lighting to form a differential component in an image signal at all times even when the object to be measured is a reference having no differential component and when a pattern does not exist in a field of view.例文帳に追加

そして、測定用の照明を試料に照射して常に画像信号に微分成分を形成させることにより、測定対象物が微分成分の無いリファレンスである場合や、視野内にパターンが存在しない場合であっても、合焦点位置を確実かつ高速に検出する。 - 特許庁

A technology disclosed herein improves a level sensing margin in a weak data transmission cycle following after adjusting a substantial reference level for input sensing by a constant level toward a strong data direction in a strong data transmission cycle (in case of repeating data with the same polarity) by tracing a pattern of transmission data.例文帳に追加

伝送データのパターンを追跡し、強いデータ（同じ極性のデータが繰り返される場合）伝送サイクルで実質的な入力感知基準レベルを強いデータ方向に一定レベル分調整することにより、以後に続く弱いデータ伝送サイクルでのレベル感知マージンを向上させる技術である。 - 特許庁

The voltage (V1-V2) as the over current determination voltage between the point P2 on the copper foil pattern 4 connected with the source of the FET (T1) for switching and the drain P1 of the FET (T1) is supplied to the input terminal of the comparator CMP1 for comparing with the reference voltage V3.例文帳に追加

スイッチング用のＦＥＴ（Ｔ１）のソースに接続された銅箔パターン４の所定点Ｐ２と、該ＦＥＴ（Ｔ１）のドレインＰ１との間の電圧（Ｖ１−Ｖ２）を過電流判定電圧として、比較器ＣＭＰ１の入力端子に供給し、基準電圧Ｖ３と比較する。 - 特許庁

Furthermore, the comparison data are collated with reference data generated by inputting the shading correction data to the first function and stored in a storage device beforehand and when both the data are coincident with each other as the result of the collation, the output image data to which the tracking pattern is added are permitted to be printed out.例文帳に追加

さらに、比較データとシェーディング補正データを第１の関数に入力して生成されて予め記憶装置に記憶されている基準データとを照合し、照合の結果、両者が一致する場合に、追跡パターンが付加された出力画像データの印刷出力を許可する。 - 特許庁

Second index faces S2.S2, each of which comprises a line pattern where lines in parallel with the main scanning direction are formed with intervals providing roughness and fineness, are provided to areas P2.P2 at both outsides of the area P1 on the upper side of the 2nd reference white board 68 in the main scanning direction.例文帳に追加

第２基準白板６８の上面の領域Ｐ１より主走査方向両外側の領域Ｐ２・Ｐ２に、ライン同士が主走査方向に平行となるラインパターンをライン同士の間隔に疎密を持たせた状態で形成した第２指標面Ｓ２・Ｓ２を設ける。 - 特許庁

Besides, by arranging a variable transmissivity filter in the flash device 3 and changing the transmissivity distribution pattern stepwise in synchronism with the emission of the flash light, such risk can be prevented that the subject positioned at a close distance with reference to the camera 1 is overexposed by emitting light several times.例文帳に追加

また、フラッシュ装置３に透過率可変フィルタを設けてその透過率分布パターンをフラッシュ発光と同期させて段階的に変化させることにより、カメラ１から近距離に位置する被写体が複数回発光によって露出オーバーになってしまうのを防止できる。 - 特許庁

To reduce the error of an operation associated with assembly at the time of automatically assembling the mask pattern of a printed wiring board, and to largely shorten the preparing time of an assembly picture, and to instantaneously evaluate the legality of the assembly dimensions, and to provide a clarified confirmation reference with a picture.例文帳に追加

プリント配線板のマスクパターン自動面付において、面付に関する作業の誤りが減少し、面付図面の作成時間を大幅に短縮し、即座にその面付寸法の妥当性を評価することができ、明確化された確認基準を図面で提供する。 - 特許庁

Accordingly, even the coin having the figure and the pattern substantially the same as those of the genuine coins, made of the material with approximately equal conductivity thereto and impossible to be detected as the forged coin only by the sensor group 15 is detected as the forged coin when its collision force (elastic coefficient) does not satisfy a determination reference value.例文帳に追加

従って、形状や模様がほぼ同一で、かつ真貨と導電率が近似した材料からなり、検出センサ群１５のみでは偽貨であることが検出ができない硬貨に対しても、その衝突力（弾性係数）が判定基準値を満たさない場合には、偽貨として検出される。 - 特許庁

An I-CH signal 74 and Q-CH signal 75 as demodulated reception signals with respect to a selected frequency candidate are input to the respective shift register rows 200 and 201 which in turn individually compute correlation values A1 to A4 and correlation values B1 to B4 with respect to a reference pattern.例文帳に追加

選択された周波数候補に対して、復調された受信信号のＩ−ＣＨ信号７４とＱ−ＣＨ信号７５とをそれぞれのシフトレジスタ列２００、２０１に入力し、参照パターンとの相関値Ａ１〜Ａ４および相関値Ｂ１〜Ｂ４を部分列単位で個別に計算する。 - 特許庁

The radiographic apparatus includes: a moire image generating part 12 for generating the moire image p2 with a stripe pattern reflected therein, based on the reference image p1; and a defective pixel map generating part 13 for generating the defective pixel map p3 with the defective pixel reflected therein, based on the moire image p2.例文帳に追加

つまり、本発明には、参照画像ｐ１から縞模様のパターンが写りこんだモアレ画像ｐ２を生成するモアレ画像生成部１２と、モアレ画像ｐ２を基に欠損画素が写りこんだ欠損画素マップｐ３を生成する欠損画素マップ生成部１３とを備えている。 - 特許庁

In a half wavelength (λ/2) resonator composed of a microstrip line or a strip line, line pattern parts 4-1 to 4-n are located symmetrically with respect to a reference line Rx, connected to be mutually L-shaped, and formed into closed loop to have open terminals 4A and 4B.例文帳に追加

マイクロストリップ線路又はストリップ線路で構成される半波長（λ／２）共振器であって、線路パターン部４−１〜４−ｎが基準線Ｒｘに関して対称に配置され、互いにＬ字型を成すように連結されて開放端４Ａ、４Ｂを有するように開ループ状に形成されている。 - 特許庁

In the color filter substrate W, alignment between a manufactured TFT substrate Wt and a reference mask Ms is performed, a correction amount is calculated based on detected measurement data, exposure is performed in accordance with the correction amount and, therefore, the exposure is performed on the basis of the pattern precision of the manufactured TFT substrate Wt.例文帳に追加

カラーフィルタ基板Ｗは、製造したＴＦＴ基板Ｗｔと基準マスクＭｓとのアライメントを行なって、検出した測定データを元に補正量を算出し、この補正量に基づいて露光されるので、製造したＴＦＴ基板Ｗｔのパターンの精度に基づいて露光される。 - 特許庁