「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

This matrix organic EL display has such configuration that a specific mark pattern 6 is formed per predetermined number of elements from an element which becomes the end part or a reference position in a light emission display region 2 in the vicinity of the element in the light emission display region 2.例文帳に追加

発光表示領域２内の素子の近傍に、発光表示領域２内の端部あるいは基準位置となる素子から所定の素子数毎に特定の標識パターン６が形成されている構成のマトリクス型有機ＥＬディスプレイとした。 - 特許庁

Prior to the cache processing, the CPU 2 controls an area size of a storage area 701 for one character in the cache pattern storage area 7b according to attribute information, such as a character size and types of languages, which is a reference for characters of display targets.例文帳に追加

また、ＣＰＵ２は、キャッシュ処理に先立ち、キャッシュパターン格納エリア７ｂにおける一文字分の格納エリア７０１の領域サイズを、表示対象の文字における基準となる文字サイズ、及び言語の種類等の属性情報に応じて制御する。 - 特許庁

Then, each of the pattern RMp1-RMp4, RMs1, and RMs2 is illuminated with exposing lights, and projected images passing through the projecting optical system of the patterns are detected through openings on a reference board arranged on a wafer stage by a light-receiving sensor.例文帳に追加

そして、各パターンＲＭｐ１〜ＲＭｐ４、ＲＭｓ１、ＲＭｓ２を露光光により照明し、そのパターンの投影光学系を通過した投影像を、ウエハステージ上に配設された基準板上の開口部を介して受光センサで検出する。 - 特許庁

When it is evaluated that the wiring pattern 111 for test reaches a reference level for shipment as a product, the test region 102 is cut from the substrate 100 and the remaining product region 101 is shipped as the product.例文帳に追加

評価の結果、テスト用配線パターン１１１が製品として出荷することができる基準レベルに達しているとされた場合、テスト領域１０２が基板１００から切り取られ、残った製品領域１０１が製品として出荷される。 - 特許庁

In each irregular pattern 12, sections along central perpendiculars 30 are vertical straight lines to each side of the reference squares 14 passing through the centers of rotation symmetry at 90° of the contours in the plan view of the blocks 10 for connection are formed in specific surfaces 24.例文帳に追加

各凹凸パターン１２において、連結用ブロック１０の平面視の輪郭の９０度回転対称の中心を通り基準正方形１４の各辺に垂直な直線である中央垂直線３０に沿った部分を特定面２４とする。 - 特許庁

In the case of testing the DRAM etc., after externally inputted writing data or incorporated pattern data are written, data for one row are read and compared with the writing data or externally inputted reference data to determine whether a device passes or fails.例文帳に追加

DRAM等のテストに際して、外部入力した書き込みデータあるいは内蔵したパターンデータを書き込んだ後、１行分のデータを読み出し、書き込みデータあるいは外部入力した参照データと比較することにより良否(Pass/Fail) 判定を行う。 - 特許庁

The CPU refers to a chaining rule table stored in a chaining rule table ROM to retrieve a chain pattern about 'the classification' of the input word (step S4) and updates a first reference date in accordance with a corresponding interpretation rule (step S5).例文帳に追加

ＣＰＵは、連鎖ルールテーブルＲＯＭに記憶されている連鎖ルールテーブルを参照して、入力単語の「種別」についての連鎖パターンを検索し（ステップＳ４）、さらに対応する解釈ルールから第１の基準日時を更新する（ステップＳ５）。 - 特許庁

A brake oil pressure Pb is detected, and the variation ΔPb is calculated (S2), and when the variation ΔPb is not less than a variation decision reference value Po, it is decided that deceleration due to follow-up traveling is performed, and caution warning based on a normal pattern in a long cycle is issued (S4).例文帳に追加

ブレーキ油圧Ｐｂを検出し、その変化量ΔＰｂを算出した後(S2)、変化量Ｐｂが変化量判定基準値Ｐｏ以上のときは、追従走行による減速と判定し、長い周期のノーマルパターンによる注意警報を発する(S4)。 - 特許庁

A stream analysis part 203 extracts a stream from a stream storage part 202 and analyses coded information of the stream (reference picture number, motion vector information, block division pattern information on variable block size motion compensation, in-screen prediction mode information and the like).例文帳に追加

ストリーム解析部２０３は、ストリーム蓄積部２０２からストリームを取り出し、該ストリームの符号化情報（参照ピクチャ番号、動ベクトル情報、可変ブロックサイズ動き補償時のブロック分割パターン情報、画面内予測モード情報など）を解析する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a compound semiconductor crystal (an epitaxial substrate) capable of improving the alignment precision for a mask pattern with reference to an orientation flat in a device manufacturing process without reducing the device forming region of a substrate.例文帳に追加

基板のデバイス形成領域を狭めることなく、デバイス製造プロセスにおいてオリエンテーションフラットを基準とするマスクパターンの位置合わせの精度を向上させることができる化合物半導体結晶（エピタキシャル基板）の製造方法を提供する。 - 特許庁

Respective pattern transfer images 17, 18 are simulated using defect data 15 formed on the basis of a mask image around a defect in a mask 2 and reference data 16 corresponding to the mask image in design data for fabrication of the mask 2.例文帳に追加

マスク２が有する欠陥周辺のマスク像に基づいて作成された欠陥データ１５、およびマスク２の製作用の設計データのうちマスク像に対応する参照データ１６を用いて、それぞれのパターン転写像１７，１８をシミュレートする。 - 特許庁

By giving the pattern vector to the input layer of a neural network which uses learning vector quantization, neurons corresponding to reference vectors which expresses respective classes ignite and the class which corresponds to a neuron which ignites most frequency is regarded as the discrimination result.例文帳に追加

パターンベクトルを学習ベクトル量子化を用いたニューラルネットワークの入力層に与えることにより、各クラスを表わす参照ベクトルに対応したニューロンが発火し、最も発火頻度が高いニューロンに対応するクラスが識別結果とされる。 - 特許庁

The inside of the telop data area is sectioned into correction areas while a pattern of hues at a periphery of telop data is taken into consideration, and the respective sectioned areas are corrected using colors having hues lower than the hues detected in the telop data correction reference area.例文帳に追加

テロップデータ周辺の色相のパターンを考慮してテロップデータ領域中を補正領域に区分し、区分された夫々の領域をテロップデータ補正参照領域にて検出された色相よりも低い色調を有する色を用いて補正する。 - 特許庁

To restrain toner from being supplied to a photoreceptor cleaner downstream in developing process and excessive toner consumption by restraining toner from caking on a casing in a developing device, by allowing its long use, and by reducing the number of times that a reference pattern is formed.例文帳に追加

現像装置部でのケーシングへのトナー固着を抑制し、長期にわたって使用可能で、基準パターン作成回数を低減させて、現像工程の下流での感光体クリーニング装置へのトナー入力や余剰なトナー消費を抑制する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of performing the adjustment of image quality, without causing the productivity of the image forming apparatus to be lowered, by eliminating the cleaning of a reference pattern image formed on the surface of an intermediate transfer body, when adjusting the image quality.例文帳に追加

画質調整の際、中間転写体表面に形成される基準パターン像のクリーニングを省略することにより、画像形成装置の生産性を低下させることなく画質調整を実施することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A diffraction X-ray pattern is accurately read since an incident X-ray 2 serving as a reference is recorded in the position sensitive X-ray detector, by thinning a film thickness of the measured sample to measure the diffracted X-ray by the transmission X-ray.例文帳に追加

測定試料の膜厚を薄くして透過Ｘ線で回折Ｘ線を測定することにより、基準となる入射Ｘ線２も位置感応型Ｘ線検出器に記録されるため、回折Ｘ線パターンを正確に読み取ることができる。 - 特許庁

Plane shape is measured based on the fringes being formed through interference of a reference light comprising 0-order diffraction light reflected from the pattern face 7a of the diffraction optical element and a measuring light comprising the light reflected from the plane 8 to be inspected.例文帳に追加

回折光学素子の回折パターン面（７ａ）での反射０次回折光からなる参照光と被検面（８）での反射光からなる測定光との干渉によって形成される干渉縞に基づいて被検面の面形状を測定する。 - 特許庁

In the graphic pattern, figures individually constituting one or more pitch fixed arrays, which are positioned in a rectangular area surrounded by the representative array pitches while using the gravity center of a figure constituting the reference array as the center, are specified as component figures of a seed cell.例文帳に追加

図形パターンにおいて、基準アレイを構成する図形の重心を中心とし、代表アレイピッチで囲まれた矩形領域内に位置する、１以上のピッチ固定アレイのそれぞれを構成する図形を、種セルの構成図形として特定する。 - 特許庁

An image line segment a is calculated in the picked-up image, the identified pattern is retrieved to extract a real object line segment length A, and an objective reference distance Z0 (=f×A/a) is calculated to be stored, based on a focal distance f of a lens.例文帳に追加

また、撮像画像中の画像線分長ａを算出し、同定図形を検索してＣＡＤデータＦ上の実物線分長Ａを抽出し、レンズの焦点距離ｆに基づいて対物基準距離Ｚ０（＝ｆ×Ａ／ａ）を算出記憶する。 - 特許庁

The method comprises a process for storing a predetermined stencil pattern in a stencil buffer, a process for determining a stencil reference value based on the number of a viewing point and one of RGB components, and a process for determining a color mask so that the one component is drawn in a frame buffer.例文帳に追加

ステンシルバッファに所定のステンシルパターンを格納する過程と、視点番号とＲＧＢ成分のうちの１成分とから、ステンシル参照値を決定する過程と、１成分をフレームバッファに描画するようにカラーマスクを決定する過程とからなる。 - 特許庁

The ring hole 4 of the lower plate 3 is tapped on the surface of the iron-based material of a specimen for covering the entire reference piece 1 with magnetic particles, and irradiation by the magnetic flaw detector is made, thus detecting a ring pattern corresponding to the ring hole 4 at the surface side of the upper plate 2.例文帳に追加

被検体の鉄系材料の表面に下プレート３のリング孔４を当て基準ピース１全体を磁粉で覆い、磁気探傷器による照射を行い上プレート２の表面側にリング孔４に対応するリング模様を検出する。 - 特許庁

When adjusting an image forming condition before forming the image, a sticking toner quantity on a toner sticking pattern is detected by a P sensor, and a toner concentration control reference value Vref in a developing device is set based on the detected value.例文帳に追加

本発明の画像形成装置は、画像形成前の作像条件調整時において、Ｐセンサにより、トナー付着パターンにおけるトナー付着量を検知し、この値に基づき、現像装置内のトナー濃度制御基準値Ｖｒｅｆを設定する。 - 特許庁

A recording surface Sxy is set on a XY plane in an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz is set on a YZ plane, a reference axis R is set on a Z axis and a three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

A motion searching unit 102 performs motion search of images for each macroblock from an image input unit 101 while changing the reference images for each of division units, which are formed by dividing the screen according to division pattern information from a division designating unit 104 or 105.例文帳に追加

画像入力部１０１からのマクロブロック毎の画像を、動き探索部１０２が分割指定部１０４あるいは１０５からの分割パターン情報に従って分割される分割単位毎に参照画像も変更しながら動き探索を行う。 - 特許庁

An evaluation calculation section 12 executes the evaluation calculation to detect minimum values from the evaluation calculation values by the number of searching movement times of the reference image macroblock M1 instructed by the searching pattern per one time so as to detect a lowest value among the minimum values.例文帳に追加

評価計算部１２は、１回当たりの探索パターンで指示される参照画マクロブロックＭ１の探索移動回数分、評価計算を実行して評価計算値の中から極小値を検出し、極小値の中の最小値を検出する。 - 特許庁

A player can recognize timing which is to be a reference when a music piece is performed, by vibrating a vibration section 92 of a performance support section 90 with a vibration pattern in which timing specified based on a music piece data is emphasized.例文帳に追加

楽曲データに基づいて特定されたタイミングが強調される振動パターンで演奏補助部９０の振動部９２を振動させることにより、楽曲を演奏する際の基準とすべきタイミングを演奏者に認識させることができる。 - 特許庁

According to test pattern data, an identical and uniform colored image is recorded in a reference region 930 and comparison regions 931-934, and uniform clear images of different dot density are recorded on the uniform colored image in the comparison regions 931-934.例文帳に追加

テストパターンデータに従って、基準領域９３０および比較領域９３１〜９３４に同一の均一有色画像が記録され、比較領域９３１〜９３４の均一有色画像上に、ドット密度が異なる均一クリア画像が記録される。 - 特許庁

A three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set by setting a recording surface Sxy on an XY plane of an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz on a YZ plane, and a reference axis R on a Z axis.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

After emergency operation is executed in earthquake, diagnosis operation is executed by measuring predetermined elevator equipment, making an elevator car travel, and comparing a measurement value and the reference pattern with each other so as to diagnose existence of abnormality of the equipment.例文帳に追加

地震時管制運転を実施した後、エレベータのかごを走行させながら所定のエレベータ機器に対する測定を行い、その測定値と参照パターンとを比較することによって機器の異常の有無を判断する診断運転を実施する。 - 特許庁

This system has a chamber for receiving a sample of the suspension while circulating the suspension in a mechanical system, and an interferometer for generating an interference pattern by combining a reference signal, and a signal emitted from the sample showing a characteristic in the suspension.例文帳に追加

懸濁液を機械的システム内に循環させながら、懸濁液のサンプルを受け入れるチェンバと、基準放射信号と、懸濁液内の特性を表すサンプル放射信号を組み合わせることにより、干渉パターンを生成する干渉計とを有する。 - 特許庁

A method of establishing a reference bit in the bit pattern includes: identifying a series of bit sequences in the bit pattern including all bit sequences having the largest number of consecutive bits with a common logic state; and assigning a reference bit on the basis of one bit sequence in the series when the series includes only one bit sequence.例文帳に追加

上述した課題は、ビットパターンに基準ビットを設定するための方法であって、共通の論理状態を有する連続したビットの最大個数を有するすべてのビットシーケンスを含む一続きのビットシーケンスを前記ビットパターンにおいて識別すること、及び、前記一続きのビットシーケンスが、ビットシーケンスを２つ以上含まない場合、前記一続きのビットシーケンスにおける１つのビットシーケンスに基づいて基準ビットを割り当てること、を含むビットパターンに基準ビットを設定するための方法等により解決することができる。 - 特許庁

The control means is configured to extract the adjacent divided images in a predetermined order from one specified image, detect images in the same pattern formation area included in the overlapping area for each of the two adjacent divided images as a synthetic reference image, then, synthesize the two adjacent divided images based on the synthetic reference image, and then, form an SEM image in the entire observation area.例文帳に追加

制御手段は、指定された一つの分割画像から所定の順序で隣接する分割画像を抽出し、隣接する２つの分割画像毎に重複領域に含まれる同一のパターン形成領域の画像を検出して合成基準画像とし、合成基準画像を基に隣接する２つの分割画像を合成して、観察領域の全体のＳＥＭ画像を形成する。 - 特許庁

This pattern defect inspection device includes a nearest 8 chips, which are adjacent to the detected image and positioned diagonally in the lateral and vertical directions while putting the detected image between them, and has a means creating an average reference image from images of the same shape patterns by statistical computing and a means detecting the defect by comparing the detected image with the average reference image.例文帳に追加

このパターン欠陥検査装置は、検出画像に隣接する少なくとも検出画像を挟んだ左右上下斜めに隣接する最近接８チップを含んで同一形状のパターンの画像から統計的演算処理により平均参照画像を生成する手段と検出画像を生成された平均参照画像と比較して欠陥を検出する手段とを備える。 - 特許庁

In a synthesizer apparatus, first and second PLL synthesizer sections 11 and 12 are disposed on a printed circuit board 13, a reference signal is applied from a reference oscillator 14 via a wiring pattern 13a formed on the substrate to the first and second PLL synthesizer sections, and any one of output signals from the first and second PLL synthesizer sections is selected by a selecting switch (SW) 45.例文帳に追加

プリント基板１３上には第１及び第のＰＬＬシンセサイザ部１１及び１２が配置され、第１及び第２のＰＬＬシンセサイザ部には基板に形成された配線パターン１３ａを介して基準発振器１４から基準信号が与えられ、選択スイッチ（ＳＷ）４５によって第１及び第２のＰＬＬシンセサイザ部からの出力信号のうちいずれか一方が選択される。 - 特許庁

The phase shift interferometer comprises: an illumination optical system 200 for emitting P wave and S wave; a collimate lens 110; a reference half mirror 120; a pinhole plate 130 having a pinhole 131; and a phase shift interference pattern acquiring section 300 for making object light included in a luminous flux passing the pinhole 131 interfere with the reference light at four different phases, and for acquiring interference patterns of differential phases.例文帳に追加

Ｐ波とＳ波とを発射する照明光学系２００と、コリメートレンズ１１０と、参照ハーフミラー１２０と、ピンホール１３１を有するピンホールプレート１３０と、ピンホール１３１を通過する光束に含まれる物体光と参照光とを４つの異なる位相で干渉させて異なる位相の干渉縞を得る位相シフト干渉縞取得部３００と、を備える。 - 特許庁

First and second PLL synthesizer units 11 and 12 are disposed on a printed circuit board 13, a reference signal is applied from a reference oscillator 14 via a wiring pattern 13a formed on the substrate to the first and second PLL synthesizer units, and any one of output signals from the first and second PLL synthesizer units is selected by a selection switch (SW) 45.例文帳に追加

プリント基板１３上には第１及び第のＰＬＬシンセサイザ部１１及び１２が配置され、第１及び第２のＰＬＬシンセサイザ部には基板に形成された配線パターン１３ａを介して基準発振器１４から基準信号が与えられ、選択スイッチ（ＳＷ）４５によって第１及び第２のＰＬＬシンセサイザ部からの出力信号のうちいずれか一方が選択される。 - 特許庁

A chart pattern image 2 is emitted from a reference point to a plurality of points on an object face Oj to be focused on a plurality of measuring points determined on the object face, a reflected image from each point is photoelectrically detected at a conjugate point of the reference point, and a flatness of the object face Oj is measured on the basis of the detected value.例文帳に追加

対象面Ｏｊ上の複数の点に対して基準点からチャートパターン像２を出射して前記対象面に設定した複数の測定点において結像させると共に、各点からの反射像をそれぞれ前記基準点の共役点において個々に光−電気的に検出し、その検出値に基づいて前記対象面Ｏｊの平面度を測定すること。 - 特許庁

The entire region of image data obtained by photographing a target electronically is stored; reference pixels are successively selected from the entire region of image data according to a prescribed pattern; the color information of the reference pixels is discriminated and prescribed statistical processing is executed; and the parameters of prescribed image processing are determined based on the result of statistical processing, thus performing image processing to the image data.例文帳に追加

対象物を電子撮影して得られた画像データの全域を記憶し、画像データの全域から所定のパターンに従って参照画素を逐次選択し、参照画素の色情報を判別して所定の統計処理を実施し、その後、統計処理の結果に基づいて、所定の画像処理のパラメータを決定して、画像データに画像処理を施すようにした。 - 特許庁

In the detector for detecting the movement of gas which is generated in between a comparison chamber with infrared light passing through a sample incident thereon, and a reference chamber with infrared light which is not absorbed by the sample by a flow sensor, the comparison chamber, the reference chamber, and the flow sensor are formed three-dimensionally through etching and pattern formation.例文帳に追加

試料を透過した赤外光が入射される比較室と、前記試料の吸収を受けない赤外光が入射される基準室との間に生じるガスの移動をフローセンサで検出する検出器において、エッチングおよびパターン成形により、前記比較室と前記基準室と前記フローセンサが基板中に立体形成されたことを特徴とする検出器。 - 特許庁

On a printed board 13, 1st and 2nd PLL synthesizer parts 11 and 12 are arranged and a reference signal is provided from a reference oscillator 14 through a wiring pattern 13a formed on the board, and a selector switch (SW) 45 selects one of output signals from the 1st and 2nd PLL synthesizer parts.例文帳に追加

プリント基板１３上には第１及び第のＰＬＬシンセサイザ部１１及び１２が配置され、第１及び第２のＰＬＬシンセサイザ部には基板に形成された配線パターン１３ａを介して基準発振器１４から基準信号が与えられ、選択スイッチ（ＳＷ）４５によって第１及び第２のＰＬＬシンセサイザ部からの出力信号のうちいずれか一方が選択される。 - 特許庁

This Gatch bed is so constituted that, when the bed floor part 1 is vertically moved from the attitude deviated from a reference set attitude based on the preset operation pattern, a control part 7 performs first and second correcting operation controls in the vertical movement direction based on a command to return the floor part 1 to the reference set attitude, and then performs the drive control based on the set operation control.例文帳に追加

ベッド床部１が予め設定された作動パターンに基づく基準設定姿勢から逸脱している姿勢から上下作動を行う場合、制御部７は、指令に基づく上下作動の作動方向で第一、第二の補正作動制御を実行して、床部１を基準設定姿勢に復帰させ、その後、設定作動制御に基づく駆動制御を実行するように構成する。 - 特許庁

In the alignment processing method for radiating optical energy to an alignment film formed on a substrate through a photomask to provide alignment characteristics on a surface of the alignment film, the photomask is relatively moved along a linear pattern formed on the substrate, and a deviation is detected by a positional relation between the linear pattern and a reference pattern formed on the photomask, and the photomask is moved in a direction orthogonal to a movement direction of the substrate to correct the deviation.例文帳に追加

基板上に形成した配向膜に、フォトマスクを介して光エネルギを照射して前記配向膜表面に配向特性を与える配向処理方法であって、前記フォトマスクを、前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させると共に、前記線状パターンと、前記フォトマスクに形成された基準パターンとの位置関係からズレ量を検出し、前記フォトマスクを、前記基板の移動方向と直交する方向に移動させてズレ量を補正させる。 - 特許庁

In the game machine in one embodiment, a specific presentation pattern in which the degree of expectancy is at least a prescribed reference value or higher is selected when the result of a winning lottery is a miss, and when the game state when the specific presentation pattern is selected satisfies a prescribed condition, a guide presentation executing means executes guide presentation for urging the player to perform ball shooting operation to advance the play advantageously to the player.例文帳に追加

ある態様の遊技機においては、期待度の高さが所定基準以上となる特定の演出パターンが当否抽選の結果が外れであるときに選択され、その選択されたときの遊技状態が所定の条件を満たす場合に、ガイド演出実行手段が、遊技を遊技者に有利に進行させるための打球操作を促すガイド演出を実行する。 - 特許庁

The integrated circuit 1 comprises: a flexible printed-circuit board 2 having a wiring pattern 4; an insulating protective film 7 provided to coat a part on the wiring pattern 4; a conductive adhesive film 8 coated by the part on at least the insulating protective film 7 and connected to the reference potential; and an integrated circuit element 1 arranged in contacting on the conductive adhesive film 8.例文帳に追加

集積回路１は、配線パターン４を有するフレキシブルプリント配線板２と、配線パターン４上の一部に覆設された絶縁性保護膜７と、少なくとも絶縁性保護膜７上の一部に覆設され、かつ基準電位に接続される導電性接着膜８と、導電性接着膜８上に接して配置された集積回路素子１とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The reference grid manufacturing device 10 is constituted such that the photo-curing resin layer 18 is cured by irradiation with ultraviolet rays from below it with the photo-curing resin layer 18 interlaid between the microirregularity pattern 12 of the tabular transfer master 14 and the flat surface 16 of the replica base 20 to press the microirregularity pattern to the photo-curing resin layer 18.例文帳に追加

基準格子製造装置１０では、平板状転写マスタ１４と微細凹凸形状パターン１２とレプリカベース２０の成型用平面１６との間に光硬化性樹脂層１８を介在し、光硬化性樹脂層１８に微細凹凸形状パターン１２を押圧させた状態で、光硬化性樹脂層１８の下方から紫外線を照射して光硬化性樹脂層１８を硬化させる。 - 特許庁