「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

After then, with prescribed timing, the density of the pattern formed in the printer is measured with the sensor (S1404) and based on a density variation obtained by comparing the measured value with the reference value (S1402), a density correction table is corrected (S1403).例文帳に追加

その後、所定のタイミングで、プリンタ内に形成したパターンの濃度をセンサで測定し（Ｓ１４０１）、該測定値を基準値と比較して得られた濃度変動量に基づいて（Ｓ１４０２）、濃度補正テーブルを補正する（Ｓ１４０３）。 - 特許庁

Even when an interval of measured patterns is deviated, the deviation does not give any effect on the light emitting position of the phosphors by specifying the light emitting position based on the reference position of the coordinate system calculated for each measurement pattern.例文帳に追加

測定パターン毎に算出した座標系の基準位置に基づき発光位置を特定することにより測定パターンのパターン間隔がずれている場合にもそのずれが発光螢光体の発光位置に影響しないようにした。 - 特許庁

In processing for obtaining light quantity correction information, first density variation measuring patterns (MP1 to MP4) are created in synchronization with a drum home position sensor, and a first correction reference pattern is generated on the basis of an output signal of a density detector.例文帳に追加

光量補正情報取得処理では、ドラムホームポジションセンサに同期して第１濃度変動測定用パターン（ＭＰ１〜ＭＰ４）が作成され、濃度検出器の出力信号に基づいて、補正用第１基準パターンが生成される。 - 特許庁

Timing P2, P3,... for starting the detecting subsequent sets of image misregistration correcting patterns 22-2, 22-3,... and so on is determined, based on the positional information of the reference pattern 22-1Y in the first set of image misregistration correcting patterns 22-1.例文帳に追加

第１セットの位置ずれ補正用パターン２２−１の基準作像色パターン２２−１Ｙの位置情報に基づいて、第２セット以降の位置ずれ補正用パターン２２−２，２２−３，・・・の検出開始タイミングＰ２，Ｐ３，・・・を決定する。 - 特許庁

To provide a projection exposure method, in which a circuit pattern is formed at an accurate position even if relative position relation or an arrangement of respective reference marks deviates from a design value, and a decrease in throughput of manufacture of a printed circuit board is small.例文帳に追加

各基準マークの相対的な位置関係や配置が設計値に対して偏移しても回路パターンを的確な位置に形成でき、且つ、プリント基板の製造のスループット低下が少ない投影露光方法を提供する。 - 特許庁

In order to improve the performance of standard monitor connection, for example, VGA monitor connection, a display adapter of a computer device generates a reference signal pattern for use in calibration of a signal received by a connected display monitor.例文帳に追加

標準のモニタ接続、たとえば、ＶＧＡモニタ接続の性能を向上させるため、コンピュータ・デバイスのディスプレイ・アダプタが、接続された表示モニタによって受け取られる信号を較正するのに使用される基準信号パターンを生成する。 - 特許庁

The scanning controller further generates a first light quantity correction signal and a second light quantity correction signal and corrects a driving signal of each light emission section at the each station by using the reference pattern and the light emission power correction equation when an image is formed.例文帳に追加

そして、画像形成が行われる際に、ステーション毎に、基準パターン及び発光パワー補正式を用いて、第１光量補正信号及び第２光量補正信号を生成し、各発光部の駆動信号を補正する。 - 特許庁

A business form 1 is provided with a region 2 where processing object information is arranged and a pattern showing a reference position for specifying the position of the region 2, and expressing at least the size information of the region 2.例文帳に追加

帳票１には、処理対象の情報が配置される領域２と、この領域２の位置を特定するための基準位置を示すとともに、領域２のサイズ情報を少なくとも表現したパターンが設けられている。 - 特許庁

To eliminate restriction by the pattern layout and to reduce or prevent mixture of noise in the reference voltage for detecting a sensor signal even when a sensor signal detection circuit for automobile is mounted on a circuit substrate together with an oscillator circuit which may be a noise generating source.例文帳に追加

ノイズ源となる発振回路と一緒に回路基板に搭載する場合にもパターンレイアウトの制約をなくし、しかもセンサ信号を検出するための基準電圧にノイズが混入するのを低減または防止する。 - 特許庁

A controller C outputs a reference signal or a correction signal as a magnetically exciting signal for magnetically exciting the solenoid on-off valves 26A to 26D and the solenoid on-off valves 27A to 27D on the basis of reading results of a weft selection pattern.例文帳に追加

制御装置Ｃは、緯糸選択パターンの読み取り結果に基づいて、電磁開閉弁２６Ａ〜２６Ｄ又は電磁開閉弁２７Ａ〜２７Ｄを励磁するための励磁信号として、基準信号又は補正信号を出力する。 - 特許庁

A phantom having pins 220-227 located at positions in the phantom is scanned, and the estimated positions of the pins 220-227 with respect to the reference position are computed (320, 330) on the basis of at least one of the estimated detector positions and motion pattern.例文帳に追加

ピン（２２０〜２２７）をその内部の各位置に配置させたファントーム（２００）をスキャンし、推定検出器位置と移動パターンの少なくとも一方に基づいて基準位置に対するピン（２２０〜２２７）推定位置を算出する（３２０、３３０）。 - 特許庁

The printer provided with an auto-cutter cuts the cutting position adjusting pattern 300, determines the shift between a resulting reference cutting point and an actually cut line and then corrects the cutting position at the time of actual cutting operation.例文帳に追加

オートカッターを備えたプリンタは、カット位置調整用パターン３００を切断し、この結果によって基準となるカット用ポイントと、実際にカットしたラインとのずれ量を求め、実際のカット動作時においてカット位置ずれを補正する。 - 特許庁

To provide an inexpensive image forming apparatus in which excellent cleaning performance is obtained by preventing the occurrence of detective cleaning due to a reference pattern prepared on an image carrier even in the case of using developer having a small and spherical particle size.例文帳に追加

小径、球形の現像剤を使用する場合でも、像担持体上に作成された基準パターンに起因するクリーニング不良の発生を防いで、良好なクリーニング性能が得られる低コストの画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A pattern of spacer pedestals is created by deposition and etch back, or by a surface etch process to precisely reference surface information from a master surface to a carrier wafer 12 to a thin optically transmissive wafer 14.例文帳に追加

マスタ表面からキャリヤ・ウェーハ１２への表面情報を薄い光透過型ウェーハ１４に正確に引用するために、付着およびエッチ・バックによって、あるいは表面エッチ・プロセスによってスペーサ・ペデスタルのパターンが生成される。 - 特許庁

The high precision LUT49B is used at a proofreading control section 82 for creating a newest LUT at an LUT creating section 88 based on reference data from a test pattern memory 84 and measurement data (from a read data memory 86), i.e. measurement of that print.例文帳に追加

高精度ＬＵＴ４９Ｂは、校正制御部８２において、テストパターンメモリ８４から基準データとそのプリントの計測結果である計測データ（読取データメモリ８６）からＬＵＴ生成部８８で最新のＬＵＴが生成される。 - 特許庁

A two-layer structure is provided to, for example, one cladding layer 4 of two cladding layers 3, 4 so stacked that a core layer 2 as an optical waveguide on which reference light B1 is made incident is held between these, and a hologram pattern is formed between the two layers of the cladding layer 4.例文帳に追加

参照光Ｂ１が入射される光導波路としてのコア層２を挟むようにして積層される２つのクラッド層３，４のうち、例えば一方のクラッド層４を二層としてこれらの間にホログラムパターンを形成する。 - 特許庁

First, signal light 5 of P polarization for retaining data information according to space intensity distribution and including an alignment pattern is obtained, and a hologram is recorded into an optical storage medium 10 by reference light 6 of P polarization.例文帳に追加

最初に、Ｐ偏光の信号光５として、空間強度分布によりデータ情報を保持し、かつ位置合わせ用パターンを含むものを得て、Ｐ偏光の参照光６によって、光記録媒体１０中に第１のホログラムを記録する。 - 特許庁

The solid-state image pickup device includes a pixel region used to generate pixels, the black reference region provided outside the pixel region, and a dummy region provided between the black reference region and the pixel region, and including a light shield pattern 113A for blocking light 10 entering the black region from the pixel region.例文帳に追加

固体撮像装置は、画素の生成に使用される画素領域と、前記画素領域の外側に設けられた黒基準領域と、前記黒基準領域と前記画素領域との間に設けられ、前記画素領域から前記黒領域に侵入する光１０を遮光するための遮光パターン１１３Ａを含むダミー領域とを具備している。 - 特許庁

A detection stage comprises a step where the multilayer wiring board is irradiated with the X-ray to image the reference mark, a step where the picked-up image is scanned with the template for a pattern matching process, a step where the center position of the image of the reference mark is detected based on the center position data registered in the template, and a step to output the data.例文帳に追加

また、多層配線板にＸ線を照射して基準マークを撮像するステップ、撮像された画像にテンプレートをスキャンしてパターンマッチング処理をするステップ、テンプレートに登録されている中心位置データに基づいて基準マークの画像の中心位置を検出するステップ、このデータを出力するステップからなる検出段階での各ステップを具備する。 - 特許庁

In recording information on the optical information recording medium, an information recording layer of the optical information recording medium is irradiated with an information light and a recording reference light from the same side by an objective lens 133, and information is recorded on the information recording layer by an interference pattern by the interference between the information light and the recording reference light.例文帳に追加

光情報記録媒体に対する情報の記録時には、対物レンズ１２３によって、情報光と記録用参照光とが、光情報記録媒体の情報記録層に対して同一面側より照射され、情報記録層に情報光と記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁

In this pneumatic tire provided with a tread pattern having the rib 1 continuous on the whole periphery of the tire through a plurality of sipes 11, the sipe 11 has a reference face B in the width direction or oblique direction of the tire, and a recessed part 11a and a projecting part 11b respectively projected onto the opposite sides with respect to the reference face B.例文帳に追加

複数のサイプ１１を介してタイヤ全周に連続するリブ１を有するトレッドパターンを備えた空気入りタイヤにおいて、前記サイプ１１は、タイヤ幅方向又は斜め方向の基準面Ｂを有すると共に、その基準面Ｂに対して各々逆側に突出した凹部１１ａと凸部１１ｂを有することを特徴とする。 - 特許庁

The alignment mask D of the head unit 1 carrying a plurality of the droplet delivery heads 3 on the single carriage 2 is provided with a master plate 161 being a pattern formation of a reference position 164 of each droplet delivery head 3 in a planar surface parallel to the nozzle formative surface 52 of the droplet delivery head 3 and a reference position 165 of the carriage 2.例文帳に追加

単一のキャリッジ２に複数の液滴吐出ヘッド３を搭載したヘッドユニット１のアライメントマスクＤであって、液滴吐出ヘッド３のノズル形成面５２に平行な平面内における各液滴吐出ヘッド３の基準位置１６４およびキャリッジ２の基準位置１６５をパターン形成したマスタプレート１６１を備えたものである。 - 特許庁

The spatial light modulator having a plurality of pixel areas 50P is provided with a mask 52, which has a grid pattern for optically dividing a pixel that emits the reference light to an emission face side, into a plurality of divided pixels so that the area of a single divided pixel, emitting the reference light, becomes substantially smaller than the area of one pixel emitting the information light.例文帳に追加

空間光変調器は、複数の画素領域(50P)を有し、参照光を出射する１つの分割画素の面積が情報光を出射する１つの画素の面積よりも実質的に小さくなるように、出射面側に参照光を出射する画素を複数の分割画素に光学的に分割するための格子状パターンを有するマスク(52)を有する。 - 特許庁

The projection aligner has an alignment light radiating means for radiating an alignment light on a projection lens, from the back side of an exposure light irradiating means to a mounting means for irradiating a first reference mark provided on the mounting means and a second reference mark provided on a pattern substrate with the alignment light.例文帳に追加

アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 - 特許庁

When a hole pattern to be formed above a substrate is formed, a bias correction amount in the formation of a correction object hole 101 is set by extracting a correction reference hole 103 present in a region influencing the formation of the correction object hole 101 and considering the plane arrangement of the extracted correction reference hole 103.例文帳に追加

基板の上部に形成されるホールパターンを形成する際に、補正対象ホール１０１の形成に影響を与える領域内に存在する補正参照ホール１０３を抽出し、抽出された補正参照ホール１０３の平面配置を考慮して、補正対象ホール１０１の形成におけるバイアス補正量を設定する。 - 特許庁

When a pattern is drawn along concentric tracks on a substrate, blanking of electron beams is performed in a first region in the sector by using a first clock signal generated on the basis of a first reference length and blanking of electron beams is performed in a second region in the sector by using a second clock signal generated on the basis of a second reference length.例文帳に追加

基板上の同心円トラックに沿ってパターンを描画する際に、セクタ内の第１領域内では、第１基長さに基づいて生成された第１クロック信号を用いて電子線をブランキングさせ、セクタ内の第２領域内では、第２基準長さに基づいて生成された第２クロック信号を用いて電子線をブランキングさせる。 - 特許庁

A reference pattern database 15 stores a plurality of reference patterns for each peripheral environment and a scene judgment part 12 judges an environment around its own vehicle by using outputs from a navigation device 30, a camera 31, an illuminance sensor 32, a timer 33, a light switch 34, a wiper switch 35, a raindrop sensor 36, an external communication device 37, and a VICS receiver 38.例文帳に追加

基準パターンデータベース１５が、周辺の環境別に複数の基準パターンを記憶し、シーン判定部１２がナビゲーション装置３０、カメラ３１、照度センサ３２、タイマ３３、ライトスイッチ３４、ワイパースイッチ３５、雨滴センサ３６、外部通信装置３７、ＶＩＣＳ受信装置３８の出力を用いて自車両周辺の環境を判定する。 - 特許庁

The reader of the coordinate pattern photographs a display surface in a photography range, detects a pixel at a crossing position from within a photograph image signal as a reference pixel, and detects X coordinate data and Y coordinate data on the basis of the turn-on and turn-off states of respective read pixels in accordance with the present position of the reference pixel within the photography range.例文帳に追加

座標パターンの読取装置は、撮影範囲にて表示面を撮影し、その撮影画像信号中から交差する位置の画素を基準画素として検出し、撮影範囲内における基準画素の存在位置に対応して読取画素各々の点灯及び消灯状態に基づいてＸ座標データ及びＹ座標データを各々検出する。 - 特許庁

The space 8 is a pattern for focus management, having a width less than the resolution of light used for exposure; and when focus exists in a reference range, a shape resulting from the space 8 does not appear in the developed resist layer and when the focus deviates from the reference range, a shape resulting from the space 8 appears in the developed resist layer.例文帳に追加

スペース８は、焦点管理用パターンであり、その幅は露光に使用する光の解像度未満であり、光の焦点が基準範囲内にあるときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現せず、光の焦点が基準範囲から外れているときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現する。 - 特許庁

The moving control section 1301 keeps the movable accessary 130 at the advanced position over a plurality of times of variations by a variation means after making the movable accessary 130 move from the reference position to the advanced position and then makes the movable accessary 130 move from the advanced position to the reference position during the variation of a pattern with a variation period of time which is longer than the moving period of time.例文帳に追加

移動制御部１３０１は、可動役物１３０を基準位置から進出位置まで移動させた後、変動手段による複数回の変動にわたって可動役物１３０を進出位置に維持させ、移動時間よりも長い変動時間による図柄の変動中に、可動役物１３０を進出位置から基準位置に移動させる。 - 特許庁

The delivering circuit 132 includes a rate generator 144, a fail capture control 146 which specifies a defective cell and performs an output to the outside, a timing generator 148 which generates a timing signal based on a reference test frequency signal, and a pattern generator 150 which outputs an address signal for reading pattern information from the outside to the outside.例文帳に追加

受け渡し回路１３２は、レイト・ジェネレータ１４４と、不良セルを特定して、外部に出力するフェイル・キャプチャー・コントロール１４６と、基準試験周波数信号を基に、タイミング信号を発生するタイミング・ジェネレータ１４８と、パターン情報を外部から読み出すためのアドレス信号外部に出力するパターン・ジェネレータ１５０とを備える。 - 特許庁

A drawing information processing section 2 of a drawing apparatus 6 stores, in a pattern table 31 of a database 3, a reduction scale of a logo used for telop or a profile of the telop and when using the same logo for new telop creation later, the pattern table 31 is read out, compared for reference with a profile of telop to be newly designed or the like and re-utilized for telop editing.例文帳に追加

作画装置６の作画情報処理部２は、データベース３のパタンテーブル３１にテロップに用いたロゴの縮小率や、テロップのプロファイルを記憶し、後から同じロゴを新たなテロップ作成に用いる時、パタンテーブル３１を読み出して新しく設計するテロップのプロファイル等と比較参照してテロップ編集に再利用する。 - 特許庁

A processor 11 receives a user designation as to which of colors indicated in a comparison image displayed on a display device 4 is similar to each of colors formed on a reference printed matter according to the processing, based on a color profile selection program 16a, and retrieves a color profile including a pattern similar to the designated pattern from a color profile table 16b.例文帳に追加

カラープロファイル選定プログラム１６ａに基づく処理によりプロセッサ１１は、基準印刷物に形成される色のそれぞれについて、ディスプレイ４に表示された比較用画像に示される色のいずれが類似するかのユーザ指定を受け付け、この指定パターンに類似するパターンを含んだカラープロファイルをカラープロファイルテーブル１６ｂ中から検索する。 - 特許庁

The control part 302 controls the light distribution pattern in a switching system in response to position information on a front vehicle when the information is the content of indicating the presence of the front vehicle, and takes preference of switching to the light distribution pattern for the low beam regardless of the existence of the front vehicle when the information is the content of indicating a steeper curve road state than a reference curve road.例文帳に追加

制御部３０２は、情報が前方車の存在を示す内容である場合、前方車の位置情報にしたがって配光パターンを切替制御する一方、情報が基準曲路より急な曲路状態を示す内容である場合、前方車の有無に拘わらずロービーム用配光パターンへの切り替えを優先する。 - 特許庁

The light-shielding signal control circuit 208 sets a pattern region S1 that receives the information reproducing light and a non-light shielding region S2 that receives reference reproducing light in the light-shielding liquid crystal panel 40, and sets the highest transmittance for the pixel of the pattern region S1 and sets the lowest transmittance for the pixel of the non-light shielding region S2.例文帳に追加

遮光用信号制御回路２０８は、遮光用液晶パネル４０に情報再生光が入射するパターン対応領域Ｓ１および参照再生光が入射する非遮光対応領域Ｓ２を設定し、パターン対応領域Ｓ１の画素の透過率を最高値に、非遮光対応領域Ｓ２の画素の透過率を最低値に設定する。 - 特許庁

An image processor 6 binarizes a photographed image, extracts a feature parameter of an individual pattern included in a binarized image, extracts the pattern with the feature parameter fit to a prescribed condition as a concealed mark formed preliminarily in the spectacle lens, finds a reference position, based on a position of the concealed mark, and finds an angle deviation of the spectacle lens.例文帳に追加

画像処理装置６は、撮影された画像を２値化して、２値化画像に含まれる個々の図形の特徴パラメータを抽出して、特徴パラメータが所定の条件に合う図形を眼鏡レンズに予め形成された隠しマークとして抽出し、隠しマークの位置に基づいて基準位置を求めると共に、眼鏡レンズの角度ずれを求める。 - 特許庁

The reduction pattern selection section 17 selects a reduction pattern from among the plurality of reduction patterns in the storage section 16 in accordance with baseline consumption acquired by the reference amount acquiring section 14 and final predictive power consumption determined by the use planned amount arithmetic section 15 in such a manner that use of resources within the unit term achieves the use reduction target.例文帳に追加

削減パターン選択部１７は、単位期間における資源の使用が使用削減目標を達成するように、基準量取得部１４で取得されたベースライン消費量と、使用予定量演算部１５で求められた最終予測消費電力量とに応じて、記憶部１６の複数の削減パターンから削減パターンを選択する。 - 特許庁

Then a relating pattern reference part 17 refers to the specified pattern and a data processing part 16 performs dot gain quantity correction processing and screen processing for an original image whose screen kinds are specified by objects based upon dot gain quantity correction data related to the kinds of the respective screen to form a press plate image.例文帳に追加

そして、関連付けパターン参照部１７が、指定されるパターンを参照するとともに、データ処理部１６が、各網の種類に対して関連付けられたドットゲイン分補正データに基づいて、オブジェクト毎に網の種類が指定された原画像に対するドットゲイン分補正処理、および網掛け処理を実施して、刷版画像を作成する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device dispensing with the strict setting of a judge threshold value when an inspection image signal detected from an object to be inspected having a circuit pattern formed thereon by charged corpuscular beam or the like is compared with a reference image signal to judge a flaw on the basis of the judge threshold value to inspect the same, and an inspection method using the same.例文帳に追加

回路パターンなどが形成された被検査対象物から荷電粒子線等によって検出される検査画像信号と参照画像信号とを比較して判定しきい値により欠陥を判定して検査する際、厳密な判定しきい値を設定することを不要にしたパターン検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

By providing one pattern for generating a Z signal at a location corresponding to a reference location within the range of extent of a light beam with which the surface of a scale 9 to form A-phase and B-phase light is irradiated in the vicinity of a periodic pattern on the scale 9, three signals of A phase, B phase and the Z signal are obtained by one beam.例文帳に追加

上記のＡ相、Ｂ相光を形成させるスケール上の周期的パターンの近傍で、かつこのスケール面を照射している光ビームの広がりの範囲内の基準位置に対応した位置にＺ信号発生用のパターンを１箇所設けておくことにより１本のビームでＡ相、Ｂ相およびＺ信号の３信号を得る構成とした。 - 特許庁

When the stop figures of the pattern display device stopped by the command generated during the inspection are captured by the imaging device 2, the data of the captured images output from the imaging device 2 are compared with the reference image data of the registered figures stored corresponding to the command to judge whether the stop figures displayed on the pattern display device 23 are proper or not.例文帳に追加

検査中に発生したコマンドに基づき停止した図柄表示装置の停止図柄を撮像装置２が撮像した際、撮像装置２から出力された撮像画像データとコマンドに対応して記憶された登録図柄の基準画像データとを比較し、図柄表示装置２３に表示された停止図柄の正否を判定する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of performing the adjustment of image quality, without causing the productivity of the image forming apparatus to be lowered, by eliminating the cleaning of a reference pattern image formed on the surface of an intermediate transfer body, when adjusting the image quality.例文帳に追加

画質調整の際、中間転写体表面に形成される基準パターン像のクリーニングを省略することにより、画像形成装置の生産性を低下させることなく画質調整を実施することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A diffraction X-ray pattern is accurately read since an incident X-ray 2 serving as a reference is recorded in the position sensitive X-ray detector, by thinning a film thickness of the measured sample to measure the diffracted X-ray by the transmission X-ray.例文帳に追加

測定試料の膜厚を薄くして透過Ｘ線で回折Ｘ線を測定することにより、基準となる入射Ｘ線２も位置感応型Ｘ線検出器に記録されるため、回折Ｘ線パターンを正確に読み取ることができる。 - 特許庁

Plane shape is measured based on the fringes being formed through interference of a reference light comprising 0-order diffraction light reflected from the pattern face 7a of the diffraction optical element and a measuring light comprising the light reflected from the plane 8 to be inspected.例文帳に追加

回折光学素子の回折パターン面（７ａ）での反射０次回折光からなる参照光と被検面（８）での反射光からなる測定光との干渉によって形成される干渉縞に基づいて被検面の面形状を測定する。 - 特許庁

In the graphic pattern, figures individually constituting one or more pitch fixed arrays, which are positioned in a rectangular area surrounded by the representative array pitches while using the gravity center of a figure constituting the reference array as the center, are specified as component figures of a seed cell.例文帳に追加

図形パターンにおいて、基準アレイを構成する図形の重心を中心とし、代表アレイピッチで囲まれた矩形領域内に位置する、１以上のピッチ固定アレイのそれぞれを構成する図形を、種セルの構成図形として特定する。 - 特許庁