「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

The flow pattern such as an inclination of a sample flow is detected based on a relation between a position using a focus position of an image pick-up means 101 as a reference, and a level dispersion Cv of standard particles of uniform size in the sample flow.例文帳に追加

画像撮像手段１０１の焦点位置を基準とした位置と、サンルプル流れにおけるサイズの揃った標準粒子のレベル分散Ｃvとの関係に基づいて、サンプル流れの傾き等の流れ形状を検出する。 - 特許庁

A transfer state (transfer position or the like) is corrected by using the ideal lattice as a reference and on the basis of the difference information, and a pattern is successively transferred to a plurality of section areas on a substrate W to be exposed by using the aligner 20A.例文帳に追加

そして、理想格子を基準として前記誤差情報に基づいて転写状態（転写位置など）を補正して、露光装置２０Ａを用いて露光対象の基板Ｗ上の複数の区画領域にパターンを順次転写する。 - 特許庁

On an optical information recording medium, information is recorded by an interference pattern due to an interference between information light carrying the information and a reference light for recording, in which a phase of the light is spatially modulated by a phase space modulator.例文帳に追加

光情報記録媒体には、情報を担持した情報光と、位相空間変調器によって光の位相が空間的に変調された記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁

Provided that, in the formula (1), ξ is a value indicating a position in a radius direction of the lens in one period of the diffraction pattern, and ϕ(ξ) indicates a value (radian) of a phase shift amount of light passing the position ξ from the phase of light passing through a reference plane.例文帳に追加

但し、ξは、回折パターンの１周期におけるレンズの半径方向の位置を示す値であり、φ（ξ）は、基準面を通過した光の位相に対して、ξの位置を通過する光の位相のずれ量の値（ラジアン）を示す。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a color filter that can continuously manufacture color filters, from a film material having at predetermined longitudinal intervals of a plurality of filter forming areas with a reference pattern formed.例文帳に追加

基準パターンが形成された複数のフィルタ形成領域が所定間隔を開けて長手方向に並べられたフィルム材を使用して連続的にカラーフィルタの製造を行うことができるカラーフィルタの製造装置を提供する。 - 特許庁

A determination part 14 performs the pattern matching of image data of a bill detected by an image sensor 13 and data as the references of the surface, back, and both sides of various denominations stored in a reference data storage part 15, and determines the denominations and states of paper sheets.例文帳に追加

判定部１４は、イメージセンサ１３で検出される紙幣の画像データと、基準データ記憶部１５に記憶されている各金種の表、裏、上下の基準となるデータのパターンマッチングを行い、紙幣の金種と状態を判定する。 - 特許庁

A differential signal VRx1 between a test pattern signal VRx being an output from an input buffer 10 and an external reference voltage Vref applied by an LSI tester, and the like is applied to CDR12 to generate a clock signal CLK2.例文帳に追加

入力バッファ１０の出力であるテストパタン信号ＶＲｘとＬＳＩテスタ等より印加される外部基準電圧Ｖｒｅｆとの差動信号ＶＲｘ１がＣＤＲ１２に印加され、クロック信号ＣＬＫ２が生成される。 - 特許庁

A person in charge of inspections visually measures the position/rotation deviation amount of the test chart image 35a relative to the reference pattern 65 from the mask composite image 67 for the test displayed on a monitor 31, and inputs the measured result to the processor device 12.例文帳に追加

検査担当者は、モニタ３１に表示されるテスト用マスク合成画像６７から、基準パターン６５に対するテストチャート画像３５ａの位置・回転ズレ量を目視で測定し、この測定結果をプロセッサ装置１２に入力する。 - 特許庁

Specifically, the sub-scanning length of the reference color pattern is extended, therefore, even if sub-scanning displacement occurs, an amount of sub-scanning displacement can correctly be calculated with a sensor output that is the same as that in the case where sub-scanning displacement does not occur.例文帳に追加

すなわち、基準色パターンの副走査長さを延長しているので、副走査位置ずれがある場合でも、副走査位置ずれがない場合と同様のセンサ出力で、正しく主走査位置ずれ量を算出することができる。 - 特許庁

To provide a tandem type color image forming apparatus capable of adjusting an imaging condition between printed images during printing without lowering printing speed and without soiling the printed image by a residual toner of a reference toner pattern.例文帳に追加

印刷速度を低下させることなく、且つ、基準トナーパターンの残留トナーで印刷画像を汚すことなく、印刷中に印刷画像間で作像条件の調整を行なうことのできるタンデム式カラー画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Then coordinates of a predetermined reference point in the actual coordinates system are calculated, the substrate is photographed by a high magnification camera 28 placed at the position indicated by the coordinates, to identify the pattern of a structural member formed on the substrate in the preceding step.例文帳に追加

次に、所定の基準点の本座標系における座標を算出し、その座標が示す位置に高倍率カメラ２８を配置して撮影を行ない、前の工程で基板上に形成された構造部材のパターンを識別する。 - 特許庁

To provide an inexpensive image forming apparatus in which excellent cleaning performance is obtained by preventing the occurrence of detective cleaning due to a reference pattern prepared on an image carrier even in the case of using developer having a small and spherical particle size.例文帳に追加

小径、球形の現像剤を使用する場合でも、像担持体上に作成された基準パターンに起因するクリーニング不良の発生を防いで、良好なクリーニング性能が得られる低コストの画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A phantom having pins 220-227 located at positions in the phantom is scanned, and the estimated positions of the pins 220-227 with respect to the reference position are computed (320, 330) on the basis of at least one of the estimated detector positions and motion pattern.例文帳に追加

ピン（２２０〜２２７）をその内部の各位置に配置させたファントーム（２００）をスキャンし、推定検出器位置と移動パターンの少なくとも一方に基づいて基準位置に対するピン（２２０〜２２７）推定位置を算出する（３２０、３３０）。 - 特許庁

The printer provided with an auto-cutter cuts the cutting position adjusting pattern 300, determines the shift between a resulting reference cutting point and an actually cut line and then corrects the cutting position at the time of actual cutting operation.例文帳に追加

オートカッターを備えたプリンタは、カット位置調整用パターン３００を切断し、この結果によって基準となるカット用ポイントと、実際にカットしたラインとのずれ量を求め、実際のカット動作時においてカット位置ずれを補正する。 - 特許庁

A pattern of spacer pedestals is created by deposition and etch back, or by a surface etch process to precisely reference surface information from a master surface to a carrier wafer 12 to a thin optically transmissive wafer 14.例文帳に追加

マスタ表面からキャリヤ・ウェーハ１２への表面情報を薄い光透過型ウェーハ１４に正確に引用するために、付着およびエッチ・バックによって、あるいは表面エッチ・プロセスによってスペーサ・ペデスタルのパターンが生成される。 - 特許庁

First, signal light 5 of P polarization for retaining data information according to space intensity distribution and including an alignment pattern is obtained, and a hologram is recorded into an optical storage medium 10 by reference light 6 of P polarization.例文帳に追加

最初に、Ｐ偏光の信号光５として、空間強度分布によりデータ情報を保持し、かつ位置合わせ用パターンを含むものを得て、Ｐ偏光の参照光６によって、光記録媒体１０中に第１のホログラムを記録する。 - 特許庁

A two-layer structure is provided to, for example, one cladding layer 4 of two cladding layers 3, 4 so stacked that a core layer 2 as an optical waveguide on which reference light B1 is made incident is held between these, and a hologram pattern is formed between the two layers of the cladding layer 4.例文帳に追加

参照光Ｂ１が入射される光導波路としてのコア層２を挟むようにして積層される２つのクラッド層３，４のうち、例えば一方のクラッド層４を二層としてこれらの間にホログラムパターンを形成する。 - 特許庁

The alignment mask D of the head unit 1 carrying a plurality of the droplet delivery heads 3 on the single carriage 2 is provided with a master plate 161 being a pattern formation of a reference position 164 of each droplet delivery head 3 in a planar surface parallel to the nozzle formative surface 52 of the droplet delivery head 3 and a reference position 165 of the carriage 2.例文帳に追加

単一のキャリッジ２に複数の液滴吐出ヘッド３を搭載したヘッドユニット１のアライメントマスクＤであって、液滴吐出ヘッド３のノズル形成面５２に平行な平面内における各液滴吐出ヘッド３の基準位置１６４およびキャリッジ２の基準位置１６５をパターン形成したマスタプレート１６１を備えたものである。 - 特許庁

The solid-state image pickup device includes a pixel region used to generate pixels, the black reference region provided outside the pixel region, and a dummy region provided between the black reference region and the pixel region, and including a light shield pattern 113A for blocking light 10 entering the black region from the pixel region.例文帳に追加

固体撮像装置は、画素の生成に使用される画素領域と、前記画素領域の外側に設けられた黒基準領域と、前記黒基準領域と前記画素領域との間に設けられ、前記画素領域から前記黒領域に侵入する光１０を遮光するための遮光パターン１１３Ａを含むダミー領域とを具備している。 - 特許庁

The reader of the coordinate pattern photographs a display surface in a photography range, detects a pixel at a crossing position from within a photograph image signal as a reference pixel, and detects X coordinate data and Y coordinate data on the basis of the turn-on and turn-off states of respective read pixels in accordance with the present position of the reference pixel within the photography range.例文帳に追加

座標パターンの読取装置は、撮影範囲にて表示面を撮影し、その撮影画像信号中から交差する位置の画素を基準画素として検出し、撮影範囲内における基準画素の存在位置に対応して読取画素各々の点灯及び消灯状態に基づいてＸ座標データ及びＹ座標データを各々検出する。 - 特許庁

The space 8 is a pattern for focus management, having a width less than the resolution of light used for exposure; and when focus exists in a reference range, a shape resulting from the space 8 does not appear in the developed resist layer and when the focus deviates from the reference range, a shape resulting from the space 8 appears in the developed resist layer.例文帳に追加

スペース８は、焦点管理用パターンであり、その幅は露光に使用する光の解像度未満であり、光の焦点が基準範囲内にあるときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現せず、光の焦点が基準範囲から外れているときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現する。 - 特許庁

A reference pattern database 15 stores a plurality of reference patterns for each peripheral environment and a scene judgment part 12 judges an environment around its own vehicle by using outputs from a navigation device 30, a camera 31, an illuminance sensor 32, a timer 33, a light switch 34, a wiper switch 35, a raindrop sensor 36, an external communication device 37, and a VICS receiver 38.例文帳に追加

基準パターンデータベース１５が、周辺の環境別に複数の基準パターンを記憶し、シーン判定部１２がナビゲーション装置３０、カメラ３１、照度センサ３２、タイマ３３、ライトスイッチ３４、ワイパースイッチ３５、雨滴センサ３６、外部通信装置３７、ＶＩＣＳ受信装置３８の出力を用いて自車両周辺の環境を判定する。 - 特許庁

In recording information on the optical information recording medium, an information recording layer of the optical information recording medium is irradiated with an information light and a recording reference light from the same side by an objective lens 133, and information is recorded on the information recording layer by an interference pattern by the interference between the information light and the recording reference light.例文帳に追加

光情報記録媒体に対する情報の記録時には、対物レンズ１２３によって、情報光と記録用参照光とが、光情報記録媒体の情報記録層に対して同一面側より照射され、情報記録層に情報光と記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁

In this pneumatic tire provided with a tread pattern having the rib 1 continuous on the whole periphery of the tire through a plurality of sipes 11, the sipe 11 has a reference face B in the width direction or oblique direction of the tire, and a recessed part 11a and a projecting part 11b respectively projected onto the opposite sides with respect to the reference face B.例文帳に追加

複数のサイプ１１を介してタイヤ全周に連続するリブ１を有するトレッドパターンを備えた空気入りタイヤにおいて、前記サイプ１１は、タイヤ幅方向又は斜め方向の基準面Ｂを有すると共に、その基準面Ｂに対して各々逆側に突出した凹部１１ａと凸部１１ｂを有することを特徴とする。 - 特許庁

The spatial light modulator having a plurality of pixel areas 50P is provided with a mask 52, which has a grid pattern for optically dividing a pixel that emits the reference light to an emission face side, into a plurality of divided pixels so that the area of a single divided pixel, emitting the reference light, becomes substantially smaller than the area of one pixel emitting the information light.例文帳に追加

空間光変調器は、複数の画素領域(50P)を有し、参照光を出射する１つの分割画素の面積が情報光を出射する１つの画素の面積よりも実質的に小さくなるように、出射面側に参照光を出射する画素を複数の分割画素に光学的に分割するための格子状パターンを有するマスク(52)を有する。 - 特許庁

When a hole pattern to be formed above a substrate is formed, a bias correction amount in the formation of a correction object hole 101 is set by extracting a correction reference hole 103 present in a region influencing the formation of the correction object hole 101 and considering the plane arrangement of the extracted correction reference hole 103.例文帳に追加

基板の上部に形成されるホールパターンを形成する際に、補正対象ホール１０１の形成に影響を与える領域内に存在する補正参照ホール１０３を抽出し、抽出された補正参照ホール１０３の平面配置を考慮して、補正対象ホール１０１の形成におけるバイアス補正量を設定する。 - 特許庁

When a pattern is drawn along concentric tracks on a substrate, blanking of electron beams is performed in a first region in the sector by using a first clock signal generated on the basis of a first reference length and blanking of electron beams is performed in a second region in the sector by using a second clock signal generated on the basis of a second reference length.例文帳に追加

基板上の同心円トラックに沿ってパターンを描画する際に、セクタ内の第１領域内では、第１基長さに基づいて生成された第１クロック信号を用いて電子線をブランキングさせ、セクタ内の第２領域内では、第２基準長さに基づいて生成された第２クロック信号を用いて電子線をブランキングさせる。 - 特許庁

The projection aligner has an alignment light radiating means for radiating an alignment light on a projection lens, from the back side of an exposure light irradiating means to a mounting means for irradiating a first reference mark provided on the mounting means and a second reference mark provided on a pattern substrate with the alignment light.例文帳に追加

アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 - 特許庁

A detection stage comprises a step where the multilayer wiring board is irradiated with the X-ray to image the reference mark, a step where the picked-up image is scanned with the template for a pattern matching process, a step where the center position of the image of the reference mark is detected based on the center position data registered in the template, and a step to output the data.例文帳に追加

また、多層配線板にＸ線を照射して基準マークを撮像するステップ、撮像された画像にテンプレートをスキャンしてパターンマッチング処理をするステップ、テンプレートに登録されている中心位置データに基づいて基準マークの画像の中心位置を検出するステップ、このデータを出力するステップからなる検出段階での各ステップを具備する。 - 特許庁

The moving control section 1301 keeps the movable accessary 130 at the advanced position over a plurality of times of variations by a variation means after making the movable accessary 130 move from the reference position to the advanced position and then makes the movable accessary 130 move from the advanced position to the reference position during the variation of a pattern with a variation period of time which is longer than the moving period of time.例文帳に追加

移動制御部１３０１は、可動役物１３０を基準位置から進出位置まで移動させた後、変動手段による複数回の変動にわたって可動役物１３０を進出位置に維持させ、移動時間よりも長い変動時間による図柄の変動中に、可動役物１３０を進出位置から基準位置に移動させる。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device dispensing with the strict setting of a judge threshold value when an inspection image signal detected from an object to be inspected having a circuit pattern formed thereon by charged corpuscular beam or the like is compared with a reference image signal to judge a flaw on the basis of the judge threshold value to inspect the same, and an inspection method using the same.例文帳に追加

回路パターンなどが形成された被検査対象物から荷電粒子線等によって検出される検査画像信号と参照画像信号とを比較して判定しきい値により欠陥を判定して検査する際、厳密な判定しきい値を設定することを不要にしたパターン検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

The light-shielding signal control circuit 208 sets a pattern region S1 that receives the information reproducing light and a non-light shielding region S2 that receives reference reproducing light in the light-shielding liquid crystal panel 40, and sets the highest transmittance for the pixel of the pattern region S1 and sets the lowest transmittance for the pixel of the non-light shielding region S2.例文帳に追加

遮光用信号制御回路２０８は、遮光用液晶パネル４０に情報再生光が入射するパターン対応領域Ｓ１および参照再生光が入射する非遮光対応領域Ｓ２を設定し、パターン対応領域Ｓ１の画素の透過率を最高値に、非遮光対応領域Ｓ２の画素の透過率を最低値に設定する。 - 特許庁

The delivering circuit 132 includes a rate generator 144, a fail capture control 146 which specifies a defective cell and performs an output to the outside, a timing generator 148 which generates a timing signal based on a reference test frequency signal, and a pattern generator 150 which outputs an address signal for reading pattern information from the outside to the outside.例文帳に追加

受け渡し回路１３２は、レイト・ジェネレータ１４４と、不良セルを特定して、外部に出力するフェイル・キャプチャー・コントロール１４６と、基準試験周波数信号を基に、タイミング信号を発生するタイミング・ジェネレータ１４８と、パターン情報を外部から読み出すためのアドレス信号外部に出力するパターン・ジェネレータ１５０とを備える。 - 特許庁

The control part 302 controls the light distribution pattern in a switching system in response to position information on a front vehicle when the information is the content of indicating the presence of the front vehicle, and takes preference of switching to the light distribution pattern for the low beam regardless of the existence of the front vehicle when the information is the content of indicating a steeper curve road state than a reference curve road.例文帳に追加

制御部３０２は、情報が前方車の存在を示す内容である場合、前方車の位置情報にしたがって配光パターンを切替制御する一方、情報が基準曲路より急な曲路状態を示す内容である場合、前方車の有無に拘わらずロービーム用配光パターンへの切り替えを優先する。 - 特許庁

A processor 11 receives a user designation as to which of colors indicated in a comparison image displayed on a display device 4 is similar to each of colors formed on a reference printed matter according to the processing, based on a color profile selection program 16a, and retrieves a color profile including a pattern similar to the designated pattern from a color profile table 16b.例文帳に追加

カラープロファイル選定プログラム１６ａに基づく処理によりプロセッサ１１は、基準印刷物に形成される色のそれぞれについて、ディスプレイ４に表示された比較用画像に示される色のいずれが類似するかのユーザ指定を受け付け、この指定パターンに類似するパターンを含んだカラープロファイルをカラープロファイルテーブル１６ｂ中から検索する。 - 特許庁

An image processor 6 binarizes a photographed image, extracts a feature parameter of an individual pattern included in a binarized image, extracts the pattern with the feature parameter fit to a prescribed condition as a concealed mark formed preliminarily in the spectacle lens, finds a reference position, based on a position of the concealed mark, and finds an angle deviation of the spectacle lens.例文帳に追加

画像処理装置６は、撮影された画像を２値化して、２値化画像に含まれる個々の図形の特徴パラメータを抽出して、特徴パラメータが所定の条件に合う図形を眼鏡レンズに予め形成された隠しマークとして抽出し、隠しマークの位置に基づいて基準位置を求めると共に、眼鏡レンズの角度ずれを求める。 - 特許庁

The reduction pattern selection section 17 selects a reduction pattern from among the plurality of reduction patterns in the storage section 16 in accordance with baseline consumption acquired by the reference amount acquiring section 14 and final predictive power consumption determined by the use planned amount arithmetic section 15 in such a manner that use of resources within the unit term achieves the use reduction target.例文帳に追加

削減パターン選択部１７は、単位期間における資源の使用が使用削減目標を達成するように、基準量取得部１４で取得されたベースライン消費量と、使用予定量演算部１５で求められた最終予測消費電力量とに応じて、記憶部１６の複数の削減パターンから削減パターンを選択する。 - 特許庁

Then a relating pattern reference part 17 refers to the specified pattern and a data processing part 16 performs dot gain quantity correction processing and screen processing for an original image whose screen kinds are specified by objects based upon dot gain quantity correction data related to the kinds of the respective screen to form a press plate image.例文帳に追加

そして、関連付けパターン参照部１７が、指定されるパターンを参照するとともに、データ処理部１６が、各網の種類に対して関連付けられたドットゲイン分補正データに基づいて、オブジェクト毎に網の種類が指定された原画像に対するドットゲイン分補正処理、および網掛け処理を実施して、刷版画像を作成する。 - 特許庁

A drawing information processing section 2 of a drawing apparatus 6 stores, in a pattern table 31 of a database 3, a reduction scale of a logo used for telop or a profile of the telop and when using the same logo for new telop creation later, the pattern table 31 is read out, compared for reference with a profile of telop to be newly designed or the like and re-utilized for telop editing.例文帳に追加

作画装置６の作画情報処理部２は、データベース３のパタンテーブル３１にテロップに用いたロゴの縮小率や、テロップのプロファイルを記憶し、後から同じロゴを新たなテロップ作成に用いる時、パタンテーブル３１を読み出して新しく設計するテロップのプロファイル等と比較参照してテロップ編集に再利用する。 - 特許庁

By providing one pattern for generating a Z signal at a location corresponding to a reference location within the range of extent of a light beam with which the surface of a scale 9 to form A-phase and B-phase light is irradiated in the vicinity of a periodic pattern on the scale 9, three signals of A phase, B phase and the Z signal are obtained by one beam.例文帳に追加

上記のＡ相、Ｂ相光を形成させるスケール上の周期的パターンの近傍で、かつこのスケール面を照射している光ビームの広がりの範囲内の基準位置に対応した位置にＺ信号発生用のパターンを１箇所設けておくことにより１本のビームでＡ相、Ｂ相およびＺ信号の３信号を得る構成とした。 - 特許庁

When the stop figures of the pattern display device stopped by the command generated during the inspection are captured by the imaging device 2, the data of the captured images output from the imaging device 2 are compared with the reference image data of the registered figures stored corresponding to the command to judge whether the stop figures displayed on the pattern display device 23 are proper or not.例文帳に追加

検査中に発生したコマンドに基づき停止した図柄表示装置の停止図柄を撮像装置２が撮像した際、撮像装置２から出力された撮像画像データとコマンドに対応して記憶された登録図柄の基準画像データとを比較し、図柄表示装置２３に表示された停止図柄の正否を判定する。 - 特許庁

This causes the discharge current generated in the piezoelectric element owing to the pyroelectric effect in a process of the flow soldering using the solder jet flow to flow on a discharge channel formed by the piezoelectric, the land, the reference potential pattern, and the solder jet flow.例文帳に追加

これにより、半田噴流を用いる半田付け工程において焦電効果によって圧電素子に発生する放電電流を、圧電素子と、ランドと、基準電位パターンと、半田噴流とによって形成される放電経路に通電させる。 - 特許庁

This matrix organic EL display has such configuration that a specific mark pattern 6 is formed per predetermined number of elements from an element which becomes the end part or a reference position in a light emission display region 2 in the vicinity of the element in the light emission display region 2.例文帳に追加

発光表示領域２内の素子の近傍に、発光表示領域２内の端部あるいは基準位置となる素子から所定の素子数毎に特定の標識パターン６が形成されている構成のマトリクス型有機ＥＬディスプレイとした。 - 特許庁

The ring hole 4 of the lower plate 3 is tapped on the surface of the iron-based material of a specimen for covering the entire reference piece 1 with magnetic particles, and irradiation by the magnetic flaw detector is made, thus detecting a ring pattern corresponding to the ring hole 4 at the surface side of the upper plate 2.例文帳に追加

被検体の鉄系材料の表面に下プレート３のリング孔４を当て基準ピース１全体を磁粉で覆い、磁気探傷器による照射を行い上プレート２の表面側にリング孔４に対応するリング模様を検出する。 - 特許庁

When it is evaluated that the wiring pattern 111 for test reaches a reference level for shipment as a product, the test region 102 is cut from the substrate 100 and the remaining product region 101 is shipped as the product.例文帳に追加

評価の結果、テスト用配線パターン１１１が製品として出荷することができる基準レベルに達しているとされた場合、テスト領域１０２が基板１００から切り取られ、残った製品領域１０１が製品として出荷される。 - 特許庁