「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

This invention in related to the formation of a semiconductor device laminated on a substrate 1 including a step forming laminated bodies 2, 3, 4, 5 as well as a forming step of a circuit element by photolithography including the formation of an alignment mask, the reference pattern by the aperture of the alignment mask as well as another mask specifying the circuit element aligned with the reference pattern.例文帳に追加

本発明は、基板（１）上に積層体（２，３，４，５）を形成する工程と、位置合わせマスクの形成、このマスクの開口部による基準パターンの形成、及びこの基準パターンに位置合わされた回路素子を規定するマスクの形成を含むフォトリソグラフィにより回路素子を形成する工程を具える基板上に集積化された半導体装置を形成する方法に関するものである。 - 特許庁

To provide an embroidery machine forming an embroidery pattern on a work cloth in such a manner as having a preset and predetermined positional relation with at least two reference marks, forming the embroidery pattern and a printed pattern on the work cloth in a preset and predetermined positional relation and improving the quality of the combined patterns.例文帳に追加

加工布において少なくとも２つの基準マークに対して予め設定された所定の位置関係となるように刺繍模様を形成し、加工布に刺繍模様と印刷模様とを予め設定された所定の位置関係となるように形成し、これら複合模様の品質を高めることができる刺繍ミシンを提供する。 - 特許庁

This semiconductor device 1 having a testing circuit 2 operating at a high speed, internally stores a high speed pattern generating circuit 3 for coverting a low speed test pattern of a reference clock, an input signal and an output expected value signal inputted from the low speed LSI tester into a test pattern of a speed adapted to the testing circuit 2 operating at a high speed.例文帳に追加

高速動作する試験回路２を有する半導体装置１において、低速ＬＳＩテスター１２から入力する基準クロック，入力信号及び出力期待値信号の低速テストパターンを、高速動作する試験回路２に適応する速度のテストパターンに変換するための高速パターン発生回路３を内蔵したものである。 - 特許庁

The method comprises steps of setting a mask given in response to each predetermined pattern for detecting the pattern information of the input image, measuring similarity between the input image and a filter kernel mask, determining the filter kernel mask most suited for the pattern of the input image in reference to similarity, and adding the non-linear filtering through the determined mask.例文帳に追加

その方法として、入力映像のパターン情報を検出するためにあらかじめ定義しておいたそれぞれのパターンに応じて与えられたマスクを設定し入力映像とフィルターカーネルマスクの類似性を測定し、その類似性より最も入力映像のパターンに適合したフィルターカーネルマスクを決め、決定されたマスクを通じて非線形フィルターリングを加える。 - 特許庁

A correlator 201 inputs input data Sa transmitted by inserting a fixed pattern for establishing the time slot synchronization into the same fixed position of the respective unique words indicating specific information for each time slot, and acquires correlated result data Sc by performing the correlation arithmetic operation of the fixed pattern in the unique word of the time slot with a reference pattern Sb.例文帳に追加

相関器２０１が、タイムスロットごとの固有情報を示すユニークワードのそれぞれの同一の固定位置にタイムスロット同期を確立するための固定パターンを挿入して伝送された入力データＳａに対して、タイムスロットのユニークワードにおける固定パターンを参照パターンＳｂと相関演算した相関結果データＳｃを得る。 - 特許庁

The character reading system is provided with an image pickup means which picks up images of individual patterns from workpieces and outputs image pickup signals; a pattern collating means for obtaining binary image data from the image pickup signals and collating the data with a stored reference pattern; and a statistical means which performs a statistical process on the results of collation by the pattern collating means.例文帳に追加

ワークから前記個別パターンの撮像を行い撮像信号を出力する撮像手段と、撮像信号から２値画像データを得て予め記憶している基準パターンと照合するパターン照合手段と、パターン照合手段において照合の結果の統計処理を行う統計手段とを設けたことを特徴とする文字読取システムを提供する。 - 特許庁

To produce a tolerance including deformation by obtaining an amount of deformation from a picked-up image pattern image and by deforming a reference pattern image which is the basis of the tolerance in accordance with the deformation, and to determine breaks and contacts only as abnormal even if there is deformation in an image pickup pattern, in a defect determination operation using a tolerance that allows a high speed operation.例文帳に追加

高速処理が可能な許容範囲を用いた欠陥判定処理で、撮像パターン画像から変形量を求めて、変形に応じて許容範囲の基になる基準パターン画像を変形させることで、変形を含んだ許容範囲を作成し、撮像パターンの変形がある場合でも、断線，接触のみを異常と判定する。 - 特許庁

In the device for recording/reproducing the disk whereon a regular and constant-sized reference pattern is recorded on the data area, the servo error of the recording/reproducing device is detected by the ratio of sizes of reproduced signals corresponding to the reference patterns recorded on at least two positions separated away from each other.例文帳に追加

データ領域に規則的で一定の大きさを有する基準パターンが記録されるディスクを記録再生する装置において、少なくとも互いに離隔した二つの位置に記録された基準パターンに相応する再生信号の大きさの比により記録再生装置のサーボエラーを検出する。 - 特許庁

To provide a pattern dependent correction method capable of detecting an accurate program verification current for a target memory cell not affected by a leakage current from an adjacent memory cell in a nonvolatile storage device in which an average current for two reference cells is reference current.例文帳に追加

２つのリファレンスセルの平均電流をリファレンス電流とする構成の不揮発性半導体記憶装置において、隣接メモリセルのリーク電流に影響されない、対象メモリセルの正確なプログラムベリファイ電流の検出を可能とするパターン依存補正方式を提供する。 - 特許庁

Similarly, the frequency reference value output from the frequency pattern memory 4 is corrected by a current deviation signal from the deflection electromagnet current generator 6 and output to a frequency generator 7, thereby, circuiting beams 11 are accelerated based on the corrected frequency reference value.例文帳に追加

同様に、周波数用パターンメモリ４から出力される周波数基準値が、偏向電磁石電流発生装置６からの電流偏差信号により補正され、高周波発生装置７に出力され、補正された周波数基準値を基に周回ビーム１１が加速される。 - 特許庁

With respect to a device for recording and reproducing of a disk on which a regular reference pattern having a certain size is recorded in a data area, a servo error of the recording and reproducing device is detected by a ratio of magnitudes of reproduced signals corresponding to reference patterns recorded in at two positions separated from each other.例文帳に追加

データ領域に規則的で一定の大きさを有する基準パターンが記録されるディスクを記録再生する装置において、少なくとも互いに離隔した二つの位置に記録された基準パターンに相応する再生信号の大きさの比により記録再生装置のサーボエラーを検出する。 - 特許庁

A system controller 24 controls an on-vehicle camera 12 to perform imaging to sequentially acquire image data, pattern-recognizes road signs 44 and 45 with reference to image data for reference, and determines whether the road signs 44 and 45 are on the right side of the lane.例文帳に追加

システムコントローラ２４は、車載カメラ１２を制御して撮像を実行させ、画像データを逐次取得するとともに、参照用画像データを参照して道路標識４４，４５をパターン認識して、道路標識４４，４５が走行車線に対して右側にあるか否かを判定する。 - 特許庁

The embedding pattern 14 includes: data dots arranged at positions according to the embedding information 12, position dots arranged in positions for instructing reference positions to particularize the data dot positions; and auxiliary dots arranged in positions for assisting an instruction of the reference positions by the position dots.例文帳に追加

この埋込パターン１４は、埋込情報１２に従う位置に配置されたデータ用ドットと、データ用ドットの位置を特定するための基準位置を指示するための位置に配置された位置用ドットと、位置用ドットによる基準位置の指示を補助するための位置に配置された補助用ドットとを含む。 - 特許庁

An image A of combined patterns formed by overlapping element patterns, and reference images B1, B2 of each element pattern are acquired; matching is executed between the image A and respective reference images B1, B2; and the alignment deviation among respective element patterns in combined patterns is outputted based on the matching result.例文帳に追加

要素パターンを重ね合わせて形成される複合パターンの画像Ａと、各要素パターンの基準画像Ｂ１，Ｂ２とを取得し、画像Ａと各基準画像Ｂ１，Ｂ２との間でマッチングを実行し、このマッチング結果に基づいて複合パターンにおける各要素パターン間の合わせずれを出力する。 - 特許庁

Further, for every pattern of the operation time zone, the operation time zone of the production line excluding the non operation time from the predetermined reference time and the absolute time is registered for every absolute time as the relative time of the absolute time to the reference time in a relative time table storing device 24.例文帳に追加

また、稼働時間帯パターンごとに、所定の基準時刻からその絶対時刻までの間の生産ラインの非稼働時間を除いた時間を、前記基準時刻に対するその絶対時刻の相対時刻として各絶対時刻ごとに、相対時刻テーブル記憶装置２４にデータ登録する。 - 特許庁

A reading section 24 reads a document image of the document and a random pattern of a sheet as read data, a reference image is read out from registered data of an original stored in a storage section 32 for each original, and image matching is performed by comparing the read out reference image with the read data.例文帳に追加

読取部２４によって原稿の原稿画像、及び用紙のランダムパターンを読取データとして読み取り、記憶部３２に原本毎に記憶された原本の登録データの内から、基準画像を読み出して、読み出した基準画像と読取データとを比較して、画像マッチングを行う。 - 特許庁

A high sensitivity inspection is made possible by performing a pattern inspection which comprises steps of preliminarily obtaining a GP image, designating an inspection location and a threshold value map to the GP image on a GUI, setting an identification reference for a defect, obtaining an inspection image, and applying the identification reference to the inspection image to identify the defect.例文帳に追加

予めＧＰ画像を取得し、ＧＰ画像に対して検査箇所及び閾値マップをＧＵＩ上で指定し、欠陥の識別基準を設定し、次に検査画像を取得し、検査画像に識別基準を適用し欠陥を識別することでパターン検査を行い高感度検査を可能にした。 - 特許庁

Other vehicle having a possibility of being an identical vehicle is extracted among other vehicles existing around its own vehicle, and an arbitrary one of cameras imaged these other vehicles is set as a reference camera, and then a false image pattern of other vehicle imaged by the reference camera is formed.例文帳に追加

自車両の周囲に存在する他車両の中から同一車両である可能性を有している他車両を抽出して、これらの他車両を撮像したカメラのうち任意の一台を基準カメラとして設定し、基準カメラで撮像した他車両の擬似画像パターンを生成する。 - 特許庁

A first gear 16 provided with a third reference point is fitted to a driving motor shaft, and a second gear 17 provided with a fourth reference point, which has a gear ratio larger than the first gear 16 and rotated by the same rotation number as the pattern display member 9, is engaged with the first gear 16.例文帳に追加

駆動モータ軸には第３基準点を有する第１歯車１６が嵌合され、該第１歯車１６には、該第１歯車１６より大きいギア比を有すると共に図柄表示部材９と同一回転数で回転する第４基準点を有する第２歯車１７が噛合されている。 - 特許庁

For each pixel of interest on a previous frame 34, a pattern matching process is applied between the previous frame 34 and a current frame 32 (see reference numeral 36), to calculate, for each pixel of interest, a mapping address to the current frame 32 as a movement destination or a two-dimensional movement vector (see reference numeral 38).例文帳に追加

前フレーム３４上の注目画素ごとに前フレーム３４と現フレーム３２の間においてパターンマッチング処理を実行することにより（符号３６参照）、注目画素ごとに現フレーム３２上の移動先又は二次元移動ベクトルとしてのマッピングアドレスが演算される（符号３８参照）。 - 特許庁

On a reference mark plate FM, four reference marks WM_1, WM_2, WM_3, WM_4 for measuring the base line of an alignment system ALG are disposed in such a layout that the mean position of these marks aligns with the position of a measuring pattern ST for detecting a reticle alignment mark RM.例文帳に追加

基準マーク板ＦＭには、アライメント系ＡＬＧのベースライン計測用の４つの基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４の平均位置が、レチクルアライメントマークＲＭを検出する計測用パターンＳＴの位置と一致するような配置で形成されている。 - 特許庁

In the device for recording/reproducing to/from the disk wherein a regular reference pattern having fixed largeness is recorded in a data region, the servo error of the recording/reproducing device is detected by the ratio of largeness of reproducing signals suitable for the reference patterns which are recorded in at least two mutually separated positions.例文帳に追加

データ領域に規則的で一定の大きさを有する基準パターンが記録されるディスクを記録再生する装置において、少なくとも互いに離隔した二つの位置に記録された基準パターンに相応する再生信号の大きさの比により記録再生装置のサーボエラーを検出する。 - 特許庁

A CPU 6 gathers from a RAM 4 first data of the object to be inspected whose distance from the center of a unit space preset as reference for functional inspection is equal to or larger than a first reference value and second data of the object to be inspected which indicates a preset abnormal pattern.例文帳に追加

ＣＰＵ６は、官能検査の基準として予め設定された単位空間の中心からの距離が第１基準値以上である被検査対象の第１データと、予め設定された異常パターンを示す被検査対象の第２データと、をＲＡＭ５から収集する。 - 特許庁

To solve the problem that a flaw is not specified because not only the flaw but also a non-flaw part are detected in a case that a reference pixel 19 is set in the vicinity of an inspection pixel 18 when the flaw of a pattern is inspected by comparing the reference pixel 19 with the inspection pixel 18.例文帳に追加

パターンの欠陥検査を基準画素１９と検査画素１８の比較にて行う場合において、基準画素１９を検査画素１８の近傍に設定した場合、１つの欠陥に対して、欠陥だけでなく、欠陥ではないものも検出され、欠陥が特定できない。 - 特許庁

The image enhancing mask 6 has a semi-light-shielding mask pattern formed of the semi-light-shielding portion 8 which transmits the exposure light in the same phase with a translucent part 7 as a reference and the phase shifter 9 which transmits the exposure light in the opposite phase with the translucent part 7 as a reference.例文帳に追加

イメージ強調マスク６においては、透光部７を基準として露光光を同位相で透過させる半遮光部８と、透光部７を基準として露光光を反対位相で透過させる位相シフター９とによって、遮光性を有するマスクパターンが構成されている。 - 特許庁

A pixel area for error measurement 140 of a dummy pixel area 120 in a solid state image sensing element is regarded as one of layers composing a pixel of the solid state sensing element as a reference layer and is provided with a measuring pattern displaced in phase in two dimensional (x, y) directions to the reference layer.例文帳に追加

固体撮像素子のダミー画素領域１２０の誤差測定用画素領域１４０には、固体撮像素子の画素を構成するあるレイヤーの１つを基準レイヤーとし、この基準レイヤーに対して２次元（ｘ，ｙ）方向に段階的にずらした測定用パターンが設けられている。 - 特許庁

To avoid an influence by saturation pixels contained in an inspection image and a reference image, in defect inspection, for comparing the inspection image with the reference image that are acquired by imaging patterns which should be mutually identical and are the objects of inspection, and for detecting a difference spot as a pattern defect.例文帳に追加

検査対象である相互に同一であるべきパターンを撮像して得た検査画像と参照画像とを比較して、相違する箇所を前記パターンの欠陥として検出する欠陥検査において、検査画像と参照画像とに含まれる飽和画素による影響を回避する。 - 特許庁

To provide a novel device and a new method for optical recording, and a new device and a new method for optical recording/reproducing, which record/reproduce a hologram by using a reference light having its phase modulated according to the display position of a reference light pattern in a spatial optical modulator in a colinear system.例文帳に追加

コリニア方式において、空間光変調器における参照光パターンの表示位置に応じて位相が変調された参照光を利用してホログラムの記録や再生を行う、新規な光記録装置、光記録方法、光記録再生装置、及び光記録再生方法を提供する。 - 特許庁

A real stuff code generating section 152 shifts the coded data left in a data storage section 102 to the right by a shift number to the right to generate a real stuff code, and a reference stuff code generating section 153 causes the stuff code pattern to be shifted by a shift number to the right, to generate a reference stuff code.例文帳に追加

実スタッフ符号生成部１５２がデータ保持部１０２に残っている符号化データをシフト数だけ右にシフトさせて実スタッフ符号を生成し、参照スタッフ符号生成部１５３がスタッフ符号パターンをシフト数だけ右にシフトさせて参照スタッフ符号を生成する。 - 特許庁

A PC 10 reads the CAD data (wiring pattern information, solder resist information and SYLK information) from a CAD data memory 20, determines a portion serving as a reference in the visual inspection as a reference data, and inputs it into a visual inspection device 30.例文帳に追加

ＰＣ１０は、ＣＡＤデータメモリ２０からＣＡＤデータ（配線パターン情報、ソルダーレジスト情報及びシルク情報）を取り込み、各ＣＡＤデータを重ね合わせた情報に基づいて、外観検査の際に基準とする箇所を基準データとして決定し、外観検査装置３０に入力する。 - 特許庁

The aligner has a reticle stage RST which is disposed on one side of a projection optical system 13, holds a reticle R having a transfer pattern and is equipped with an alignment reference plate SP, and a wafer stage WST equipped with a reference mark FM on the other side.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系１３の一方の側に配置され、転写パターンを有するレチクルＲを保持するとともに位置合わせ用の基準プレートＳＰを具備したレチクルステージＲＳＴと、他方の側に基準マークＦＭを具備したウエハステージＷＳＴを有する。 - 特許庁

In the holographic recording apparatus 10, a phase code mask 26 on which a phase code pattern is previously recorded as a hologram is used in a reference optical system 20 and reference light with which a holographic recording medium is irradiated is subjected to phase spatial modulation by the phase code mask 26 in place of a phase spatial light modulator.例文帳に追加

ホログラフィック記録装置１０は、その参照光学系２０に、予め位相コードパターンがホログラムとして記録されている位相コードマスク２６を用い、ホログラフィック記録媒体に照射される参照光を位相空間光変調器に代えて位相空間変調する。 - 特許庁

To enable high-speed, stable, and accurate inspection of circuit pattern having insulating materials in a method for inspection by detecting a defect, contamination, residue, or the like appearing on the circuit pattern of a semiconductor-device wafer, by radiating an electron beam onto the wafer and comparing the secondary electron image with a reference image.例文帳に追加

半導体装置等基板上で発生した回路パターンの欠陥、異物、残渣等を電子線をウエハに入射して二次電子像を比較することにより検査する方法において、絶縁材料を有する回路パターンを高速に且つ安定して高精度に検査可能とする。 - 特許庁

At final stop, when variation time required is not an integer value, by adding a swinging display pattern in a reference position to the fractional period, and a swinging stop period shorter than the swinging display pattern, the variation period is made an integer value.例文帳に追加

この最終停止時に、要した変動時間が整数値でない場合に、その端数時間に基準位置で停止する揺動表示形態を追加揺動させると共に該追加した揺動表示形態より短い揺動静止時間を追加させ、前記変動時間を整数値にした。 - 特許庁

A luminance pattern by reflected light or transmitted light for every angle on a preset slice level of the atypical industrial products are pregathered by a reference sample, and is registered in a computer, and is matched in a pattern with luminance data obtained from the atypical industrial products on the production line.例文帳に追加

予め基準サンプルによって、異形製品の予め設定したスライスレベル上の各角度ごとの反射光又は透過光による輝度パターンを収集してコンピュータに登録、生産ライン上の異形工業製品から得られる輝度データとのパターンマッチングを行う。 - 特許庁

In this paper transport amount measuring method in a printer, while a paper sheet on which a measurement pattern is printed by designated print pitch is fed in a inspection object printer 100, the measurement pattern is measured, and the obtained measurement value is corrected by reference measurement data to measure the paper feed amount.例文帳に追加

プリンタにおける紙搬送量の測定方法において、所定の印字ピッチで測定パターンが印刷された用紙を検査対象プリンタ１００で紙送りしながら、その測定パターンを測定し、得られた測定値を基準測定データで補正することによって紙送り量を測定する。 - 特許庁

When 'walk 1' is designated on a registration picture and an owner inputs start by a key input part 13 while walking, a moving acceleration is detected by an acceleration sensor part 1 just for previously designated time, and the reference action pattern of 'walk 1' is stored in a pattern storage part 3.例文帳に追加

登録画面で「歩く１」を指定し、所有者が歩きながらキー入力部１３によりスタートを入力すると、予め指定された時間だけ加速度センサ部１は運動加速度を検出し、「歩く１」の基準行動パターンがパターン格納部３に格納されることとなる。 - 特許庁

Further, the cell phone terminal 1 carries out the individual authentication of the user according to the matching of the vein pattern of the inside of the finger 10 imaged by the imaging section 8 according to the imaging timing and the vein pattern for reference, which is preliminarily registered at the time of the practical vein authentication.例文帳に追加

そして、携帯電話端末１は、実際の静脈認証時には、撮影タイミングに応じて撮像部８で撮影された指１０内部の静脈パターンと、予め登録されている参照用の静脈パターンとのマッチングによりユーザの個人認証を行う。 - 特許庁

To provide a CMOS semiconductor integrated circuit, wherein the pattern of the periphery portion of the chip has been improved and the physical size of a chip has been reduced, with reference to the CMOS semiconductor integrated circuit having an output protection area in the periphery portion and an output protection pattern disposed by a guard ring between the protection area and internal circuits.例文帳に追加

チップの外周部に出力保護領域を有し、内部回路との間にガードリングによる出力保護パターンが設けられたＣＭＯＳ半導体集積回路において、周辺部のパターンを改善し、チップサイズを縮小したＣＭＯＳ集積回路を提供する。 - 特許庁

A threshold correction circuit 2 inputs a fish detection voltage integral value 10 from the data 12 and the circuit 1, estimates the distribution pattern of the sizes of measured fishes and outputs the distribution pattern to the circuit 1 with an optimum reference voltage area to calculate the number of fishes as threshold 11.例文帳に追加

しきい値補正回路２は設定データ１２と尾数計測回路１から魚の検出電圧積分値１０を入力し、計測魚の大きさの分布パターンを推定して魚の数を算出するのに最適の基準電圧面積をしきい値１１として尾数計測回路１に出力する。 - 特許庁

When test pattern data 124 is supplied from a pattern memory 110 to an LSI 104 in synchronization with a reference clock signal 120, the LSI 104 operates based on the supplied data 124 to output data 104A corresponding to the data 124 and a strobe signal 8.例文帳に追加

基準クロック信号１２０に同期してパターンメモリー１１０からテストパターンデータ１２４がＬＳＩ１０４に供給されると、ＬＳＩ１０４は供給されたテストパターンデータ１２４にもとづいて動作し、同テストパターンデータに対応するデータ１０４Ａを出力すると共にストローブ信号８を出力する。 - 特許庁

The referred information is managed as retrieval history and, by extracting a retrieval pattern from the accumulated retrieval history and disclosing it to the user, the user can check the retrieval pattern high in frequency of reference and can refer to data efficiently.例文帳に追加

実施された参照情報は検索履歴として管理され、蓄積された検索履歴から検索パターンを抽出しユーザへ公開することで、ユーザは参照頻度の高い検索パターンを確認することが可能となり、効率的なデータ参照を行うことが可能となる。 - 特許庁

The maximum values are corrected based on the ratio calculated by the ratio computing unit 15, and compared with the pattern of the maximum values of the time series signals in each frequency zone of each content residual quantity level set up beforehand and with the pattern of a vibration reference value by a comparator 10, to thereby detect the content residual quantity.例文帳に追加

その最大値を比率演算器１５にて算出した比率を基に補正し、比較器１０において予め設定した内容物残量レベル毎の周波数帯域毎の時系列信号の最大値のパターンと振動基準値のパターンと比較して内容物残量を検出する。 - 特許庁

An alignment mark 13 as a positional reference for trimming is provided in a resistive body 11, having a resistive pattern which can be trimmed, and an alignment mark 14 serving both as a laser passing confirming mark which does not affect the electrical characteristics is provided in a margin near parts 12a, 12b which can trim the resistive pattern, respectively.例文帳に追加

トリミング可能な抵抗パターンを有する抵抗体１１にそれぞれトリミングするための位置基準となるアライメントマーク１３および、抵抗パターンのトリミング可能な部分１２ａ、１２ｂの近傍余白に、電気特性上影響のないレーザー通過確認マークを兼ねるアライメントマーク１４を設ける。 - 特許庁

The inspection areas 16a-16i are partitioned into a plurality of vertical and lateral visual field areas, and reference pattern portions 17a-17i different each other including respective edge shapes a difference by a difference of the edge shapes of the inspection areas 16a-16i included in the respective partitioned visual field areas are used as the master pattern 17.例文帳に追加

検査領域１６ａ〜１６ｉを縦横の複数の視野領域に区画し、マスタパターン１７として、区画された各視野領域に含まれる検査領域１６ａ〜１６ｉの縁形状の違い毎で各縁形状を含む相互に異なる基準パターン部分１７ａ〜１７ｉを用いる。 - 特許庁