「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

When previous pattern information is in a specified pattern and a high probability reference is set in the random number judgment means, and the ready-for-win continuing random number coincides with a ready-for-win continuing judgment value, a display game is started from a ready-for-win state.例文帳に追加

また前回の図柄情報が特定図柄情報であり、かつ、乱数判定手段に高確率基準が設定されているときであってリーチ継続乱数値がリーチ継続判定値と一致する場合は、表示遊技をリーチ態様から開始する。 - 特許庁

The entertainment system 10 is provided with an input judging means 200 for evaluating operation on the basis of similarity by comparing an input pattern image plotted on a monitor 18 with a reference pattern image according to an instruction from a operation device 16.例文帳に追加

エンタテインメントシステム１０は、操作装置１６からの指示に従ってモニタ１８に描画された入力パターン画像を参照パターン画像と比較し、その類似度に基づいて操作上の評価を得る入力判定手段２００を設けて構成される。 - 特許庁

The method comprises a step of preparing an optical mask having a reference pattern and a comparison pattern, and projecting the optical mask on a prescribed image forming plane by using an exposure beam after loading the optical mask in an exposure system wherein a prescribed exposure beam is used.例文帳に追加

基準パターン及び比較パターンを具備する光学マスクを準備して、所定の露光ビームを使用する露光システム内に光学マスクをローディングした後、露光ビームを使用して光学マスクを所定の結像面に投映する段階を含む。 - 特許庁

To quickly judge whether or not an image pattern in a two-dimensional image is matched with a reference image pattern without using any frame memory, and to judge whether or not the both patterns are matched with each other based on the two-dimensional image obtained with a small time interval which is close to a real time.例文帳に追加

二次元画像内の画像パターンと基準画像パターンとの異同を、フレームメモリを用いることなく、高速で判定し、小さい時間間隔で得られかつリアルタイムに近い二次元画像に基づいて両パターンの異同を判定可能にすること。 - 特許庁

This semiconductor board includes an underlayer wire 13 on a base film 11, and a position detecting channels 15 indicating a reference position of the processing pattern as well as a contact hole 14 is pattern-formed on an interlayer insulation film 12 formed on the upper surface.例文帳に追加

この半導体基板は、下地膜１１上に下層配線１３を有し、その上面に形成された層間絶縁膜１２には、コンタクトホール１４とともにその加工パターンの基準位置を示す位置検出溝１５がパターン形成されている。 - 特許庁

The pattern densities of plural gradations formed by a printer is measured previously by a scanner to prepare a density correction table for correcting the density to have prescribed characteristic, and the density of a pattern formed inside the printer is measured with a sensor to set its reference.例文帳に追加

予め、プリンタで形成した複数階調のパターン濃度をスキャナで測定して該濃度値を所定特性に補正する濃度補正テーブルを作成し、また、プリンタ内部に形成したパターンの濃度をセンサで測定し、その基準値を設定しておく。 - 特許庁

A resist pattern comprises a reference color line consisting of at least one line, and an detection object color pattern consisting of a plurality of lines, and the respective lines are formed at different positions in the sub scanning direction and extend in the main scanning direction.例文帳に追加

レジストパターンは、少なくとも１本のラインで構成された基準色ラインと、複数本のラインで構成された検出対象色パターンとからなり、これら各ラインは、副走査方向の異なる位置に主走査方向に伸びるように形成する。 - 特許庁

The optical correlator 1 is a Vander-Lugt type which detects correlation between an input pattern and a reference pattern, and includes: a light source 11; an incident optical system 12; a first optical modulation part 21; a second optical modulation part 22; am imaging part 31; and a control part 41.例文帳に追加

光相関器１は、入力パターンと参照パターンとの間の相関を検出するVander-Lugt型のものであって、光源１１、入射光学系１２、第１光変調部２１、第２光変調部２２、撮像部３１および制御部４１を備える。 - 特許庁

The query is configured of a retrieval pattern, a pivot (node as the reference of retrieval pattern extension), the maximum depth difference in the case of retrieving an extended node form the pivot, the maximum number of extended nodes to be presented in the order of frequency and a flag designating whether to retrieve the high rank node.例文帳に追加

クエリは、検索パターン、ピボット（検索パターン拡張の基準とするノード）、ピボットから拡張ノードを探す際の最大depth差、頻度順に提示する拡張ノードの最大数、及び上位ノードを探すかどうかを指定するフラグから構成される。 - 特許庁

When the faces and direction of the substrate S are appropriate, the drawing position of a circuit pattern with respect to the substrate S is adjusted based on the relative positions of the first to fourth reference marks P1 to P4 and the circuit pattern is drawn on the substrate S by an optical unit 18.例文帳に追加

基板Ｓの表裏および向きが適正な場合には、第１〜第４基準マークＰ１〜Ｐ４の相対位置に基づいて基板Ｓに対する回路パターンの描画位置を調整し、光学ユニット１８によって基板Ｓに回路パターンを描画する。 - 特許庁

And, at inspection, a shadow of the fixed form pattern in photographed on the optical disk to be inspected 1, and compared with the reference image by an image recognition means 8, and the presence or absence of 'coat irregularity' is judged by a discrimination means 9 by recognizing deformed conditions of the fixed form pattern.例文帳に追加

そして検査時は、被検査光学ディスク１で定型模様の陰影を撮像し、画像認識手段８で基準画像と比較し、定型模様の変形具合を認識することにより、判別手段９で「コートむら」の有無を判定する。 - 特許庁

In the image correcting method, the relation of an inspection reference pattern image with a pattern image to be inspected is identified to construct a numerical formula model absorbing (fitting) the pixel shift or expansion and contraction, undulation noise and sensing noise of an image and an estimate model image is formed by the simulation of the numerical formula model.例文帳に追加

検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を同定して、画像の画素ズレや伸縮・うねりノイズ、センシングノイズを吸収（フィッティング）した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって推定モデル画像を生成する。 - 特許庁

The surface side picked-up image obtained by picking up the surface side work pattern of a substrate inspection unit 15 by a line sensor LS1 is collated with a preliminarily prepared surface side reference product pattern, to distinguish a work substrate having defectiveness generated on the surface side thereof.例文帳に追加

基板検査単位１５の表側のワークパターンを、ラインセンサＬＳ１にて撮影して得られた表側撮影画像と、予め用意された表側基準製品パターンとを照合し、表側において、不良が発生しているワーク基板を判別する。 - 特許庁

To allow a disconnection/short circuiting of an adjacent pattern from first formed circuit board to be verified, without depending a verifying accuracy on the probing position to a pattern end point and without collecting non- defective product data to be previous decision reference.例文帳に追加

パターン端点に対するプロービング位置によって検査精度が左右されることがなく、また、予め判定基準となる良品データを収集することなく、作成された回路基板の１枚目から隣接パターンの断線・短絡検査を可能とする。 - 特許庁

The image processing apparatus provided with a means for detecting a prescribed object pattern from an image outputted from an imaging means includes: a focus detection means for detecting a focal distance of the imaging means; and the object pattern detection means selectively changes a reference pattern used for collating the object pattern in response to the focus state estimated by the focal distance to collate the object pattern.例文帳に追加

撮像手段から出力された画像中から所定の被写体パターンを検出する手段を備えた画像処理装置において、前記撮像手段の合焦距離を検出する焦点検出手段を備え、前記被写体パターン検出手段は被写体パターンを照合する際の参照パターンを前記合焦距離にもとづいて推定されるフォーカス状態に応じて選択的に切り替えて前記被写体パターンの照合を行う。 - 特許庁

The ultrasonic diagnostic therapeutic apparatus has a monitor for displaying a reference image obtained from volume data, a means of displaying a therapeutic beam pattern, which is superimposed on the position of the ultrasonic beam to be applied and which indicates the distribution of the ultrasonic intensity, on the reference image, and a means of displaying the reference image rotated around an arbitrary axis of the volume data together with the therapeutic beam pattern.例文帳に追加

ボリュームデータから得られるリファレンス像を表示できるモニタを備え、 治療用の超音波設定条件の入力により、前記リファレンス像上にて、これから照射しようとする超音波ビームの位置に重ねられかつ超音波強度の分布が示される治療用ビームパターンを表示する手段と、 前記リファレンス像は、前記治療用ビームパターンとともに該ボリュームデータの任意の軸の回りに回転させて表示できる手段と、を備える。 - 特許庁

A CPU 10 executes a correcting data production process, sets a correcting reference value to each of the imaging elements on the basis of a rotation-detecting image corresponding to a portion of the read pattern, and corrects the rotation-detecting image on the basis of the reference value.例文帳に追加

ＣＰＵ１０は、補正用データ生成処理を実行し、読み取られたパターンの部分に該当する回転検知用画像に基づいて、撮像素子のそれぞれに対する補正用の基準値を設定し、この基準値をもとに回転検知用画像を補正する。 - 特許庁

Finally, for the N sheets of images of the specified hierarchy, an image having an average prediction error that is smaller than a predetermined threshold value is made as a reference image, and based on the reference image, an image that is synthesized from the N sheets of images of the same hierarchy is made as the image that contains the common pattern.例文帳に追加

最後に、特定した階層のＮ枚の画像に対し、平均予測誤差が所定の閾値よりも小さい画像を基準画像とし、この基準画像を基にして同じ階層のＮ枚の画像を合成した画像を共通パターンを含む画像とする。 - 特許庁

A matching processing part 42 locates at least one position on the road by executing pattern matching between the reference image acquired by the reference image acquisition part 40 and each of the plurality of picked-up images received by the picked-up image receiving part 44.例文帳に追加

マッチング処理部４２は、参照画像取得部４０において取得した参照画像と、撮像画像受信部４４において受信した複数の撮像画像のそれぞれとのパターンマッチングを実行することによって、少なくともひとつの道路上の箇所を特定する。 - 特許庁

Then, the pattern matching of an image to be compared obtained by imaging an object to be compared arranged in a posture including the position deviation in the direction of rotation and the reference image is operated by using the 1st alignment point A1 as a reference so that any position error to be detected can be minimized.例文帳に追加

この１ｓｔアライメント点Ａ１を基準として、回転方向の位置ずれを含んだ姿勢で配置されている比較対象を撮像した比較対象画像と、基準画像とのパターンマッチングを行うことで、検出される位置誤差が最小になる。 - 特許庁

A vehicle model distinction part 20 of this vehicle model distinction device 10 distinguishes one reference vehicle to which the vehicle corresponds, on the basis of image data and an inter-axle distance of the vehicle, reference axle pattern information stored in a vehicle various element dictionary data storage part 26, and reference image data stored in a vehicle image dictionary data storage part 27.例文帳に追加

車種判別装置１０の車種判別部２０は、車両の車軸間距離と画像データと、車両諸元辞書データ記憶部２６に記憶される基準車軸パターン情報と、車両画像辞書データ記憶部２７に記憶される基準画像データとに基づいて、車両が基準車両のいずれに該当するかを判別する。 - 特許庁

When information light 1 which carries information by spatial modulation and reference light 2 for recording are allowed to interfere in an information recording layer 4 of a recording medium and the information is recorded according to the resulting interference pattern, diffusion of the reference light 2 for recording is controlled so that rays of the reference light 2 for recording cause no interference in the information recording layer 4.例文帳に追加

空間的に変調することで情報を担持した情報光１と、記録用参照光２とを記録媒体の情報記録層４において干渉させ、当該干渉パターンによって情報を記録する際に、記録用参照光２同士が情報記録層４において干渉を生じないように記録用参照光２の発散を制御する。 - 特許庁

To provide a registration method for a wafer electrode and an alignment method for a wafer capable of improving the reliability of wafer processing, such as inspection, and reducing the load of operator, by releasing the operator from each operation for reference pattern selecting and pattern matching.例文帳に追加

検査等のウエハ処理の信頼性を向上させることができると共に、オペレータを基準パターンの選択やパターンマッチングの各作業から解放してオペレータの負荷を軽減することができるウエハ電極の登録方法及びウエハのアライメント方法を提供する。 - 特許庁

The method for sensing the abnormality in the machine comprises the steps of storing the relation of the torque to a time from the start of ejecting the molding 1 or a position of the plate of the machine as a reference pattern, and setting an allowed change range and a monitoring section of the torque to the pattern.例文帳に追加

本発明の方法では、成形品１の突出し開始からの時間又は成形機突出しプレートの位置に対する駆動トルクの関係を基準パターンとして記憶し、基準パターンに対する駆動トルクの許容変動範囲及び監視区間を設定する。 - 特許庁

To provide an image distortion correction method that shortly computes a smoothly varying distortion pattern by interpolating deviations measured by pattern matching at corresponding measurement representative points between a reference image and a compared image.例文帳に追加

本発明は、基準画像と比較画像の間で、対応する計測代表点でのパターンマッチングによって計測されたずれ量を補間処理することにより、滑らかに変化する歪みパターンを短い時間で算出する画像歪み補正方法の提供を目的とする。 - 特許庁

Since a positional detection pattern 240, a focus detection pattern 242, and a depth detection part 244 are aggregated in one surface, that is a composite inspection surface 236, of a reference roll 226, detection can be performed in a shorter time by this detector than by a constitution comprising plural inspection surfaces.例文帳に追加

基準ロール２２６の一面、すなわち複合検査面２３６に、位置検出パターン２４０、フォーカス検出パターン２４２、及び深度検出部２４４を集約したので、検査面が複数ある構成と比較し、短時間で検知を行なうことができる。 - 特許庁

An energy-saving support apparatus 1 includes a resource use information acquiring section 11, a target setting section 13, a reference amount acquiring section 14, a use planned amount arithmetic section 15, a storage section 16, a reduction pattern selection section 17, a recommendation pattern generation section 18 and a presentation section 19.例文帳に追加

省エネルギー支援装置１は、資源使用情報取得部１１と目標設定部１３と基準量取得部１４と使用予定量演算部１５と記憶部１６と削減パターン選択部１７と推奨パターン生成部１８と提示部１９とを備える。 - 特許庁

The partition 621 coordinated with reference to the management information 71 with the use of the identification information of the drawing pattern to be drawn is specified, and the drawing data are outputted to an optical head 41 at a fast transfer rate to quickly draw the drawing pattern.例文帳に追加

描画対象の描画パターンの識別情報を用いて管理情報７１を参照することにより対応するパーティション６２１が特定され、描画データが光学ヘッド４１に高速な転送レートにて出力され、描画パターンが高速に描画される。 - 特許庁

The content estimation means 3504 estimates the content of the document group from a document database 3503 comprising document groups having a reference relationship based on the document content and a posting pattern among authors to generate an index corresponding to a topic pattern of the content.例文帳に追加

内容推定手段（３５０４）は、参照関係を有する文書群からなる文書データベース（３５０３）から、文書内容及び作者間の投稿パターンに基づいて前記文書群の内容を推定して、該内容の話題パターンに対応するインデックスを生成する。 - 特許庁

The scanning type probe microscope is provided further with an acquisition-registering means for acquiring and registering a reference pattern for alignment, and a recipe formation means for recipe-registering the luminous energy to an illuminance when registering an image pattern to a recipe by the acquisition-registering means.例文帳に追加

さらに走査型プローブ顕微鏡は、アライメントのための参照用パターンを取得・登録する取得登録手段と、この取得登録手段によって画像パターンをレシピに登録した時の照度に光量をレシピに登録するレシピ化手段とを備える。 - 特許庁

The vibration waveform identification part 15 determines whether or not the touch input operation is normal by comparing the waveform pattern of the detected operating vibration with reference waveform patterns of operating vibrations caused upon normal operations which are stored in a waveform pattern storage part 16.例文帳に追加

この振動波形識別部１５は、検出された操作振動の波形パターンと、波形パターン記憶部１６に記憶されている正常な操作時に生じる操作振動の基準波形パターンと、を比較することで、当該タッチ入力操作が正常か否かを判断する。 - 特許庁

The image of a reference substrate is imaged on which a two-dimensional pattern is formed, the displacement of the positioning stage is obtained from the two-dimensional pattern acquired from the above imaging, the position of the positioning stage is two-dimensionally corrected on the basis of the above displacement, and the irradiation position of a laser beam is corrected.例文帳に追加

二次元パターンが形成された基準基板の画像を撮像し、この撮像で得た二次元パターンから位置決めステージの位置ずれを求め、この位置ずれに基づいて位置決めステージの位置を二次元で校正し、レーザー光の照射位置の位置補正を行う。 - 特許庁

When the underlying pattern 47 is displaced from the through hole 13, an electrode pattern 49 can be formed on a green sheet 34 while correcting the displacement based on the positional relation between the positional reference hole 45 and the print mark 48.例文帳に追加

これにより、スルーホール１３に対して下地パターン４７が位置ずれを起こしている場合に、位置基準穴４５と印刷マーク４８との位置関係に基づいて当該位置ずれを補正しつつ、グリーンシート３４に電極パターン４９を形成することが可能になる。 - 特許庁

When a range in which a checksum coinciding with the checksum described in the pattern file is detected, the start position and end position of a commercial are specified on the basis of the start position and end position described in the pattern file, using the position of the detected range as a reference.例文帳に追加

パターンファイルに記述されるものと一致するチェックサムが求められた範囲が検出された場合、その検出された範囲の位置を基準として、パターンファイルに記述されるCMの開始位置、終了位置に基づいてCMの開始位置と終了位置が特定される。 - 特許庁

However, when the electric charging and discharging management device receives an NG report from an HV control part (530) or difference between the vehicle speed pattern shown by the running history and current vehicle speed pattern exceeds the reference value or more, the management device stops the control by the HV control part based on the charging plan in the electric charging and discharging control.例文帳に追加

ただし、ＨＶ制御部からＮＧ通知を受けるか（５３０）、走行履歴の示す車速パターンと現在の車速パターンの乖離が基準幅以上となった場合、充放電制御は、充電計画に基づいたＨＶ制御部の制御を中止する。 - 特許庁

The search unit 13 searches the image including the mark WM by using the template created by the creating unit 9, and determines whether there is a pseudo pattern, other than the pattern of the mark WM, whose degree of matching with the template is higher than a reference value.例文帳に追加

サーチ部１３は、検出すべきマークＷＭを含む画像を生成部９によって生成されたテンプレートを用いてサーチし、検出すべきマークＷＭのパターン以外にテンプレートとのマッチング度が基準値より高い偽パターンが存在するか否かを判断する。 - 特許庁

The shape of the inner hole of the magnetic recording medium is measured, the center point of an inscribed circle of the inner hole is obtained, a reference pattern is magnetically formed in a circle state having a fixed radius outside a plotting region of the magnetic pattern on the magnetic recording medium with the obtained center point as a center.例文帳に追加

磁気記録媒体の内孔の形状を測定し、内孔の内接円の中心点を求め、求めた中心点を中心として、磁気記録媒体上の磁気パターンの描画領域外に、一定半径の円状に基準パターンを磁気的に形成する。 - 特許庁

A signal light pattern and a reference light pattern are simultaneously displayed at the center of the space optical modulator and its surroundings respectively to apply a laser beam, and a direct light and a diffracted from the space optimal modulator are stacked by the converging lens to be recorded in the recording medium.例文帳に追加

空間光変調器の中央に信号光用パターンを、その周囲に参照光用パターンを同時に表示させてレーザ光を照射し、空間光変調器からの直接光と回折光を集光レンズで重ね合わせて記録媒体に記録する。 - 特許庁

On the other hand, when the number U of starting storages is two at the start of pattern generation process, since the starting storage number U is smaller than the foreseeing execution reference number, bonanza foreseeing presentation is expressed.例文帳に追加

一方、図柄生成行程開始時点で、始動記憶数Ｕが２個であると、予見実行基準数よりも始動記憶数Ｕが少ないため、大当り予見演出が表出される。 - 特許庁

A reference pattern 102 of the length of 5 μm, the width of 1 μm, and the height (the film thickness) of 40 nm in plan view is formed on an insulating substrate 101 consisting of silicon oxide (SiO_2).例文帳に追加

酸化シリコン（ＳｉＯ_2）からなる絶縁性基板１０１の上に、平面視で長さ５μｍ，幅１μｍ，高さ（膜厚）４０ｎｍの基準パタン１０２が形成された状態とする。 - 特許庁

To bore a reference hole and a product hole in a position relationship of a high precision in any case of a gang die boring method and a grid pattern boring method.例文帳に追加

ギャングダイ穿孔方式とグリッドパターン穿孔方式の何れの場合においても、基準孔と製品孔とを高精度な位置関係で穿孔できる多軸穿孔装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, second density variation measuring patterns are created in synchronization with a roller home position sensor, and a second correction reference pattern is generated on the basis of the output signal of the density detector.例文帳に追加

また、ローラホームポジションセンサに同期して第２濃度変動測定用パターンが作成され、濃度検出器の出力信号に基づいて、補正用第２基準パターンが生成される。 - 特許庁

A pattern for color slurring instrumentation (a) has a reference color and a color which is an object of the color slurring correction output superposed in a color slurring instrumentation direction and a vertical direction and the color slurring is made easily recognized in a multi-color image forming apparatus.例文帳に追加

色ずれ測定用パターン（ａ）では、基準色と色ずれ補正を行う色とを、色ずれ測定方向と垂直方向に重ねて出力し、色ずれを認識しやすくする。 - 特許庁

This device shifts gradually a sync-pattern position of recording data from a recording reference position and records it, and when its shift quantity reaches the prescribed quantity, the position is fixed to the prescribed shift quantity and recording is performed.例文帳に追加

記録データのシンクパターン位置を記録基準位置から徐々にシフトさせて記録し、そのシフト量が所定量以上に達したら所定シフト量に固定して記録を行う。 - 特許庁

A checksum obtained from an image in a predetermined range in a commercial, and the start position and end position of the commercial using the position of the range as a reference, are described in a pattern file prepared for each commercial.例文帳に追加

CM毎に用意されるパターンファイルには、CMの所定の範囲の画像を対象として求められたチェックサムと、その範囲の位置を基準としたCMの開始位置、終了位置が記述される。 - 特許庁