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reference patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1662件
When a foreign substance adjacent to the alignment mark 6 is erroneously recognized, the misidentification detecting pattern 7 is entered in a recognition image 9 to reduce a matching rate with a reference pattern 10 of a recognition apparatus, and as a result, the misidentification caused by the foreign substance can be prevented.例文帳に追加
アライメントマーク5近傍の異物を誤って認識した際に、認識画像9中に誤認識検出パターン7が入り認識装置の基準パターン10とのマッチング率が低下し、異物による誤認識を回避できる。 - 特許庁
Before the adjustment of the image forming condition using the pattern for measuring the image density, a pattern for inspection is formed in the margin area at the end of recording material and its density is detected by a color sensor, thereby detecting a density difference from reference density.例文帳に追加
画像濃度測定用パターンを用いた画像形成条件の調整を行う前に、記録材状の端部余白領域に検査用パターンを形成してその濃度をカラーセンサで検出し、基準濃度との濃度差を検出する。 - 特許庁
The reference value is compared with a measurement value measured in the last and, when the user is mentally discouraged, the performance of the demonstration pattern is replaced to a super ready-to-win variation patter and when being in an excited state, replaced to a ready-to-win pattern (S109).例文帳に追加
その基準値と、最後に測定された測定値とが比較され、利用者が心理的に落胆状態ならスーパーリーチ変動パターンに、興奮状態ならリーチ変動パターンに、デモ図柄の演出は差し替えられる(S109)。 - 特許庁
In the process of producing a dummy pattern on a scribe line, the scribe line is divided for every chip, and the dummy pattern is produced at a specified gap from the center point of the chip as the reference point of production in the dummy producing region assigned to each chip.例文帳に追加
スクライブライン上にダミーパターンを発生するにあたり、スクライブラインをチップ毎に分割し、チップ毎に割り当てられたダミー発生領域に、チップの中心点を発生基準点として規定ギャップ値をもってダミーパターンを発生させる。 - 特許庁
An image converting means 213 and an image pattern storing means 214 divide the extracted image data one after another into a plurality of reference patterns A-H including a plurality of pixels, store them and compare them with a decision pattern of isolated pixels.例文帳に追加
この抽出画像データから画像変換処理手段213および画像パターン記憶手段214により順次複数の画素を含む複数の参照パタンA〜Hに分割記憶し、孤立画素の判定パターンと比較する。 - 特許庁
The position detecting data of the first reference mark 11 and the second reference mark 12 in a prescribed symmetrical shape formed with prescribed position relation at ' f overlapping and forming the circuit pattern or the like on a semiconductor substrate 1, and the dimension detection data of the first reference mark 11 or the second reference mark 12 are detected by detection means 36x and 36y.例文帳に追加
半導体基板上1に回路パターンなどを重ね合わせて形成する際に所定の位置関係をもって形成される所定の対称形状の第1基準マーク11および第2基準マーク12の位置検出データと、該第1基準マーク11または該第2基準マーク12の寸法検出データとを検出手段36x,36yによって検出する。 - 特許庁
When an input part 2 receives input of a retrieval musical composition name, a retrieval part 3 retrieves a text with which the retrieval musical composition name is associated in reference to the first database DB1, retrieves a color pattern associated with the meaning of the retrieved text in reference to the second database DB2, and retrieves a content associated with the retrieved color pattern in reference to the third database DB3.例文帳に追加
入力部2が検索用楽曲名の入力を受け付けると、検索部3が第1のデータベースDB1を参照して、検索用楽曲名が対応づけられたテキストを検索し、第2のデータベースDB2を参照して、検索したテキストの意味に関連する色彩パターンを検索し、第3のデータベースDB3を参照して、検索した色彩パターンと対応づけられたコンテンツを検索する。 - 特許庁
In an image display method, proper texture patterns are produced to each color in the multi color image by using a continuously variable screening tool, the tool is produced by a mixture pattern from a set of reference screens, the reference screens correspond to, for example, selected reference colors in a color space not depending on a machine.例文帳に追加
連続可変スクリーニングツールを用いてマルチカラー画像における各色に対し固有のテクスチャパターンを生成し、連続可変スクリーニングツールは1組の基準スクリーンからの混和パターンによって生成され、これら基準スクリーンは例えば、機械に依存しない色空間における選択された基準色に対応付けられる。 - 特許庁
Thus, even if the non-effective reference chip region adjacent to the effective reference chip region, and other non-effective chip regions remain in exposure of a peripheral region in a periphery aligner, a position of the effective reference chip region can be easily recognized by visual observation, a microscope, or the like according to a difference in a pattern to be formed.例文帳に追加
これにより、周辺露光装置における周辺領域の露光において、有効基準チップ領域に隣接した無効基準チップ領域、その他無効チップ領域が残存していても、形成されるパターンの違いから有効基準チップ領域の位置を目視、顕微鏡などによっても容易に認識することができる。 - 特許庁
A pattern collator 72 compares a reference tap extracted by a region extractor 71 with reference tap component of a learning pair previously stored in a learning pair storage 73, selects a learning pair having mostly approximated reference tap component, and supplies the selected learning pair to a normal equation generator 74.例文帳に追加
パターン照合部72は、領域抽出部71により抽出された参照タップと、学習対記憶部73にあらかじめ記憶されている学習対の参照タップ成分とを比較し、最も近似した参照タップ成分を有する学習対を選択し、正規方程式生成部74に供給する。 - 特許庁
When a reference signal (beacon signal) is input, a null beam is pointed to the direction of reference signal with no error by nulling the inner product of an input vector signal and a weighting factor vector, and weighting factors constituting a null pattern are calculated.例文帳に追加
参照信号(ビーコン信号)の入力時に、入力ベクトル信号と重み付け係数ベクトルとの内積がゼロとなるようにして参照信号方向にヌルビームを誤差なく指向させ、このとき、ヌルパターンを構成する重みづけ係数を算出する。 - 特許庁
A scale body connected to one object includes a reference mark including two partial sections arranged mirror symmetrically at a reference position, and the sections are respectively formed in a lattice structure pattern in which a scale cycle changes and aligned in a movement direction.例文帳に追加
一方の物体と結合された目盛本体が、基準位置に、鏡像対称に配置された2つの部分区域を含む基準マークを含み、該区域はそれぞれ、目盛周期が変化し移動方向に配列する格子構造パターンで構成されている。 - 特許庁
The level of reflected waves obtained by transmitting radio waves to a detection area is collated with one or more reference patterns, specified on the basis of weather conditions such as light rain and heavy rain, so as to select and determine the reference pattern fitting to the actual weather condition.例文帳に追加
検知領域に電波を送信して得られた反射波のレベルを、小雨や大雨などの天候条件に基づいて規定された1以上の基準パタンと照合し、実際の天候条件に適合した基準パタンを選択判断する。 - 特許庁
To provide an image collating method, an image collating device and a program that can ensure accurate collating even when collating a linear pattern in an image according to a distance and an angle depending on reference coordinates and a reference axis.例文帳に追加
画像中の線形状パターンについて基準座標と基準軸に応じた距離および角度を基に照合する場合であっても、高精度に照合を行うことができる画像照合方法、画像照合装置、およびプログラムを提供する。 - 特許庁
In a digital exposure system 2, an electronic magnification process for correcting deviation in recording position of a drawing pattern caused by deviation from a reference size of a drawn object 14 is executed separately in two steps: a reference magnification process part 76 and an adjustment magnification process part 72.例文帳に追加
デジタル露光システム2では、被描画体14の基準サイズからのずれに起因する描画パターンの記録位置のずれを補正するための電子変倍処理を、基準変倍処理部76と調整変倍処理部72の二段階に分けて行う。 - 特許庁
This reference window contains the values of the variance or standard deviation of the sub-blocks of the pixels of a pattern, and current windows contain the values of the variance or standard deviation of the sub- blocks of the pixels of an image, and the sub-blocks are of the same size in the current and reference windows.例文帳に追加
参照窓はパターンのピクセルのサブブロックの分散又は標準偏差の値をふくみ、現行窓はイメージのピクセルのサブブロックの分散又は標準偏差の値をふくみ、サブブロックは現行窓及び参照窓で同じサイズである。 - 特許庁
At this time, an S polarized light component s1 reflected by a vibrating diaphragm 151 in the first optical path is made to interfere with the reference light (P polarized light component p02 of reference light) passing the third optical path to form a first interference pattern.例文帳に追加
この際、第1の光路において振動膜151により反射されたS偏光成分s1と、第3の光路を通る参照光(参照光のP偏光成分p02)とを互いに干渉させて第1の干渉縞を形成する。 - 特許庁
Operator's selecting a reference figure from the plurality of figures is accepted by an input part 46, and it is determined by a figure determination part 52 whether the selected figure can be distinguished from other figures as a reference figure for pattern matching or not.例文帳に追加
操作者による複数の図形からの基準図形の選択が入力部46により受け付けられ、図形判定部52により選択された図形が、パターンマッチング用の基準図形として他の図形から区別可能か否かが判定される。 - 特許庁
Shift amounts d1 and d2 are measured by using a reference point 132A of a photoelectric conversion face 133A as a reference, and a resist pattern 40 is formed on the photoelectric circuit board 1 by an ink-jet printing method on the basis of the measured shift amounts d1 and d2.例文帳に追加
光路変換面133Aの基準点132Aを基準にして、ずれ量d1及びd2を測定し、測定されたd1及びd2に基づいてインクジェット印刷法によってレジストパターン40が光電子回路基板1上に形成される。 - 特許庁
The patterning roller forms a cylindrical base surface as the outer reference surface for pattern formation, a plurality of washer-like projecting rows parallel to the circumference of the reference surface, and circular arc projections partially covering the groove parts interposed between the projecting rows.例文帳に追加
模様付けローラーにあっては、模様形成外囲基準面としての円柱状基面とこの基面への円周方向に平行な複数の座金状凸条と凸条間に挟まれた溝部分を部分的に覆う円弧状突起を形成する。 - 特許庁
Although the signal light 12 passes through a recording layer 18 in a hologram recording medium, an interference pattern by the signal light 12 and reference light is recorded in volume in an area of the signal light 12 overlapping the pass-through area of the unillustrated reference light.例文帳に追加
信号光12はホログラム記録媒体内の記録層18内を通過するが、そのうち図示しない参照光の通過領域と重なり合う領域には、信号光12と参照光による干渉パターンが体積的に記録される。 - 特許庁
A consistency degree operation means 5 determines the degree of dispersion of the pixel values of the difference image extracted by the difference image extraction means as the degree of consistency between the distance image and the reference pattern.例文帳に追加
一致度演算手段5は差画像抽出手段により抽出した差画像の画素値のばらつきの程度を距離画像と基準パターンとの一致度として求める。 - 特許庁
It is preferable that, with every 100 μm or more of a change in the warpage of the substrate with respect to a reference value, the width of a pattern is changed to be thinner by 1 μm to 5 μm.例文帳に追加
ここで、基板のそり量が基準値に対して100μm以上変化する毎に、パターンの幅を1μm〜5μm細く変更することが望ましい。 - 特許庁
In a product design step, chip layout data of a product to which the CP pattern (33) is applied is created with reference to the layout of the macro cell of the cell design library (4).例文帳に追加
製品設計段階において、セル設計ライブラリ(4)のマクロ・セルのレイアウトを参照してCPパターン(33)を適用した製品のチップレイアウトデータを作成する。 - 特許庁
A lighting control part 507 lights up the prescribed lamp by using the color data to which the reference part 506 refers and lighting pattern data of the lamp for which the layer is set.例文帳に追加
点灯制御部507は、参照部506によって参照された色データと、レイヤ設定されたランプの点灯パターンデータとを用いて、所定のランプを点灯させる。 - 特許庁
In the second step, the color pattern having the joint clearance P closest to the reference value of the plurality of color patterns having different set values of the joint clearance P is selected.例文帳に追加
第二ステップでは、目地間隔Pの設定値が異なる複数の色柄パターンのうち前記基準値に最も近い目地間隔Pを有する色柄パターンを選択する。 - 特許庁
A depth of the internal defect is estimated, by applying a relationship between the defect depth and the period of the reference waveform to a previously recorded pattern table based on the obtained period.例文帳に追加
取得した周期に基づいて、欠陥深さと参照波形の周期との関係を予め記録したパターンテーブルに当てはめることにより内部欠陥の深さを推定する。 - 特許庁
Then it uses the 2nd brightness illuminometer reference value to determine whether the unit determined as defective actually has any pattern defect or non-defective foreign material.例文帳に追加
そして、不良として判別されたユニットは第2の明るさ照度計基準値を利用して実際にパターン不良であるか、良品性異物による不良であるかを判別する。 - 特許庁
Consequently the input voltage of the circuit chip can be maintained at the fixed reference voltage independently of changes in voltage due to the resistance R1 of the transparent conductive film pattern 41.例文帳に追加
これにより、透明導電膜パターン41の抵抗R1による電圧の変化にかかわらず、回路チップの入力電圧を一定の基準電圧とすることができる。 - 特許庁
Next, a binary picture of a pattern B is obtained as signal light of p-polarized light, and a second hologram is recorded by reference light of S-polarized light while multiplexing it with the first hologram.例文帳に追加
次に、P偏光の信号光としてパターンBの2値画像を得て、S偏光の参照光によって、第1のホログラムに多重させて第2のホログラムを記録する。 - 特許庁
To provide an image synthesizing apparatus for continuously displaying virtual objects even when the degree of matching of a marker and a reference pattern is deteriorated after the virtual object is displayed.例文帳に追加
仮想物体が表示された後にマーカーと参照パターンとの一致度が低下した場合でも、継続して仮想物体を表示可能な画像合成装置を提供する。 - 特許庁
The estimated detector positions for a detector element array 160, and the estimated motion pattern for an energy source 110 are defined with respect to the reference position in the imaging system 100.例文帳に追加
検出器素子アレイ(160)の推定検出器位置及びエネルギー源(110)の推定移動パターンをイメージング・システム(100)内の基準位置に対して規定する。 - 特許庁
Upon determining whether the pattern formed on the photomask has a defect in an inspection step 6, the defect determination reference is varied according to the attribute information.例文帳に追加
検査工程6において、フォトマスク上に形成されたパターンが欠陥を有するか否かを判定するときにはこの属性情報に応じて欠陥判定基準が変更される。 - 特許庁
A collation device selects biological information data (pattern data C) related with the finger (middle finger) designated by the finger information included in the ID code signal as reference data.例文帳に追加
照合装置は、IDコード信号に含まれる指情報により指定されている指(中指)に関する生体情報データ(パターンデータC)を基準データとして選択する。 - 特許庁
A pattern matching part 502 compares the image data of an image outputted by a test object device according to the transmitted signal with the image data of the reference image.例文帳に追加
パターンマッチング部502は、送信された信号に対応してテスト対象装置が出力する画像の画像データと、基準画像の画像データとを比較する処理を行う。 - 特許庁
The monthly fatal defect density of a reference product that is different in wiring pattern from, but identical in manufacturing process with the prediction subject product is calculated from measured data.例文帳に追加
予測対象製品とは配線パターンが異なるが製造プロセスが同じであるリファレンス製品について、実測データから月別致命欠陥密度を算出する。 - 特許庁
An image processing device 2 assigns an identifier (order code) indicating a permutation pattern from a reference arrangement order to a plurality of objects arranged in all orders.例文帳に追加
画像処理装置2は、全順序に配列された複数のオブジェクトに対して、基準となる配列順序からの置換パターンを示す識別子(順序符号)を付与する。 - 特許庁
The operator adjusts the amplification of an amplifying circuit 16 and a reference voltage of an A/D converter 18 so as to eliminate the difference between the white input picture and the luminance of the white test pattern.例文帳に追加
オペレータは、白の入力画像と白のテストパターンの輝度の差がなくなるように、増幅回路の増幅率やA/Dコンバータの基準電圧を調整する。 - 特許庁
Received light intensity indicating reproduction quality when each interference pattern is reproduced by the reference light of a target reproduction wavelength λp is obtained, and the received light intensity is obtained.例文帳に追加
各干渉パターンを目標再生波長λpの参照光で再生したときの再生品質を表す受光強度を取得し、その受光強度を取得する。 - 特許庁
To count selection command signals to be the reference of fluctuation pattern selection and to perform various control based on the number of times of the generation of the selection command signals.例文帳に追加
変動パターン選択の基準となる選択指令信号を計数して、その選択指令信号の発生回数に基づいて種々の制御を行えるようにする。 - 特許庁
To enhance tolerance of relative displacement for a phase modulation pattern of reference light during recording and playback in a hologram recording and playback device.例文帳に追加
ホログラム記録再生装置において、記録時と再生時とでの参照光の位相変調パターンについての相対的な位置ずれに対するトレランスの向上を図る - 特許庁
Thus, the rotation angle of the phase modulation element is controlled with respect to the hologram recording medium, and the phase pattern of reference beam can be made identical in recording and reproducing.例文帳に追加
この結果、ホログラム記録媒体に対する位相変調素子の回転角を制御し、参照光の位相パターンを記録時と再生時とで一致させることが可能となる。 - 特許庁
Next, a reference pattern in the shape characteristics of the same or similar roof surface is selected from a data base to the acquired shape characteristics of the roof surface 22.例文帳に追加
次に取得した屋根面22の形状特徴に対して同じまたは類似した屋根面の形状特徴における基準配置パターンをデータベースから選出する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus for obtaining an excellent cleaning performance in regard to a reference pattern as untransferred toner even when using toner having a sphere with a small diameter.例文帳に追加
小径、球形のトナーを使用する場合でも、未転写パターンである基準パターンに関して良好なクリーニング性能が得られる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The deciding parts 922 and 923 switch an image within a predetermined range in the reference pattern image to a threshold to decide that the image is black by a color/black decision rate designated by the user.例文帳に追加
判定部922、923は、基準パターン画像中の所定の範囲の画像を、ユーザーが指定する黒色黒判定割合で、黒色と判定する閾値に切替える。 - 特許庁
A reference pattern is created on a photoreceptor drum 1, its concentration is detected by a photosensor 9 and toner supply in the developing device 4 is controlled based on the detection result.例文帳に追加
感光体ドラム1上に基準パターンを作成し、その濃度をフォトセンサ9で検知し、該検知結果に基づいて現像装置4におけるトナー補給を制御する。 - 特許庁
Since an angle formed by a pair of adjacent rotation reference grooves is constant, rotation for each angle causes the same arrangement pattern of the electrode terminals before and after rotation.例文帳に追加
隣接する一対の回転基準溝のなす角度は一定で、前記角度ごとに回転させた場合、回転前後の電極端子の配列パターンは同じになる。 - 特許庁
Phase modulation of reference light generated during recording and playback is performed using a specific pixel arrangement pattern formed by two or more pixels as a minimum modulation unit.例文帳に追加
記録再生時に生成する参照光については、2以上の画素により形成される特定の画素配列パターンを最小変調単位として位相変調を行う。 - 特許庁
A pixel pattern having a diffraction grating formed by arranging grating lines directed at the azimuth angle θ to an X axis is allocated to a pixel positioned at the reference point P.例文帳に追加
基準点Pに位置する画素には、X軸に対して方位角θをなす方向を向いた格子線を配置してなる回折格子を有する画素パターンを割り付ける。 - 特許庁
The correlation coefficient between the detected waveform and the reference waveform from an oscillation source is calculated, and the decision of the correctness of the detected waveform is executed from the pattern of a displacement data column.例文帳に追加
発振源からの検出波形と参照波形の相関係数を算出して、該変位データ列のパターンから当該検出波形の正当性の判定を実行する。 - 特許庁
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