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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > reference patternに関連した英語例文

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reference patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1662



例文

Received light intensity indicating reproduction quality when each interference pattern is reproduced by the reference light of a target reproduction wavelength λp is obtained, and the received light intensity is obtained.例文帳に追加

各干渉パターンを目標再生波長λpの参照光で再生したときの再生品質を表す受光強度を取得し、その受光強度を取得する。 - 特許庁

One set of patterns PA1 to PA7 is formed on a transfer belt 6 so as to detect the color misalignment, then a change in the pattern (overlapping degree of a reference color and a color as the object to be detected) is read.例文帳に追加

色ずれ検出には1セットのパターンPA1〜PA7を転写ベルト6上に形成しパターンの変化(基準色と検出対象色の重なり具合)を読取る。 - 特許庁

Forming position of the underlying pattern 47 relative to the through hole 13 can thereby be determined by detecting positional relation between the positional reference hole 45 and the print mark 48.例文帳に追加

したがって、位置基準穴45と印刷マーク48との位置関係を検出することで、スルーホール13に対する下地パターン47の形成位置を求めることができる。 - 特許庁

A common determination value is allocated to a super-ready-to-win condition B as a special variation pattern type that is a look-ahead determination object, without reference to the number of reserved memories.例文帳に追加

そして、先読み判定の対象となる特別の変動パターン種別としてのスーパーリーチBについては、保留記憶数に関わらず共通の判定値を割振る。 - 特許庁

例文

Then, in an inspected image inspection circuit 44, an inspected image showing the pattern of the other die is compared with the reference image, and a defect candidate included in the inspected image is detected.例文帳に追加

続いて、被検査画像検査回路44では、他のダイのパターンを示す被検査画像と基準画像とが比較され、被検査画像が有する欠陥候補が検出される。 - 特許庁


例文

A pattern 3 exaggeratedly simply expressing a rabbit is indicated by cut-off lines 4 to serve as reference for cutting on the front face 1 and the rear face 2 of the envelope E1.例文帳に追加

封筒E1の表面1と裏面2には、ウサギを誇張して簡易的に表現した絵柄3が、切り取る基準となる切取線4によって表されている。 - 特許庁

The system is provided with a reference heat source 100 and with a measurement device main body 300 that automatically measures the NETD from a video signal of an infrared ray camera 800 that picks up an aperture mask 200 for one image pattern.例文帳に追加

基準熱源100 及び開口マスク200 を1画面中に撮像した赤外線カメラ800 の映像信号から自動的にNETDを測定する測定装置本体300 を備える。 - 特許庁

A mounting stage 30 controls the position and posture, with respect to a reference plane, of a target work 22 on which exposure light is formed into an image and to be exposed with a predetermined mask pattern.例文帳に追加

露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク22の基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージ30である。 - 特許庁

In the case of outer diameter reference, eccentricity quantity between an outer diameter part 1b used for positioning and a center of the transfer pattern 10 is made 20μm or less to 3μm or more.例文帳に追加

外径基準の場合には、位置決めに使用される外径部1bの外径中心と、転写パターン10の中心との偏心量を20μm以下、3μm以上とする。 - 特許庁

例文

The operator adjusts the amplification of an amplifying circuit 16 and a reference voltage of an A/D converter 18 so as to eliminate the difference between the white input picture and the luminance of the white test pattern.例文帳に追加

オペレータは、白の入力画像と白のテストパターンの輝度の差がなくなるように、増幅回路の増幅率やA/Dコンバータの基準電圧を調整する。 - 特許庁

例文

Upon determining whether the pattern formed on the photomask has a defect in an inspection step 6, the defect determination reference is varied according to the attribute information.例文帳に追加

検査工程6において、フォトマスク上に形成されたパターンが欠陥を有するか否かを判定するときにはこの属性情報に応じて欠陥判定基準が変更される。 - 特許庁

The deciding parts 922 and 923 switch an image within a predetermined range in the reference pattern image to a threshold to decide that the image is black by a color/black decision rate designated by the user.例文帳に追加

判定部922、923は、基準パターン画像中の所定の範囲の画像を、ユーザーが指定する黒色黒判定割合で、黒色と判定する閾値に切替える。 - 特許庁

A pattern matching part 502 compares the image data of an image outputted by a test object device according to the transmitted signal with the image data of the reference image.例文帳に追加

パターンマッチング部502は、送信された信号に対応してテスト対象装置が出力する画像の画像データと、基準画像の画像データとを比較する処理を行う。 - 特許庁

To enhance tolerance of relative displacement for a phase modulation pattern of reference light during recording and playback in a hologram recording and playback device.例文帳に追加

ホログラム記録再生装置において、記録時と再生時とでの参照光の位相変調パターンについての相対的な位置ずれに対するトレランスの向上を図る - 特許庁

The monthly fatal defect density of a reference product that is different in wiring pattern from, but identical in manufacturing process with the prediction subject product is calculated from measured data.例文帳に追加

予測対象製品とは配線パターンが異なるが製造プロセスが同じであるリファレンス製品について、実測データから月別致命欠陥密度を算出する。 - 特許庁

In a product design step, chip layout data of a product to which the CP pattern (33) is applied is created with reference to the layout of the macro cell of the cell design library (4).例文帳に追加

製品設計段階において、セル設計ライブラリ(4)のマクロ・セルのレイアウトを参照してCPパターン(33)を適用した製品のチップレイアウトデータを作成する。 - 特許庁

Since an angle formed by a pair of adjacent rotation reference grooves is constant, rotation for each angle causes the same arrangement pattern of the electrode terminals before and after rotation.例文帳に追加

隣接する一対の回転基準溝のなす角度は一定で、前記角度ごとに回転させた場合、回転前後の電極端子の配列パターンは同じになる。 - 特許庁

To count selection command signals to be the reference of fluctuation pattern selection and to perform various control based on the number of times of the generation of the selection command signals.例文帳に追加

変動パターン選択の基準となる選択指令信号を計数して、その選択指令信号の発生回数に基づいて種々の制御を行えるようにする。 - 特許庁

A pixel pattern having a diffraction grating formed by arranging grating lines directed at the azimuth angle θ to an X axis is allocated to a pixel positioned at the reference point P.例文帳に追加

基準点Pに位置する画素には、X軸に対して方位角θをなす方向を向いた格子線を配置してなる回折格子を有する画素パターンを割り付ける。 - 特許庁

The correlation coefficient between the detected waveform and the reference waveform from an oscillation source is calculated, and the decision of the correctness of the detected waveform is executed from the pattern of a displacement data column.例文帳に追加

発振源からの検出波形と参照波形の相関係数を算出して、該変位データ列のパターンから当該検出波形の正当性の判定を実行する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for obtaining an excellent cleaning performance in regard to a reference pattern as untransferred toner even when using toner having a sphere with a small diameter.例文帳に追加

小径、球形のトナーを使用する場合でも、未転写パターンである基準パターンに関して良好なクリーニング性能が得られる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Phase modulation of reference light generated during recording and playback is performed using a specific pixel arrangement pattern formed by two or more pixels as a minimum modulation unit.例文帳に追加

記録再生時に生成する参照光については、2以上の画素により形成される特定の画素配列パターンを最小変調単位として位相変調を行う。 - 特許庁

A reference pattern is created on a photoreceptor drum 1, its concentration is detected by a photosensor 9 and toner supply in the developing device 4 is controlled based on the detection result.例文帳に追加

感光体ドラム1上に基準パターンを作成し、その濃度をフォトセンサ9で検知し、該検知結果に基づいて現像装置4におけるトナー補給を制御する。 - 特許庁

In accordance with a plurality of in-plane repeated patterns, an evaluation value is calculated from the relation between a measured value for each total number of sheets in each pattern and the reference value as a whole.例文帳に追加

複数通りの面内繰返しパターンに従い、それぞれのパターンにおける累計枚数での測定値と全体の基準値との関係から評価値を計算する。 - 特許庁

A combination condition of the reference frequency and PRF can be arranged in order to generate the saw tooth pattern not only at a high-pass side but a low-pass side.例文帳に追加

鋸歯状パターンが高域側のみならず低域側において生じるように、参照周波数とPRFの組み合わせ条件を設定することも可能である。 - 特許庁

A correction amount arithmetic unit 3 receives an imaged image with a concentric circular reference pattern wherein intervals of concentric circles (increments of radius) are equal to each other from e.g., a digital camera.例文帳に追加

補正量演算装置3には、例えば、デジタルカメラから各同心円の間隔(半径の増分)が等しい、同心円の基準パターンの撮像画像が供給される。 - 特許庁

On an optical disk 101, a known data pattern for learning for calculating the PR code reference value is recorded at the boundary of the areas having the different reproduction properties.例文帳に追加

光ディスク101上には再生特性が異なる領域の境界にPR符号基準値算出のための学習用の既知データパターンが記録されている。 - 特許庁

A first correction symbol that is a reference of the discrepancy is printed on the dot pattern business form, and the background information has information related to a second correction symbol showing the discrepancy.例文帳に追加

ドットパターン帳票には、ずれの基準となる第1補正記号が印刷されており、背景情報は、ずれを示す第2補正記号に関する情報を有している。 - 特許庁

Only a defect image part is extracted by a difference processing of an absorption current image of inspection wiring and a reference wiring pattern image, and it is overlapped with an SEM image.例文帳に追加

検査配線の吸収電流像と、基準配線パターン像との差分処理で欠陥像部分のみを抽出し、さらにこれをSEM像に重畳する。 - 特許庁

In the device for optical information reproduction which can reproduce media where an interference pattern generated when signal light and reference light are superposed is recorded, and reproduces information using holography, when information is reproduced, reference light is radiated to the media with ranging reference light angle, the reference light is diffracted by the interference pattern to generate reproduction light, the reproduction light is detected by a photodetector, and signal processed, to reproduce information.例文帳に追加

信号光と参照光とを重ね合わせた時に生じる干渉パターンが記録された媒体を再生することが可能な、ホログラフィを利用して情報を再生する光情報再生装置において、情報の再生時には、幅を持った参照光角度で参照光を媒体に照射し、前記参照光が前記干渉パターンで回折されて再生光を生成し、前記再生光を光検出器で検出し、信号処理することで情報を再生することを特徴とする、光情報再生装置で解決できる。 - 特許庁

A stop pattern in case of open railroad crossing and a stop pattern in case of closed railroad crossing are stored as a database in the memory of a train controller on the vehicle, and the train controller performs speed control of a train by a signal received from the ground unit with reference to a stop pattern corresponding to the opening/closing information of a railroad crossing.例文帳に追加

車上側の列車制御装置では、踏切開の場合の停止パターン、踏切閉の場合の停止パターンがデータベースとしてメモリに記憶してあり、列車制御装置では、地上装置より受信した信号により、踏切開閉情報に対応した停止パターンを参照して列車の速度制御を行う。 - 特許庁

In addition, the control unit allows the packaging paper H to be printed by the printing unit 41 with a printing pattern P printed in advance on the packaging paper H as a reference position based on the detected signal from a printing pattern detection sensor 42 for detecting the printing pattern P printed in advance on the packaging paper H.例文帳に追加

しかも、制御部は、包装紙H上に予め印刷された印刷模様Pを検出する印刷模様検出センサ42からの検出信号に基づき包装紙Hに予め印刷された印刷模様Pを基準位置として印刷装置41により包装紙Hに印刷を行わせる。 - 特許庁

The semiconductor device includes a circuit pattern (4) located on a semiconductor substrate, a pair of contact holes (1) positioned in the surrounding of the circuit pattern, and a reference wiring pattern (2) located on an upper layer of an insulating film, on which the pair of contact holes is provided so as to be connected with the pair of holes.例文帳に追加

本発明による半導体装置は、半導体基板上に設けられた回路パターン(4)と、前記回路パターンの周囲に配置されたコンタクトホール対(1)と、前記コンタクトホール対が設けられた絶縁膜の上層に前記コンタクトホール対と接続するように設けられた基準配線パターン(2)とを具備している。 - 特許庁

A reference pitch pattern SP having substantially fixed pitch and extending in the direction of its width (direction X of main scanning) and a variable pitch pattern VP whose pitch is changed at substantially fixed ratio are formed to overlap mutually while conveying the print sheet P1, thereby forming a gradation pattern GP in which shading is changed in the direction of paper width (step S4).例文帳に追加

プリントシートP1を搬送しながら、その幅方向(主走査方向X)に延びる略一定ピッチの基準ピッチパターンSPと、略一定の割合でピッチの変化する変更ピッチパターンVPとを、互いに重なるようにして形成し、これにより、ペーパ幅方向に濃淡の変化するグラデーションパターンGPを形成する(ステップS4)。 - 特許庁

When a specific pattern detecting means 113 detects a specific pattern contained in a modulated code from a bit string inputted via the transmission path 104, a modulation code recognizing means 117 generates a demodulated data strobe signal 119 with a phase of the modulated code containing the specific pattern as reference.例文帳に追加

特定パターン検出手段113により伝送路104を経て入力されたビット列から変調コードに含まれる特定パターンが検出されると、変調コード認識手段117はその特定パターンを含む変調コードの位相を基準にして復調データストローブ信号119を生成する。 - 特許庁

This confidential information card includes: a plurality of watermark patterns obtained by printing a watermark pattern that is a reference generated by a binarized pattern generation means and one or more other watermark patterns on a base material by infrared absorption ink; and a pattern layer formed on the plurality of watermark patterns by infrared transmissive ink.例文帳に追加

秘匿情報カードは、二値化パターン生成手段により生成した基準となる透かしパターンと少なくとも1以上の他の透かしパターンとを赤外線吸収インキにて基材上に複数印刷した透かしパターンと、複数の透かしパターン上に赤外線透過インキによって形成された図柄層と、を有する。 - 特許庁

The pattern identification device which identifies any pattern present in input data by using data on a reference pattern or registered data including its characteristic quantity, and identification data specifying the content of processing for comparing the input data with the registered data, retains the registered data and the identification data in association with labels.例文帳に追加

参照パターンのデータまたはその特徴量を含む登録データと、入力データと登録データとを比較するための処理内容を規定する識別パラメータとを用いて、入力データに存在するパターンを識別するパターン識別装置は、登録データと識別パラメータとをラベルに関連付けて保持する。 - 特許庁

An exposure mask to be inspected is used for carrying out pattern exposure to a reference chip under standard exposure conditions, the pattern exposure is carried out to a plurality of inspection chips by changing exposure conditions, and development treatment is made, thus manufacturing a first inspection wafer where the pattern with the same layout is formed in each chip (S1 to S2).例文帳に追加

検査を行う露光マスクを用いてリファレンスチップに対して標準の露光条件でパターン露光を行い、複数の検査チップに対して露光条件を変化させたパターン露光を行った後、現像処理を行うことで各チップに同一レイアウトのパターンを形成してなる第1検査ウエハを作製する(S1〜S2)。 - 特許庁

A raster picture to be displayed this time is displayed by allocating this three-fold pattern to the three light emitting elements composing one pixel, by dynamically deciding a three-fold pattern obtained by magnifying the noteworthy pixel in the 1st direction according to a rectangular reference pattern consisting of the noteworthy pixel and 3×3 pixels surrounding this noteworthy pixel.例文帳に追加

今回表示すべきラスタ画像において、注目画素と、この注目画素を取り囲む、3×3画素からなる矩形の参照パターンに従って、当該注目画素を第1の方向に3倍拡大した3倍パターンを、動的に決定し、1画素を構成する3つの発光素子に、この3倍パターンを割り当てて表示する。 - 特許庁

That is, at the switching point R of the upstream side and the downstream side of the pattern moving direction, an inclination α formed by a reference line L1 orthogonal with the axis L and the pattern moving surface positioned on the upstream side and an inclination β formed by the line L1 and the pattern moving surface positioned on the downstream side are nearly equal to each other.例文帳に追加

即ち、図柄移動方向の上流側と下流側の切換点Rにおいて、軸線Lに対し直交する基準線L1と上流側に位置する図柄移動面でなす傾斜角αと前記基準線L1と下流側に位置する図柄移動面でなす傾斜角βが略同一角度となっている。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus having a density adjusting means for detecting light reflected from a reference toner pattern formed on a photoreceptor drum and for adjusting a toner density using an output value corresponding to the reflected light, the apparatus being configured to prevent adverse effect on toner density control by suppressing firm fixing of a sleeve in the position where the reference toner pattern is formed.例文帳に追加

感光ドラムに形成した基準トナーパターンの反射光を検知し、その反射光に応じた出力値を用いてトナー濃度調整を行う濃度調整手段を備えた画像形成装置において、基準のトナーパターンの形成位置でのスリーブ固着を抑制してトナーの濃度制御に影響を及ぼさない画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

A rough surface pattern 14 which functions as an irregular light diffusion pattern to be formed at least on a reverse surface 12 side of the light guide plate 2 is formed so as to include many minute protrusions 14a protruded from the reference surface (reverse surface 12) of the light guide plate 2 with minimized minus protrusions 14b inwardly recessed from the reference surface of the light guide plate 2.例文帳に追加

導光板2の少なくとも裏面12側に形成される凹凸状の光拡散パターンとして機能する粗面パターン14は、導光板2の基準面(裏面12)から内部に凹むマイナス突起14bを少なくし、導光板2の基準面から突出する微小突起14aで多く構成されるように形成される。 - 特許庁

A controller calculates a three-dimensional interference pattern for generating reproduction light corresponding to a desired three-dimensional image when a recording medium 1 is irradiated with reference light for reproduction, divides the three-dimensional interference pattern into partial interference patterns, and calculates reference light at the time of recording and information light at the time of recording as to the respective partial interference patterns.例文帳に追加

コントローラは、記録媒体1に対して再生用参照光が照射されたときに所望の3次元画像に対応した再生光を発生させるための3次元干渉パターンを計算し、この3次元干渉パターンを部分干渉パターンに分割し、各部分干渉パターンについて、記録時参照光および記録時情報光を計算する。 - 特許庁

The discontinuous points are formed by proper dimension on the reference potential plane positioned near a wiring pattern formed on a semiconductor chip or a package board configuring the semiconductor device, so that the delay elements having desired characteristics can be equivalently and easily added according to the shape of not the signal line side of the wiring pattern but the reference potential plane side.例文帳に追加

半導体装置を構成する半導体チップやパッケージ基板上で形成された配線パターンに近い位置にある参照電位平面に適切な寸法でこの不連続点を形成して配線パターンの信号線側ではなく、参照電位平面側の形状により、所望の特性を有する遅延素子を等価的に容易に付加することが出来る。 - 特許庁

The semiconductor device has a device region and a TEG region outside the device region, and a line-and-space pattern 21 in the TEG region 10 has a plurality of reference patterns 12 arrayed regularly at predetermined intervals and a specific pattern 13 arranged near the reference patterns 12.例文帳に追加

本発明にかかる半導体装置は、デバイス領域と前記デバイス領域の外側に設けられたTEG領域とを備える半導体装置であって、TEG領域10のラインアンドスペースパターン21は、所定の間隔で規則的に配列された複数の基準パターン12と、基準パターン12の近傍に配置された特異パターン13とを有している。 - 特許庁

Distribution of wave front variation caused by the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face is measured based on the interference fringe between the reference light comprising the light reflected from a reference plane 5a and a measuring light comprising the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face and then the measurements of plane shape are corrected based on the measured distribution of wave front variation.例文帳に追加

参照面(5a)での反射光からなる参照光と回折パターン面での反射0次回折光からなる測定光との干渉縞に基づいて、回折パターン面での反射0次回折で生じる波面変化の分布を測定し、測定した波面変化の分布に基づいて被検面の面形状の測定結果を補正する。 - 特許庁

A mobile phone 1 includes: a circuit board 70 with a reference potential pattern layer 75 formed on a first side 70a; and a conductive case member 60 which is layered and disposed on a side of the first side 70a of the circuit board 70 and includes the bottom face 162 of ribs 62a as an abutting part to be disposed while facing the reference potential pattern layer 75.例文帳に追加

携帯電話機1は、第1面70aに基準電位パターン層75が形成された回路基板70と、回路基板70における第1面70a側に積層配置されると共に基準電位パターン層75に対向して配置される当接部としてのリブ62aの底面162を有する導電性のケース部材60と、を備える。 - 特許庁

A printer control device performs, in image formation process control, processing of detecting a misalignment detection pattern (step S305), and processing of detecting a concentration detection pattern (step S307), and thereafter refers to a first reference signal level and a second reference signal level to determine whether the results of the detection processing are valid or not (step S309).例文帳に追加

プリンタ制御装置は、画像形成プロセス制御において、位置ずれ検出用パターンの検出処理(ステップS305)、及び濃度検出用パターンの検出処理(ステップS307)を行った後、第1参照信号レベル及び第2参照信号レベルを参照し、検出処理の結果が有効であるか否かを判断する(ステップS309)。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that accurately detects toner image density of a reference density pattern and carries out image formation with preferable density, irrespective of characteristics of a photoreceptor drum that carries a reference density pattern or the surface of an intermediate transfer belt, after use of a light-emitting element that constitutes a toner density sensor for a long period, which results in decrease in brightness.例文帳に追加

基準濃度パターンを担持する感光体ドラム、あるいは中間転写ベルトの表面の特性に依らずに、トナー濃度センサを構成する発光素子が長時間点灯し光度が低下したときでも基準濃度パターンのトナー像濃度を正確に検出し、好ましい濃度の画像形成を行うことができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

例文

A computation is applied, for example, to prescribed fixed pattern data, which are stipulated to be recorded to a recording medium, so that an intersymbol interference assumed in an adopted PR class may be reproduced, and consequently the fixed pattern data are converted to ideal values which are expressed with reference levels assumed in the PR (reference level selection signals).例文帳に追加

例えば記録媒体に対して記録されることが規定されている所定の固定パターンデータに対し、採用されるPRのクラスで想定される符号間干渉を再現するように演算を施すことで、上記固定パターンデータをそのPRで想定される基準レベルで表現した理想値に変換する(基準レベル選択信号)。 - 特許庁




  
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