「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, with the combination of the distance and the direction obtained for each constituting pixel as feature data, the similarity of the distribution pattern of the feature data is calculated between the image corresponding to the reference image and the reference image.例文帳に追加

そして構成画素毎に得た距離および方向の組み合わせを特徴データとして、基準画像に対応づけられた画像と基準画像との間で、上記の特徴データの分布パターンの類似度を算出する。 - 特許庁

A power control means 11 computes a reference frequency value for AC excitation of an exciter 8 on the occasion of the load power pattern, and outputs it to the exciter 8 through a reference value outputting means.例文帳に追加

電力制御手段１１は、その負荷電力パターンに基づいて励磁装置８の交流励磁用の周波数基準値を算出し、基準値出力手段１２を介して励磁装置８に出力する。 - 特許庁

A wiring pattern 252 electrically connecting an electrode 223 on the reference terminal side of the interdigital transducer 213 with an electrode 228 on a reference terminal side of the interdigital transducer 218 on the piezoelectric substrate 208 is provided.例文帳に追加

くし型電極部２１３の基準端子側の電極２２３と、くし型電極部２１８の基準端子側の電極２２８とを圧電基板２０８上にて電気的に接続する配線パターン２５２を設ける。 - 特許庁

In a wiring pattern of a circuit board 2, signal lines PP_d, P_a, and P_b are interposed between reference voltage lines PVG and PVC, and the reference voltage line PVG or PVC in both ends are connected with conductive brackets 6 and 7.例文帳に追加

回路基板２の配線パターンとして基準電圧ラインＰ_VG、Ｐ_VCで信号ラインＰ_pd、Ｐ_a、Ｐ_bを挟み込む構成とし、両端の基準電源ラインＰ_VGまたはＰ_VCと導電性のブラケット６、７とを接続している。 - 特許庁

Then, based on this reference pattern, one or more monitoring zones are set using the position of the movable platen and the tolerable threshold value of the mold clamping force in each monitoring zone is set as a primary reference function of the position.例文帳に追加

この基準パターンに基づいて、一または二以上の監視区間を前記位置を用いて設定するとともに、各監視区間内での型締め力の許容限界値を前記位置の一次関数の形で設定しておく。 - 特許庁

A defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image are obtained, difference images between the obtained defect image and the reference image are generated by a control unit included in a defect correction device.例文帳に追加

多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像を取得し、欠陥修正装置が備える制御部により、取得された前記欠陥画像と前記参照画像の差分画像を生成する。 - 特許庁

Deciding a reference signal on the basis of the unique word value and adjusting a weight vector on the basis of the reference signal and the received signal can allow the wireless base station to properly direct a directivity pattern to the mobile station.例文帳に追加

このユニークワードの値に基づき参照信号を定め、これと受信信号とに基づきウェイトベクトルを調整することにより、無線基地局はその移動局に対して適切に指向性パターンを向ける。 - 特許庁

In the pattern exposure process, the time when the electron beam 83 passes on the exposure position reference mark 21 is detected with the electron detector and the timing for irradiating the electron beam 83 is controlled with reference to the passing time.例文帳に追加

パターン露光を行う工程において、露光位置参照マーク21上を電子ビーム83が通過する時刻を電子検出器により検出し、通過時刻を基準として電子ビーム83を照射するタイミングを制御する。 - 特許庁

After the optical image and the reference image of the entire mask 101 are stored, a pattern defect inspection of the mask 101 is conducted by a defect inspection section 124 using the optical image and the reference image of the entire mask.例文帳に追加

マスク１０１全体の光学画像及び参照画像が格納された後、欠陥検査部１２４によりこのマスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスク１０１のパターン欠陥検査が実行される。 - 特許庁

When a plurality of the rolls 3 are used, provided the roll diameter is integral multiple of reference dimension, detect the error 4 per every block 7 in units of reference dimension to obtain a data pattern 6 binary-coded depending on the presence of errors.例文帳に追加

ロール３が複数用いられているとき、ロール径が基本寸法の整数倍であれば、基本寸法を単位とする区間７毎に欠陥４の検出を行い、欠陥の有無に従って２値化したデータパターン６を得る。 - 特許庁

Regarding the received sounding reference signal and shared data channel, regardless of the antenna to be selected for transmitting the shared data channel, any antenna is selected for transmitting the sounding reference signal in accordance with a switching pattern.例文帳に追加

受信したサウンディングリファレンスシグナル及び共有データチャネルでは、共有データチャネルの送信用に選択されるアンテナに関わらず、切り替えパターンに従い、サウンディングリファレンスシグナルの送信用にアンテナが選択される。 - 特許庁

A reference potential to be supplied to the reference electrode (electrode pattern 201) of the liquid crystal element is supplied by an exclusively using feeder which is different from the feeder for supplying driving voltages for the focusing coil 52 and the tracking coil 53.例文帳に追加

液晶素子の基準電極（電極パターン２０１）に供給する基準電位を、フォーカシングコイル５２およびトラッキングコイル５３の駆動電圧を供給する給電線とは異なる専用の給電線で供給する。 - 特許庁

A matching processing part 56 carries out pattern matching between a picked up image received from the imaging apparatus with a previously stored reference image for determining whether the reference image is included in the picked-up image or not.例文帳に追加

マッチング処理部５６は、撮像装置から受信した撮像画像と、予め記憶した参照画像とのパターンマッチングを実行することによって、参照画像が撮像画像に含まれているかを判定する。 - 特許庁

A P polarized light component p1 reflected by a vibrating film 152 in the second optical path is made to interfere with the reference light (S polarized light component s02 of reference light) to form a second interference pattern.例文帳に追加

また、第２の光路において振動膜１５２により反射されたＰ偏光成分ｐ１と、参照光（参照光のＳ偏光成分ｓ０２）とを互いに干渉させて第２の干渉縞を形成する。 - 特許庁

A reference symbol pattern is configured by determining a reference symbol in each variation cycle whose object is the case that the number of times of executing the variation cycle is the largest (in the case of "4 times") while accompanied by the continuous performance.例文帳に追加

基準図柄パターンは、連続演出を伴う中で変動サイクルの実行回数が最も多い場合（「４回」の場合）を対象とする各変動サイクルでの基準図柄を定めて構成するようにした。 - 特許庁

The game machine uses a reel tape 106 obtained by forming a reference mark 107 showing a reference position for winding on the reels 101a, b and c with patterns by a pattern forming means being a screen printer not shown in the figure.例文帳に追加

回胴１０１ａ、ｂ、ｃに対する巻き付け用の基準位置を示す基準マーク１０７を、図柄形成手段たる図示しないスクリーン印刷装置によって図柄とともに形成したリールテープ１０６を用いた。 - 特許庁

Further, also on a reticle stage RST, the reticle R is matched mechanically with a predetermined reference in terms of an outer shape reference using a reference member 82, the reticle stage RST is moved so as to cancel the estimated drawing error of the pattern, and thereafter reticle alignment is implemented.例文帳に追加

また、レチクルステージＲＳＴ上においても、基準部材８２を用いてレチクルＲを外形基準で機械的に所定の基準に整合させるとともに、求めておいたパターンの描画誤差を相殺するようにレチクルステージＲＳＴを移動させた後に、レチクルアライメントを実施する。 - 特許庁

A musical sound reproduction device converts reference data corresponding to a motion pattern specified by the user, to expansion/contraction reference data obtained by expanding/contracting the data according to a motion speed of the exerciser, to output musical sound according to the expansion/contraction reference data.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る楽音再生装置は、運動者が指定した運動パターンに対応した基準データを、運動者自身の動きの早さにあわせて伸縮させた伸縮基準データに変換し、その伸縮基準データに応じた楽音を放音させることができる。 - 特許庁

Reference data is collated with inputted data, bit position information from a reference data generating part is fetched by every detection of the error bit every time, when an error bit is detected, the bit patterns of the reference data are displayed continuously on a pattern display part 33, bits with errors are marked and displayed by attaching diagonal lines in a figure.例文帳に追加

基準データと入力データとを照合し、誤りビットが検出されるごとに、その時の基準データ発生部からのビット位置情報を取込み、パターン表示部３３に基準データのビットパターンを連続的に表示し、その誤りのあったビットには、印し、図は斜線を付けて表示する。 - 特許庁

During recording, a polarization hologram pattern 8c diffracts reference light Lb outgoing from the objective lens 9 so that the reference light Lb from the objective lens 9 is superposed on a converged point of information light La outgoing from the objective lens 9, while the reference light Lb from the objective lens 9 converges at a position deviated from the converged point of the information light La.例文帳に追加

記録時、対物レンズ９から出射した参照光Ｌｂが、対物レンズ９から出射した情報光Ｌａの集光点と重なるとともに、情報光Ｌａの集光点からずれた位置で集光するように、偏光ホログラムパターン８ｃが参照光Ｌｂを回折させる。 - 特許庁

When the position of the process region 4 is to be corrected by using the reference patterns 3a, 3b, 3c, the position correction of the process region 4 from a displaced reference pattern 3a' is stopped, and the position of the process region 4 is corrected from the rest of reference patterns 3b, 3c.例文帳に追加

各参照パターン３ａ，３ｂ，３ｃを用いて加工領域４の位置補正を行う際、位置ズレを起こした参照パターン３ａ’から加工領域４に対する位置補正を中止して、残りの参照パターン３ｂ，３ｃから加工領域４に対する位置補正を行う。 - 特許庁

The method includes to decide a reference imaging function, to decide a parameter of a difference function expressing a difference between the reference imaging function and an additional imaging function, and to calculate the difference between the reference image of the pattern and the additional image on the basis of the difference function and decided parameter.例文帳に追加

この方法は、基準結像関数を決定すること、基準結像関数と追加結像関数との差を表す差分関数のパラメータを決定すること、差分関数及び決定されたパラメータに基づいてパターンの基準イメージと追加イメージとの差を計算することを含む。 - 特許庁

The control part 11 reads out the arrangement pattern corresponding to the input pattern class from an arrangement pattern data storage region 121, extends the arrangement pattern read out corresponding to the input face dimension and the reference position, and specifies the number and position of the speakers arranged on the extended arrangement pattern according to the input arrangement interval to display the specified result on the display part 13.例文帳に追加

制御部１１は、入力されたパターン種別に対応する配置パターンを配置パターンデータ記憶領域１２１から読み出し、入力された面寸法と基準位置とに合わせて読み出した配置パターンを展開し、展開した配置パターン上に設置されるスピーカの数と位置とを、入力された配置間隔に応じて特定し、特定結果を表示部１３に表示させる。 - 特許庁

The reference release voltage value corresponding to the calculated difference value is drawn out based on the characteristic pattern 12a, and a deterioration degree calculating part 11b calculates a deterioration degree of the battery, based on the reference release voltage value, the release voltage value and the full-charge reference release voltage value under the full charge condition of the reference battery stored in the storage part 12.例文帳に追加

算出された差分値に対応する基準開放電圧値を特性パターン１２ａに基づいて導出し、基準開放電圧値、開放電圧値及び記憶部１２に記憶されている基準バッテリの満充電状態における満充電時基準開放電圧値に基づいて、バッテリの劣化度を劣化度算出部１１ｂにて算出する。 - 特許庁

In this manufacturing method for the reference electrode in an electrode array for the electrochemical measurement, having two or more of electrode pairs including at least the reference electrode and a measuring electrode, the reference electrode is manufactured by applying a silver paste on a reference electrode portion of a conductive pattern, and by treating a surface with hypochlorous acid to form silver chloride.例文帳に追加

少なくとも参照電極と測定電極を含む２つ以上の電極対を持つ電気化学測定用電極アレイにおける参照電極の製造方法であって、前記参照電極は、導電性パターンの参照電極部位上に銀ペーストを塗布し、次亜塩素酸による処理で表面を塩化銀化させることにより製造される。 - 特許庁

To highly accurately read a pattern by suppressing a variation in the sensitivity of an image sensor and a variation in the light amount of a light source in an image reader that detects a reference stop position of a carriage by reading a prescribed pattern by the image sensor.例文帳に追加

イメージセンサで所定のパターンを読取り走行体の基準停止位置を検出する画像読取装置において、イメージセンサの感度や光源の光量のバラツキを抑制して、精度良くパターンを読み取る。 - 特許庁

Subsequently, pattern outlines are generated by expanding and partitioning regions indicated by the inside/outside pattern defining information with reference to pixel values of an edge emphasized image of a sample object image.例文帳に追加

そして、対象試料画像のエッジ強調画像の画素値を参照しながら、パターン内外規定情報で示される領域を膨張させることにより領域分割を行い、対象試料のパターン輪郭線を生成する。 - 特許庁

A pattern matching means 6 receives a measuring command, and detects an adequate area where the image information included in the reference information is approximating to an image pattern from among images photographed by an image photographing means 3.例文帳に追加

パターンマッチング手段６は、測定指令を受け取ると、画像撮影手段３で撮影されている画像内から、基準情報に含まれている画像情報と画像パターンが近似している適合領域を検出する。 - 特許庁

The microcomputer 10 references the output cross-reference data to obtain the state signal data being a display object, decides a light emitting pattern corresponding to the data, and outputs the light emitting pattern to the LEDs 6, 7.例文帳に追加

マイコン１０は、この出力対応関係データを参照して表示対象となる状態信号データを得、そのデータ値に応じた発光パターンを決定した後、その発光パターン信号をＬＥＤ６、７に出力する。 - 特許庁

As a result, the characteristics of the image to be inspected are reflected on the reference image to be used for comparison inspection so that the accurate inspection of the pattern can be realized, regardless of the materials of the pattern or the kind of a process for the object to be inspected.例文帳に追加

その結果、比較検査に用いる参照画像は被検査画像の特徴を反映しているため、検査対象物についてパターンの材料、プロセスの種類に関わらず、パターンの正確な検査が行える。 - 特許庁

In this two-dimensional information code 5, a plurality of cells are arranged in a matrix state, and data display colors are allocated to a positioning pattern 5a and a four-color reference pattern 5b as specific patterns such that the patterns 5a, 5b include all the data display colors, and are set.例文帳に追加

二次元情報コード５は、マトリクス状に複数のセルを配置し、特定パターンとしての位置決めパターン５ａ、４色基準パターン５ｂにデータ表示色を全て含むように割り当てて設定する。 - 特許庁

The ejection controller comprises a section 1 for storing a table providing correspondence between gradation data and an ejection pattern, and a section 2 for converting the gradation data into an ejection pattern with reference to the correspondence table.例文帳に追加

階調データと吐出パターンとの対応関係を与える対応表を格納する記憶部１と、対応表を参照して階調データを吐出パターンに変換する変換部２とで吐出制御装置を構成する。 - 特許庁

The image of the pattern of the known size generated by the reflection of the transmission light in the body is photographed by an image read means 3 as an image, and the resolution of the image is found using the image of the pattern as a reference.例文帳に追加

透過光が物体で反射することにより生ずる寸法が既知の該パターンの像を画像取込み手段３により画像として撮影し、パターンの像を基準として、画像の分解能を求める。 - 特許庁

A pattern detector 9 detects a phase difference pattern between time information added to a first video signal (30FPS signal) and time information serving as a reference at the time of converting a second video signal (24FPS signal).例文帳に追加

第１の映像信号（３０ＦＰＳ信号）に付加された時間情報と、第２の映像信号（２４ＦＰＳ信号）変換時の基準となる時間情報との間の位相相違パターンをパターン検出器９で検出する。 - 特許庁

Using an ink jet method, a masking layer 21 having an opening pattern 21a in a predetermined position of the lens area is pattern-formed on one main surface side of the lens base material 11 while controlling a printing position using the mark as a reference.例文帳に追加

インクジェット法により、レンズ基材１１の一主面側の上方に、マークを基準として印刷位置を制御しながらレンズ領域の所定位置に開口パターン２１ａを有するマスキング層２１をパターン形成する。 - 特許庁

This KANJI retrieving method adopts twenty-four reference patterns formed by combining one to four lines, while each reference pattern is composed of one type of a line or two types of lines among four types of lines which are horizontal, vertical, downward to the right or downward to the left, and retrieves KANJI by searching a similar reference pattern from the structure of KANJI strokes.例文帳に追加

１本乃至４本の線条を組合せてなる２４個の基準パターンを採用し、各基準パターンが、水平、垂直、右下がり、左下がりの四種類の線条のうち一種類の線条或いは二つの種類の線条を以て組成され、漢字の字画の骨組より類似する基準パターンを探すことにより漢字を検索することを特徴とした漢字検索方法としている。 - 特許庁

Quality evaluating means 34 expands the size of a reference mask set by reference mask setting means 32, counts a number in a range of the reference mask of indication points of waveform data forming an eye pattern, evaluates quality about a margin to the reference mask of a data signal on the basis of a count value and the magnification of the reference mask, and indicates the evaluation result in a display 40.例文帳に追加

品質評価手段３４は、基準マスク設定手段３２で設定された基準マスクの大きさを拡大させつつ、アイパターンを形成する波形データの表示ポイントのうち基準マスクの領域内に入る数を計数し、その計数値と基準マスクの拡大率とに基づいてデータ信号の基準マスクに対するマージンに関する品質評価を行い、その評価結果を表示器４０に表示させる。 - 特許庁

To realize stable reproducing operation by suppressing phase deviation of a reproducing clock even in a data area away from a reference pattern.例文帳に追加

参照パターンから離れたデータ領域においても、再生クロックの位相ズレを抑制し、よって安定した再生動作を実現し得るようにすること。 - 特許庁

Decision section 44-46 decide whether or not the input data are coincidence with the coincidence detection condition based on the reference data from the pattern memory 43.例文帳に追加

判定部４４〜４６は、入力データが一致検出条件に一致するか否かをパターンメモリ４３からの参照データに基づいて判定する。 - 特許庁

A relationship between a correction amount Sa carrying out the sharpness correction and a correction reference amount Sr is defined by a predetermined correction amount characteristic pattern.例文帳に追加

一方、シャープネス補正を行う補正量（Ｓａ）と、補正基準量（Ｓｒ）との関係は予め決められた補正量特性パターンにより規定されている。 - 特許庁

Deviation in density of the gradation pattern image is then determined based on the gap of the density matching position x from a reference position thus detecting error of the ink ejection characteristics.例文帳に追加

濃度一致位置ｘの基準位置からのずれに基づいてグラデーションパターン画像の濃度偏差を求め、これによりインク吐出特性の誤差を検出する。 - 特許庁

The reference crossing self-independently generates the signal control pattern based on the traffic situation of a range including the adjacent crossings 1 with the self- crossing as a center.例文帳に追加

基軸交差点は自己を中心とした隣接交差点１を含む範囲の交通状況に基づいて、信号制御パターンを自己独立的に作成する。 - 特許庁

To provide an edge defect detecting method for accurately detecting edge defects whose density difference between a pattern is minute without use of a reference image.例文帳に追加

基準画像を用いずに、パターンとの濃度差が微小なエッジ欠陥をも精度よく検出することができるエッジ欠陥検出方法の提供。 - 特許庁

On the basis of the reference bias, the amount of mask bias for each element of a pattern is calculated, and correction is made to give dimensional change (reshaping) to each element.例文帳に追加

そして、この基準バイアスを基にしてパターンの各要素のマスクバイアス量を計算して、各要素に寸法変化（リシェイプ）を与える補正を行う。 - 特許庁

A reference element can be selected from an example having vicinity characteristics which are most similar to the vicinity characteristics of a target seed in the synthesized pattern.例文帳に追加

合成されているパターン内のターゲット・シードの近隣特徴にもっとも類似する近隣特徴を有する見本から参照要素を選択できる。 - 特許庁