「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

THREE-DIMENSIONAL INFORMATION RECONSTRUCTING DEVICE, ITS METHOD, REFERENCE PATTERN, PHOTOGRAPHING DEVICE, AND PHOTOGRAPHING METHOD例文帳に追加

三次元情報再構成装置及び三次元情報再構成方法、基準パターン並びに撮影装置及び撮影方法。 - 特許庁

To quickly perform pattern matching while suppressing degradation of precision even in the case that a reference image cannot be reduced.例文帳に追加

参照画像を小さくすることができない場合であっても精度の低下を抑えつつ迅速にパターンマッチングを行う。 - 特許庁

To provide a scanning exposure apparatus using microlens arrays, even if an exposure pattern is deviated from a reference pattern, capable of preventing a displacement of an exposure pattern by detecting deviation during the exposure, and improving the accuracy of the exposure pattern in overlay exposure.例文帳に追加

露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of storing the imaging pattern suitably adhering the ACF4 to the board 2A in the second memory 74, and storing the difference between the imaging pattern of the memory 74 and the imaging pattern of the memory 73 as a reference pattern in a third memory 75 (second memory).例文帳に追加

次に、基板２ＡにＡＣＦ４が適正に貼付された撮像パターンを第２メモリ７４に記憶し、この第２メモリ７４の撮像パターンと、先の第１メモリ７３の撮像パターンとの差を基準パターンとして第３メモリ７５（第２のメモリ）に記憶する。 - 特許庁

In this process, a defect is detected by comparing a basic inspection image obtained from the basic pattern formed in the basic pattern region of the mask for inspection of pattern defect detection sensitivity with a defect reference image produced by image processing based on the design data of the defect pattern.例文帳に追加

この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。 - 特許庁

The registration pattern 121 is set so that all of the reference position of the mark group of black marks 119K, the reference position of the mark group of yellow marks 119Y, the reference position of the mark group of magenta marks 119M and the reference position of the mark group of cyan marks 119C are aligned with one another.例文帳に追加

レジストレーションパターン１２１は、ブラックのマーク１１９Ｋのマーク群の基準位置と、イエローのマーク１１９Ｙのマーク群の基準位置と、マゼンタのマーク１１９Ｍのマーク群の基準位置と、シアンのマーク１１９Ｃのマーク群の基準位置とが全て一致するように設定されている。 - 特許庁

In a device 1 for detecting the defect, a reference image showing a pattern of a die as a reference on the substrate 9 in a reference image inspection circuit 42 is compared with a plurality of selected images showing the patterns of selected dies, and a defect included in the reference image is detected.例文帳に追加

欠陥検出装置１では、基準画像検査回路４２において基板９上の基準とされるダイのパターンを示す基準画像と、それぞれが選択されたダイのパターンを示す複数の選択画像とが比較され、基準画像が有する欠陥が検出される。 - 特許庁

The actual position of the reference point is specified from the identified pattern, an image, to be recorded by exposure in a region specified by the actual reference point, is corrected in matching with the shape of the region specified by the actual reference point, and then the image is recorded by exposure.例文帳に追加

識別されたパターンから、基準点の実際の位置を特定し、その実際の基準点により特定される領域の形状に合わせて、その領域に露光記録する画像を補正してから、画像の露光記録を行なう。 - 特許庁

A reference value storage means 204 previously stores a reference average time being the reference value of an average rendition time which is obtained by adding the products of the appearing rates by rendition pattern with the rendition times, with respect to the whole rendition patterns.例文帳に追加

基準値記憶手段２０４は、演出パターン毎の出現率と演出時間との積をすべての演出パターンについて加算して得られる平均演出時間の基準値である基準平均時間を予め記憶している。 - 特許庁

The computer 13 is provided previously with a reference image and the reference histogram of its pixel value and pattern matching is performed between an acquired image and the reference image before the objective histogram of the pixel value of an acquired image is determined.例文帳に追加

コンピュータ１３には予め基準画像および基準画像の画素値の基準ヒストグラムが準備されており、取得画像と基準画像とのパターンマッチングが行われた後に取得画像の画素値の対象ヒストグラムが求められる。 - 特許庁

By a projection device 14, a reference pattern is irradiated at a monitoring region 15, a value measured by the camera 13 is compared with a reference value, and an object detection reaction is started, when the measured value is different from the present reference value.例文帳に追加

映写装置１４で基準のパターンをモニタリング領域１５に照射し、カメラ１３で測定した値を基準値と比較し、測定値が予め決定されたように基準値から相違した場合に物体検出反応が開始される。 - 特許庁

A fingerprint pattern reconstruction part 33 in the verification block 3 reconstructs a fingerprint pattern when the fingerprint data is transferred, a fingerprint verification part 32 compares, verifies a fingerprint pattern for reference stored in a fingerprint data storage part 31 with a fingerprint pattern reconstructed by the fingerprint pattern reconstruction part 33 and decides whether or not the fingerprint patterns coincide.例文帳に追加

照合ブロック３内の指紋パターン再構成部３３は転送されたとき指紋パターンを再構成し、指紋照合部３２が指紋データ格納部３１に記憶されている参照用指紋パターンと指紋パターン再構成部３３で再構成した指紋パターンとを比較照合して一致しているか否かを判定する。 - 特許庁

A control section 12 uses each key entry pattern after depression of a particular key to reference a lookup table cross-referencing operations with a blink pattern stored in a built-in memory, reads blink pattern information corresponding to the key entry pattern, and acquires a code string corresponding to each word indicated by the blink pattern information from a blink information code table.例文帳に追加

制御部１２は、特定のキー押下後の各キー入力パターンで、内蔵のメモリの操作対明滅パターン対応テーブルを参照し、キー入力パターンに対応した明滅パターン情報を読み出し、その明滅パターン情報の各語に対応した符号列を明滅情報の符号テーブルから取得する。 - 特許庁

To solve a problem that, although there has been a method of evaluating pattern shapes of electronic devices by using design data or a non-defective pattern as a reference pattern, the pattern shape cannot be evaluated with high accuracy because of difficulty in defining an exact shape suitable for manufacturing conditions of the electronic devices by the design data or the non-defective pattern.例文帳に追加

設計データや良品パターンを参照パターンとして、電子デバイスのパターン形状を評価する方法があるが、設計データや良品パターンでは、電子デバイスの製造条件に適合した形状を正確に定義することが困難であり、パターンの形状を高精度に評価することができない。 - 特許庁

The first terminal 11 retrieves the document reference/update authority range pattern table based on the attribute information of the employee to acquire pattern numbers showing document reference/update authority ranges, and displays a screen for making the employee select one of them.例文帳に追加

第１の端末１１は、社員の属性情報に基づいて文書参照・更新権限範囲パターン表を検索して文書参照・更新権限範囲を示すパターン番号を取得しそのうちの１つを社員に選択させる画面を表示する。 - 特許庁

A registration pattern in black is regarded as a reference color registration pattern 80, wherein a plurality of reference color marks M are arrayed at a first position interval X along a conveying direction (correctly, the front edges or the rear edges are arrayed at the first position interval).例文帳に追加

黒塗りのレジパターンは、基準色レジパターン８０（とされ、複数の基準色マークＭが搬送方向に沿って第１位置間隔Ｘで配列（正確には、前側エッジ或いは後側エッジが第１位置間隔で配列）されたパターンをなす。 - 特許庁

First control for controlling the concentration/gradation is performed on the basis of a first reference pattern read by a CCD sensor, and second control for controlling the concentration/gradation is performed on the basis of a second reference pattern read by an image concentration sensor 701.例文帳に追加

ＣＣＤセンサが読み取った第１の基準パターンに基づいて濃度、階調を制御する第１の制御を行ない、画像濃度センサ７０１が読み取った第２の基準パターンに基づいて濃度、階調を制御する第２の制御を行なう。 - 特許庁

To provide a portable electronic device which improves a degree of abutting a circuit board, on which a reference potential pattern is formed, and a conductive case member layered and disposed on a reference potential pattern side of the circuit board.例文帳に追加

本発明は、基準電位パターンが形成された回路基板と回路基板における基準電位パターン側に積層配置される導電性を有するケース部材との当接度が向上された携帯電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁

A ground pattern 53 stipulating the reference potential of a reception circuit of the radio wave receiver 4 and a ground pattern 37 stipulating the reference potential of the meter circuit of a meter circuit board 3 are connected, so that the ground patterns 53 and 37 constitute an antenna part together with an antenna 6.例文帳に追加

電波受信機４の受信回路の基準電位を規定するグランドパターン５３と、メータ回路基板３のメータ回路の基準電位を規定するグランドパターン３７とが接続されてグランドパターン５３、３７がアンテナ６とともにアンテナ部を構成する。 - 特許庁

A group of mutually different reference patterns 16 and a basic pattern 18 are imaged by the second imaging device functioning as a master and each reference pattern 16 of the group is assigned uniquely to one relative position at the time.例文帳に追加

互いに異なる参照パターン１６のグループと基本パターン１８を、マスタとしての役目をする第２の画像付け装置によって画像付けし、このときグループのそれぞれの参照パターン１６が１つの相対位置に一義的に割り当てられている。 - 特許庁

A reference pattern corresponding to a car speed is determined with respect to a Duty ratio of the driving voltage outputted to each wiper motor, and the Duty ratio to each wiper motor is controlled in accordance with the car speed detected by a car speed sensor on the basis of the reference pattern.例文帳に追加

各ワイパモータに出力する駆動電圧のＤｕｔｙ比に関し、車速に応じた基準パターンを設定し、その基準パターンに基づき、車速センサにより検出した車速に応じて各ワイパモータへのＤｕｔｙ比を制御する。 - 特許庁

In forming an image, the first correction reference pattern and the second correction reference pattern are used for generating a first light quantity correction signal and a second light quantity correction signal so as to correct a drive signal of each light emitting portion for every station.例文帳に追加

そして、画像形成が行われる際に、ステーション毎に、補正用第１基準パターン及び補正用第２基準パターンを用いて、第１光量補正信号及び第２光量補正信号が生成され、各発光部の駆動信号が補正される。 - 特許庁

A through hole 13 is formed with reference to a positional reference hole 45 and an underlying pattern 47 covering one end side of the through hole 13 is formed simultaneously with a print mark 48 by printing.例文帳に追加

位置基準穴４５を位置基準としてスルーホール１３を形成し、スルーホール１３の一端側を覆う下地パターン４７と印刷マーク４８とを印刷により同時に形成する。 - 特許庁

While the alignment mark 10 is superposed upon the reference mark 20 and parallel light rays are projected from the upper surface of the mark 10, the light quantity at the position corresponding to each pattern is detected on the lower surface of the reference mark 20.例文帳に追加

両マーク１０，２０を重ね合わせ、アライメントマーク１０の上面から平行光を照射し、基準マーク２０の下面で各パターンに対応する位置での光量を検出する。 - 特許庁

To provide a substrate inspection device capable of inspecting a circuit pattern by electrostatic capacity measurement with respect to its substrate, without setting up a reference plane whose potential becomes a reference.例文帳に追加

電位の基準となる基準面を設定することなく基板に対して静電容量測定による配線パターンの検査を行うことができる基板検査装置を提供する。 - 特許庁

And, in a reference optical disk 1 having a normal protective coat, the shadow of the fixed form pattern is taken beforehand by the photographing device 4, and the shadow image is used as an reference image.例文帳に追加

そして前もって、正常な保護コート膜を有する基準光学ディスク１において、撮像装置４で定型模様の陰影を撮像し、該陰影画像を基準画像とする。 - 特許庁

The computer 13 is provided previously with a reference image and its edge image and pattern matching is performed between an acquired image and the reference image in order to determine a difference image.例文帳に追加

コンピュータ１３には予め基準画像および基準画像のエッジ画像が準備されており、取得画像と基準画像とのパターンマッチングが行われた後に差分画像が求められる。 - 特許庁

The image-processing system (26) is further operable, to identify the reference mark in the image of the fringe pattern for constructing the shape of the object (12), based on the reference mark.例文帳に追加

画像処理システム（２６）はさらに、干渉縞パターンの画像内の基準マークを同定するように動作可能であり、この基準マークに基づき物体（１２）の形状を構築する。 - 特許庁

As for patterns in which only one of X and Y can be measured in a reference image, its direction is set as an attribute of a pattern image of the reference region.例文帳に追加

基準画像に関して、ＸもしくはＹの内一方の測定のみが可能なパターンについては、その方向を基準領域のパターン画像の属性として持たせるようにしている。 - 特許庁

A data area 1a carrying the digital data and a reference area 1b formed with a reference pit pattern carrying various information required for reproduction control are provided alternately in the optical disk 1.例文帳に追加

光ディスク１には、ディジタルデータを担うデータ領域１ａと再生制御に必要な各種情報を担う基準ピットパターンが形成された基準領域１ｂとが交互に設けられる。 - 特許庁

A reference density plate is irradiated by a light source set to specified voltage, and an electrostatic latent image is formed on a photoreceptor drum and developed so as to form the toner image (patch) of a reference patch pattern.例文帳に追加

所定の電圧に設定した光源で基準濃度板を照射し、感光ドラム上に静電潜像を形成し、これを現像して、基準パッチパターントナー像（パッチ）を形成する。 - 特許庁

For the purpose, the reference value is set again to a level at which the pattern can clearly be detected and the newly set reference value is stored in the nonvolatile memory 48 at each time (steps S6, S7).例文帳に追加

そこで、前記パターンが明確に検出できるレベルに基準値を設定し直し、新たに設定した基準値をその都度不揮発メモリ４８に格納し直す（ステップＳ６，Ｓ７）。 - 特許庁

By performing nail control with the reference pattern 36 as a reference, it is not necessary to use a controller, nail control is facilitated and there is no difference in the degree of nail control for each pachinko game machine.例文帳に追加

基準模様３６を基準として釘調整を行うことで調整具の使用が不要となり、釘調整が容易で、パチンコ遊技機毎の釘調整の程度に差が生じない。 - 特許庁

To provide a tandem type image forming device with which deterioration in testing precision of image forming function due to intervals between reference images being narrowed within each reference pattern can be decreased.例文帳に追加

各基準パターン像内における基準像間の間隔を狭めることに起因する作像性能の試験精度の悪化を軽減することができるタンデム式画像形成装置を提供する。 - 特許庁

By the reference grid manufacturing device, the fine wavy pattern can be manufactured highly precisely and effectively regardless of size of the reference grid.例文帳に追加

このように、基準格子製造装置１０を用いた製造方法によれば、基準格子の大きさに拘わり無く、微細凹凸形状パターンを高精度且つ効率良く加工することが可能になる。 - 特許庁

The shape evaluation method of circuit patterns of electronic devices includes: a means for generating contour distribution data of the circuit patterns from contour data of at least two circuit patterns; a means for generating a reference pattern used for pattern shape evaluation, from the contour distribution data; and a means for evaluating the pattern shape by comparing an evaluation target pattern with the reference pattern.例文帳に追加

電子デバイスの回路パターンの形状を評価する方法であって、少なくとも２つ以上の回路パターンの輪郭データから回路パターンの輪郭分布データを生成する手段と、前記輪郭分布データから、パターンの形状評価に用いる参照パターンを生成する手段と、前記参照パターンと評価対象パターンの比較によってパターンの形状を評価する手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

A phase mask pattern to impart a discrete phase structure to reference light is formed in a reference light region to be irradiated with reference light in a phase mask, while a phase mask pattern for imparting a continuous phase structure to signal light is formed in a signal light region to be irradiated with a signal light.例文帳に追加

位相マスクにおいて参照光が照射される参照光領域には参照光に離散的な位相構造を与えるための位相マスクパターンを形成し、信号光が照射される信号光領域には信号光に連続的な位相構造を与えるための位相マスクパターンを形成する。 - 特許庁

Then, the wiring width concerned is compared with a wiring width at a reference position corresponding to the measurement position of a confirming pattern that becomes a comparison reference being stored in a reference image memory 7 by a comparison circuit 8, and the presence or absence of a defect in the pattern to be inspected is judged based on a compared result by a judgment circuit 9.例文帳に追加

そして、比較回路８にて当該配線幅と基準画像メモリ７に記憶されている比較基準となる良品パターンの前記測定位置と対応する基準位置での配線幅とが比較され、判定回路９で比較結果に基づいて被検査パターンにおける欠陥の有無が判定される。 - 特許庁

In this method, first series calibration spectra are calculated from at least one reference pattern, and each spectrum of which is calculated by using at least one known value of different structure parameter among individual reference patterns to be stored in central library without considering parameters of the system used for generation of the reference pattern.例文帳に追加

第一系列の較正スペクトルが少なくとも１つの基準パターンから計算され、各スペクトルは基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを考慮せずに個々の基準パターンの少なくとも１つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算され、各スペクトルが中央ライブラリに記憶される。 - 特許庁

An air temperature prediction part 116 generates forecast weather pattern information obtained by patterning a weather forecast, reads out a date (date of similar weather) of weather pattern information matching the generated forecast weather pattern, reads out a reference air temperature difference associated with the read date, and adds the read reference air temperature difference to a reference air temperature calculated on the basis of an air temperature model to calculate an air temperature predictive value.例文帳に追加

気温予測部１１６は、天気予報をパターン化した予報天気パターン情報を生成し、生成した予報天気パターンにマッチする天気パターン情報の日付（天気類似日付）を読み出し、読み出した日付に対応する基準気温差を読み出し、気温モデルに基づいて算出される基準気温に、読み出した基準気温差を加算して気温の予測値を算出する。 - 特許庁

The method also comprises the steps of comparing the imaging pattern of the other board 2C in which another ACF4 is adhered and the imaging pattern stored in the memory 73 with a reference pattern, and calculating the matching rate α by a calculation.例文帳に追加

次に、ＣＰＵ７２は、別途ＡＣＦ４が貼付された他の基板２Ｃの撮像パターンと、第１メモリ７３に記憶された撮像パターンとの差のパターンを、基準パターンとを比較し、そのマッチング率αを演算により算出する。 - 特許庁

A pattern detecting device receives an image of an object including the repeated pattern, estimates the repeated pattern cycle in the input object, and generates a reference image based on the image divided by the estimated cycle.例文帳に追加

パターン検出装置は、繰り返しパターンを含む物体の画像を入力し、当該入力された物体における繰り返しパターンの周期を推定し、当該推定された周期で分割された画像に基づいて参照画像を生成する。 - 特許庁

A reference position of a second servo pattern having an absolute position specified on a magnetic disk is obtained based on a positional relationship between a first servo pattern having absolute position information on the magnetic disk and a second servo pattern having relative position information.例文帳に追加

磁気ディスク上での絶対位置情報を有する第１のサーボパターンと相対位置情報を有する第２のサーボパターンとの位置関係から、磁気ディスク上での絶対位置が特定される第２のサーボパターンの基準位置を求める。 - 特許庁

Resist patterns corresponding to at least two exposure shots are extracted, and the resist pattern corresponding to at least one shot is compared with a master pattern as an inspection reference so as to inspect whether a defect is present in the resist pattern or not and to extract a defective portion.例文帳に追加

ここでは、レジストパターンを少なくとも２ショット分取り出し、この内の少なくとも１ショット分のレジストパターンと、検査の基準となるマスタパターンとを比較して上記レジストパターンの欠陥の有無を検査し欠陥個所を抽出する。 - 特許庁

In this tandem-type image forming apparatus, the image forming condition is decided on the basis of each result of detecting the density pattern of respective reference patterns of pattern blocks PB1 and PB2, obtained by repeating the pattern block formation twice on a transfer transport belt 60.例文帳に追加

転写搬送ベルト６０上にパターンブロックを２回繰り返して形成して得たパターンブロックＰＢ１、ＰＢ２における各基準パターン像の濃度パターンを検知した結果に基づいて、作像条件を決定させるようにした。 - 特許庁