「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

In a control part 19, an instruction of the effect for renewing the reference pattern candidate for an instruction renewal part 15 in response to the processed result of the comparison part 18, and the instructed reference patterns 41, 42,..., 4n are taken out from the reference pattern registration part 14 by the designation candidate taking-out part 17.例文帳に追加

制御部19では、比較部18での処理結果に応じて、指定候補更新部16に対して基準パターンの候補を更新する旨の指令が出され、指定候補取出し部17により、基準パターン登録部14からその指定された基準パターン41，42，…，4nが取り出される。 - 特許庁

A measured temperature pattern is compared with the temperature pattern of a reference table by a computer 45 to check to see if there are items with a large difference between them.例文帳に追加

測定された温度パターンと、基準テーブル５１の温度パターンとを、コンピュータ４５上で比較し、両者に大きな違いのある項目があるか否かを調べる。 - 特許庁

In this case, a reference pattern display control means 40 displays a set of pattern cards of any rank in a first display area on a variable display means 20.例文帳に追加

またこの際、基準図柄表示制御手段４０は可変表示手段２０の第１の表示領域に任意のランクを成す図柄カードの組みを表示する。 - 特許庁

The person in charge of the design performs design of an arrangement pattern of an arranged object which is arranged at an arranging object as referring to the reference arrangement pattern.例文帳に追加

設計担当者は、基準配置パターンを参考にしながら配置対象物に配置する被配置物の配置パターンの設計を行うことができる。 - 特許庁

Further, a correlation discrimination circuit 134 discriminates correlation between each block of the input image data and a reference pattern stored in a pattern memory 133.例文帳に追加

また、相関判定回路１３４で、入力画像データの各ブロックに対して、パターンメモリ１３３に記憶されている参照パターンとの相関を判定する。 - 特許庁

The hologram is irradiated with the reference light beam while changing its incident angle to generate a reproduction light beam, and an image pattern is detected by an image pattern detector.例文帳に追加

入射角度を変えながら参照光ビームがホログラムに照射されて再生光ビームが発生され、画像パターンが画像パターン検出器で検出される。 - 特許庁

The display pattern display part 30 can display the deviation of the input wave frequency from the reference frequency as a movement of a flowing display pattern.例文帳に追加

表示パターン表示部３０は、入力波形の周波数と基準周波数のズレを表示パターンの流れる動きとして表示することができる。 - 特許庁

The conductor patterns 21a and 21b are what functions as reference interconnections, and the conductor pattern 21c is a conductor pattern functioning as a signal interconnection.例文帳に追加

導体パターン２１ａ、２１ｂは、基準配線として機能する導体パターンであり、導体パターン２１ｃは、信号配線として機能する導体パターンである。 - 特許庁

Shift of the head is calculated based on the distance from the detected position of each pattern element to the detected position of the pattern element of a reference head.例文帳に追加

各パターン要素が検出された位置から基準ヘッドのパターン要素が検出された位置までの距離に基づいてヘッドのずれ量を算出する。 - 特許庁

A difference calculation part 3 compares the reference pattern of a horse being registered at a storage part 6 with a pattern that is obtained by the frequency conversion part 2 and obtains the difference.例文帳に追加

相違度計算部３は、記憶部６に登録されている馬の基準パターンと周波数変換部２で求めたパターンとを比較し、その相違度を求める。 - 特許庁

The image pickup device makes a correlation operation for the image data, obtained from the imaging by the imaging unit 30 with a reference pattern corresponding to the pattern 20.例文帳に追加

撮像装置は、撮像素子３０による撮像により得られた画像データと、パターン２０に対応する参照パターンとの相関演算処理を行う。 - 特許庁

A sameness determination part 50 determines the sameness between the surface pattern and the reference pattern, based on the similarity degree calculated by the similarity degree calculation part 48.例文帳に追加

同一性判定部５０は、類似度算出部４８が算出した類似度に基づき、上記基準パターンと表面パターンとの同一性を判定する。 - 特許庁

A three-dimensional magnetization distributing pattern which corresponds to the interference pattern between information light and recording reference light is formed within the information recording layer 3.例文帳に追加

情報記録層３内には、情報光と記録用参照光との干渉パターンに対応した３次元的な磁化の分布パターンが形成される。 - 特許庁

The predetermine reference light distribution pattern LP for low beam is formed by the upper reflector 2, and the diffusive light distribution pattern WP is formed by the lower reflector.例文帳に追加

上側リフレクタ２により、所定のロービーム用の基準配光パターンＬＰが形成され、下側リフレクタ３により、拡散配光パターンＷＰが形成される。 - 特許庁

In the pattern creation part, a pattern is created when a pixel for a part with the effective reference signal is replaced by pixel data with high density.例文帳に追加

パターン生成部では基準信号が有効になっている箇所の画素に対して、その画素を高濃度の画素データに置き換えることによりパターンを生成する。 - 特許庁

A cross-correlation detection section 28 applies cross-correlation between the mixed pulse pattern stored in the shift register 24 and a reference pulse pattern in a pulse pattern bank 25, and a pulse pattern decoder 29 reads the ID and the transmission data of the wireless tag 10.例文帳に追加

相互相関部２８は、シフトレジスタ２４に記憶された混合パルスパターンとパルスパターンバンク２５内の参照パルスパターンとの間で相互相関を行ない、パルスパターンデコーダ２９により無線タグ１０のＩＤおよび送信データを読み取る。 - 特許庁

A face pattern recognizing part 106 recognizes the face patterns of the persons 107 and 108 by collating the face pattern detected by the part 104 with the reference face pattern stored previously in a face pattern storing part 105.例文帳に追加

顔パターン認識部１０６は、顔パターン検出部１０４で検出された顔パターンを、顔パターン記憶部１０５にあらかじめ記憶された基準の顔パターンと照合することにより、人物１０７，１０８の顔画像を認識する。 - 特許庁

No lane pattern is displayed when the lane pattern of a guide intersection coincides with a predetermined reference pattern because a driver can makes a decision using common sense, otherwise a lane pattern is displayed for the driver.例文帳に追加

案内交差点の車線パターンが所定の基準パターンに一致する場合には、運転者は常識で判断できるとして車線パターンの表示を行わず、基準パターンに一致しない場合には車線パターンを表示し、運転者に提示する。 - 特許庁

The pattern dimension change means predicts similarity about the reference pattern P after dimension change according to the similarity determination result for specifying a change magnifying power of the reference pattern P if the determined similarity is not more than a predetermined value (0.8, for example).例文帳に追加

パターン寸法変更手段は、判定された類似度が所定値（例えば、０．８）未満である場合に、類似度の判定結果に応じて寸法変更後の基準パターンＰに係る類似度を予測して当該基準パターンＰの寸法の変更倍率を規定する。 - 特許庁

Consequently, the pedestrian 11 on the crosswalk taken by the monocular camera 3 is quickly detected by a detection means 5b based on a difference between the image pattern of the crosswalk including the reference pattern of the converted power spectrum and the reference pattern.例文帳に追加

したがって、変換処理されたパワースペクトルの基準パターンを含む横断歩道部分の画像パターンと基準パターンとの差から、単眼カメラ３により撮影された横断歩道上の歩行者１１を検出手段５ｂにより早期に検出することができる。 - 特許庁

Eight check points are set one cell apart from the center position obtained by calculation in the periphery of the center position, and a brightness pattern of nine points consisting of the calculated center position and eight peripheral check points is compared with nine reference patterns (a) to (i) to find the reference pattern coinciding with the brightness pattern.例文帳に追加

計算にて求めた中心位置の周りに１セル分離れた８つの検査点を設定し、計算中心位置及び周囲の８つの検査点からなる９点の明暗パターンを、９つの参照パターン（ａ）〜（ｉ）と比較して合致するものを見つける。 - 特許庁

In the pattern table, the reference order is stipulated so that a result value obtained by comparing repeatedly each of the reference values with the lottery value until the result of the comparison changes may come to indicate a variation pattern number.例文帳に追加

パターンテーブルは、複数の参照値のそれぞれを比較結果が変化するまで抽選値と繰り返し比較することによる結果値が変動パターン番号を表すこととなるよう参照順序が規定される。 - 特許庁

A similarity calculation part 1013 calculates the similarity between the 1st reference pattern and 2nd reference pattern and the reduction rate calculation part 1014 determines a final reduction rate based upon the calculation result.例文帳に追加

類似度算出部１０１３において、第１の参照パターンと第２の参照パターンとの類似度が算出されて、縮小率算出部１０１４は、その算出結果に基づいて、最終縮小率を決定する。 - 特許庁

A feature point extraction part 3 extracts feature points from an object image to be traced on the basis of inputted image data and a reference pattern setting part 5 sets the plural extracted feature points as a reference pattern.例文帳に追加

特徴点抽出部３は、入力された画像データを基に、追跡対象画像から特徴点を抽出し、基準パターン設定部５は、抽出された複数の特徴点を基準パターンとして設定する。 - 特許庁

In the case of reading the reference pattern 5 for correcting deviations in joints of images, the reference pattern 5 can be read with high accuracy by stopping the white roller 6 or making the circumferential moving speed of the white roller slower than an original moving speed.例文帳に追加

画像のつなぎ目のズレ補正のために基準パターン５を読み取る場合は、白色ローラ６を停止させるか、又は原稿移動速度より遅くすることにより、基準パターン５を高精度に読み取ることができる。 - 特許庁

A portable phone 1 includes a circuit substrate 70 in which a reference potential pattern layer 75 is formed and a case 60 having conductivity laminatedly arranged in the reference potential pattern layer 75 side in the circuit substrate 70.例文帳に追加

携帯電話機１は、基準電位パターン層７５が形成された回路基板７０と、回路基板７０における基準電位パターン層７５側に積層配置される導電性を有するケース体６０と、を備える。 - 特許庁

A walking pattern generation part 25 generates a reference walking pattern to be the position to land a sole part 9 by carrying out a reference walking processing to make the biped walking robot 1 walk on a flat road surface G.例文帳に追加

歩行パターン生成部25は、平坦な路面Ｇを２足歩行ロボット１に歩行させるための基準歩行処理を実行することにより、足底部９を着地させる位置となる基準歩行パターンを生成する。 - 特許庁

In the pattern table, the reference sequence is specified so that the result value obtained by repeatedly comparing each of the plurality of reference values with the lottery values by the time the compared result changes may indicate a variation pattern number.例文帳に追加

パターンテーブルは、複数の参照値のそれぞれを比較結果が変化するまで抽選値と繰り返し比較することによる結果値が変動パターン番号を表すこととなるよう参照順序が規定される。 - 特許庁

A grounding pattern for setting a reference potential in the sensing circuit 200 is provided separatedly from a grounding pattern for setting a reference potential in the heater driving circuit 250, using a grounding terminal part or its vicinity as a start point.例文帳に追加

センシング回路２００における基準電位を設定するグランドパターンと、ヒータ駆動回路２５０における基準電位を設定するグランドパターンとはグランド端子部又はその近傍を起点として分離して設けられている。 - 特許庁

Each pattern includes a cross pattern composed of the target pixel, reference pixels extending in the edge direction parallel to a edge sequence of the input image to be deleted, and reference pixels extending in the direction perpendicular to the edge direction.例文帳に追加

各パターンは、注目画素と、削除対象となる入力画像のエッジ列と平行なエッジ方向に延びる参照画素と、エッジ方向と垂直な方向に延びる参照画素とで構成される十字パターンを含む。 - 特許庁

To quickly and automatically detect a high precision target pattern based on reference coordinates of alignment by setting the reference coordinates for alignment in a region near the target pattern in the device-forming region.例文帳に追加

デバイス形成領域内において、ターゲット・パターンの近傍領域中にアライメント基準座標を設定し、そのアライメント基準座標に基づいて高精度にターゲット・パターンを迅速かつ自動的に検出すること。 - 特許庁

In the reference potential pattern layer 75, a groove portion 75b dented toward the thickness direction in the circuit substrate 70 is formed, the case 60 is made to contact the region including the groove portion 75b in the reference potential pattern layer 75.例文帳に追加

そして、基準電位パターン層７５には、回路基板７０における厚さ方向に窪む溝部７５ｂが形成され、ケース体６０は、基準電位パターン層７５における溝部７５ｂを含む領域に当接される。 - 特許庁

Then, the reference mask correction amount and the change amount information are extracted corresponding to the pattern from association information in which the pattern, the reference mask correction amount, and the change information are associated with each other.例文帳に追加

そして、前記パターンと、前記基準マスク補正量と、前記変化量情報と、を対応付けした対応付け情報から、前記パターンに対応する基準マスク補正量および変化量情報を抽出する。 - 特許庁

The result of the detection of a toner image based on a reference pattern generated by a regist pattern generating means 21 is transferred to an initial data setting means 31 from a pattern detecting means 14, and based on the comparison of the reference pattern and the toner image with each other, the value Py of an interspace between added pixels and the number Dy of added pixels are calculated.例文帳に追加

レジストパターン発生手段２１で発生した基準パターンに基づくトナー像の検出結果がパターン検出手段１４から初期データ設定手段３１に与えられ、基準パターンとトナー像との比較に基づき画素追加間隔値Ｐｙおよび画素追加数Ｄｙが算出される。 - 特許庁

A pattern part of an information recording body 1 having a hidden pattern is illuminated by a light source 24, reflected light is read out by an optical sensor 25 through a check pattern 27 and a lens system 26, a moire pattern is generated, and whether the generated moire pattern is the same as a reference pattern stored in a storage means 29 or not is judged to solve conventional problems.例文帳に追加

隠しパターンを有する情報記録体１のパターン部を光源２４で照明し、反射光を確認パターン２７およびレンズ系２６を介して光センサ２５で読み取り、モアレパターンを発生させ、記憶手段２９に記憶された標準パターンとの異同の判定を行なうことにより、課題を解決した。 - 特許庁

Illumination light which is made incoherent and illuminates a pattern surface on an observation object by using coherent light, and reference light which is made incoherent are formed, a light amount of reference light is dimmed corresponding to reflectance of a pattern surface, reflection light from a pattern surface and reference light are combined and imaged on a photoelectric conversion element and a pattern position is measured from the imaged interference image signal.例文帳に追加

コヒーレント光を用いて観察物体上のパターン面を照明するインコヒーレント化された照明光と、インコヒーレント化された参照光とを形成し、参照光の光量をパターン面の反射率に対応して調光し、パターン面からの反射光と参照光を合わせて光電変換素子上に結像させ、その結像した干渉画像信号からパターンの位置を計測する。 - 特許庁

A first sensor pattern and a second pattern which respectively receive the projected image of each reticle pattern RP1 and RP2 through a projecting optical system 11 are arranged on a reference plate 36 of a wafer stage 23.例文帳に追加

ウエハステージ２３の基準板３６上に、前記各レチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影光学系１１を介した投影像に各別に受光する第１センサパターン及び第２センサパターンを設ける。 - 特許庁

A pattern image forming position adjusting part 46 changes the position of the pattern image of the reference light formed by the micro mirror device 27 by a pixel unit and determines the position in which the best reproduction pattern image is obtained.例文帳に追加

パターン像形成位置調整部４６は、マイクロミラーデバイス２７に形成される参照光のパターン像の位置を画素単位で変化させ、最良の再生パターン像が得られる位置を決定する。 - 特許庁

For the normalization of the read pattern, a length of the normalized pattern is calculated by comparison with the reference data, and read pattern expanding or shortening processing is executed so as to obtain the calculated length.例文帳に追加

読取パターンの正規化は、基準データとの比較によって正規化後のパターンの長さを算出し、算出した長さとなるように読取パターンの伸張処理または短縮処理を実行する。 - 特許庁

A comparison object waveform segmentation part 29 generates a comparison object data pattern as the data pattern of the section which is equivalent to the feature section including the prescribed time by using each pattern start time as a reference.例文帳に追加

比較対象波形切り出し部２９は、それぞれのパターン開始時刻を基準として、所定の時刻を含む前記特徴区間に相当する区間のデータパターンである比較対象データパターンを生成する。 - 特許庁

To solve the problems wherein, in a conventional pattern matching method, since matching is performed relative to registered n-pieces of reference patterns, the number of times of pattern matching is increased greatly, and throughput efficiency of the pattern matching is low.例文帳に追加

従来のパターンマッチング方法は、登録されているｎ個の基準パターンについてマッチングを行うため、パターンマッチングの回数が飛躍的に増大し、パターンマッチングのスループットの効率が悪い。 - 特許庁

In an array structure image, a pattern detection forecast region produced by the position of a start point, an address of the start point, and a unit vector, and the pattern detection positions obtained by pattern matching with reference pattern images are compared and pattern counting is carried out making a judgement such as correct judgement, judgement failure, and wrong detection.例文帳に追加

アレイ構造像において、始点の位置、始点の番地、単位ベクトルから生成したパターン検出予測領域と、基準パターン像とのパターンマッチングで求めパターン検出位置を比較し、正検出、検出落とし、誤検出などの判断をしながらパターン計数を実施する。 - 特許庁

In this exposure method for transferring the pattern to the material to be exposed by exposure in pattern shape, the quality of the pattern imparting member for giving the pattern which is to be transferred is controlled based on the evaluation (for example, evaluation reference A) of the edge roughness of the pattern formed by exposure.例文帳に追加

パターン状に露光することにより被露光材にパターン転写を行う露光方法において、露光により形成されるパターンのエッジラフフネスの評価（たとえば評価基準Ａ）に基づいて、転写すべきパターンを与えるパターン付与部材の品質の管理を行う。 - 特許庁

When the elapsed time reaches the target elapsed time value, the variation pattern determination means 115 finishes the reference of the special pattern selection table referred at present and sets the pattern selection table to be referred when determining the variation pattern this time or later, to another pattern selection table.例文帳に追加

変動パターン決定手段１１５は、経過時間が目標経過時間値に到達した場合に、今回以降で変動パターンを決定するときに参照すべきパターン選択テーブルを現在参照中の特殊パターン選択テーブルの参照を終了し他のパターン選択テーブルに設定する。 - 特許庁

Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.例文帳に追加

遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁