「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Each calibration mark PRM on a reference wafer SW includes a first pattern and a second pattern each having a predetermined width and crossing perpendicularly to each other.例文帳に追加

基準ウエハＳＷ上の各較正用マークＰＲＭは、所定幅を有し、直交する第１パターンと第２パターンとを含んでいる。 - 特許庁

To learn the driving pattern of a driver of a vehicle on the basis of the reference time data and to control the vehicle on the basis of the driving pattern.例文帳に追加

標準時間データに基づき車両運転者の運転パターンを学習し、この運転パターンに基づき車両を制御する。 - 特許庁

Then the paper 18 is inputted to an optical reader 1 and the bar pattern of the short frame is compared with a reference bar pattern to judge a numeral.例文帳に追加

用紙を光学式読取装置１に入力し、短マスの棒状パターンと基準棒状パターンとを比較して数字を判定する。 - 特許庁

A rhythm control part 3 converts a rhythm pattern based upon the input text into a feeling rhythm pattern according to the reference parameters.例文帳に追加

韻律制御部３は、入力テキストに基づく韻律パターンを、上記参照パラメータに基づいて感情韻律パターンに変換する。 - 特許庁

The pattern width H of the circuit 6 is formed with such a pattern width that the duration of flaming from the start of energizing takes a given reference time or longer.例文帳に追加

回路６のパターン幅Ｈは、通電開始からの発煙時間が所定の基準時間以上となるパターン幅に形成されている。 - 特許庁

A control section acquires a minute inclination of a reference pattern on a substrate 9 held by the stage 2 with respect to the first reference direction, and easily corrects the inclination of the reference pattern by changing relative positions of the ends 311, 312 of the guide section 31 in the second reference direction.例文帳に追加

制御部では、ステージ２にて保持される基板９上の参照パターンの第１基準方向に対する微小な傾斜が求められ、第２基準方向におけるガイド部３１の端部３１１，３１２間の相対位置を変更することにより参照パターンの傾斜が容易に補正される。 - 特許庁

The axis center 4a of a tool 4 is made access to a reference member 30, a reference pattern L is cast on the tool 4 by turning on a laser diode 15 and the shift quantity of the reference member 30 and the tool 4 in X-direction is measured based on the image of the reference pattern L projected on the tool 4.例文帳に追加

ツール４の軸心４ａをリファレンス部材３０に近接させ、レーザダイオード１５を点灯して基準パターンＬをツール４に照射し、リファレンス部材３０およびツール４のＸ方向のずれ量を、ツール４に投影された基準パターンＬの画像に基づいて測定する。 - 特許庁

The control part 4 compares the stored transmitted illumination image and a reference pattern for transmission illumination to inspect whether the wiring pattern of the transmitted illumination image is within a predetermined dimension range with respect to the reference pattern, that is, whether there is "thickening" or "thinning" in a wiring pattern to judge the quality of the inspection pattern 5a.例文帳に追加

制御部４は、記憶した透過照明画像と透過照明用の基準パターンを比較し、透過照明画像の配線パターンが、基準パターンに対して所定の寸法の範囲内にあるかどうか、すなわち、配線パターンに「太り」または「細り」があるかを検査し、検査パターン５ａの良否を判定する。 - 特許庁

Then, the transition of the featured value is calculated by a transition pattern converting part 24, and whether or not the transition pattern is matched with a reference transition pattern preliminarily stored in a reference transition pattern storage part 26 is judged by a transition pattern matching part 28, and the presence or absence of any defect is judged according to the result by a judging part 30.例文帳に追加

そして、この特徴量の移り変わりを遷移パターン変換部２４で求め、その遷移パターンが、予め基準遷移パターン記憶部２６に記憶してある基準遷移パターンにマッチするかどうかを遷移パターンマッチング部２８で判断して、判定部３０により、その結果に応じて欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

Reference pattern data are recorded on a non-user data area with optimum laser intensity at initial starting.例文帳に追加

初期起動時に最適レーザ強度にて非ユーザデータ領域に参照パターンデータを記録しておく。 - 特許庁

To provide a method to decide a difference between a reference image of a pattern and additional image.例文帳に追加

パターンの基準イメージと追加イメージとの差を決定するための方法を提供することにある。 - 特許庁

The image of the calibration pattern 4 is captured at least from three directions for putting the reference mark 4B therein.例文帳に追加

基準マーク４Ｂが入るようにキャリブレーションパターン４を少なくとも３方向から撮影する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING CONVERGENCE OF PROJECTION TELEVISION BY COMPENSATING ANGLE OF REFERENCE PATTERN例文帳に追加

基準パターンの角度補償を行うプロジェクションテレビのコンバージェンス制御装置及び制御方法 - 特許庁

A reference pixel in the image is selected, and the offset between the pixel and the pattern is determined.例文帳に追加

画像内の参照ピクセルが選択されて、ピクセルとパターンとの間の偏移が特定される。 - 特許庁

A reference pattern is formed on a banner sheet and its density is measured by a fixed image sensor 17K.例文帳に追加

バナーシート上に基準パターンを形成し、その濃度を定着像センサ１７Ｋで測定する。 - 特許庁

To limit current consumption of a reference voltage generation circuit without requiring a large circuit pattern.例文帳に追加

大きな回路パターンを必要とせず、基準電圧発生回路の消費電流を制限する。 - 特許庁

The reference pattern 50 is constituted by arranging three or more marks 51 in an array at equal intervals.例文帳に追加

基準パターン５０は、３個以上のマーク５１を等間隔で１列に並べて構成される。 - 特許庁

In the shift step, a shift unit shifts the whole reference pattern image by using the shift amount.例文帳に追加

シフトステップでは、シフト部が、前記シフト量を用いて前記基準パターン画像全体をシフトする。 - 特許庁

The M types of reference signals are multiplexed into first and second resource blocks in the same arrangement pattern.例文帳に追加

Ｍ種類のリファレンス信号は、同じ配置パターンで第１及び第２のリソースブロックに多重される。 - 特許庁

To improve overlapping accuracy of exposure patterns to a reference pattern formed in an object to be exposed.例文帳に追加

被露光体に形成された基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上する。 - 特許庁

Some or whole of the pattern data are stored in a reference display data storing means 43.例文帳に追加

これらの図柄データの一部又は全部が、参照表示データ格納手段43に格納される。 - 特許庁

The second electrode pattern 16 is provided with a pull-out part 17b pulled out to the first reference line L1 toward the second reference line L2.例文帳に追加

第２の電極パターン１６は、第２の基準線Ｌ２に向かって第１の基準線Ｌ１まで引き出された引き出し部１７ｂを有する。 - 特許庁

An assembly comprises a disk having at least one magnetic surface and a reference pattern 172 is written in the magnetic surface to decide a reference track.例文帳に追加

アセンブリは少なくとも１つの磁性面を有するディスクを含み、この磁性面には参照パターン（１７２）が書込まれ、参照トラックを決定する。 - 特許庁

When the reference light pattern is shifted by (a) in an x axis direction and by (b) in a y axis direction, the phase of a reference light is shifted by |2π(μa+υb)|.例文帳に追加

参照光パターンがｘ軸方向にａ、ｙ軸方向にｂずれたとき、参照光の位相は｜２π（μａ＋νｂ）｜だけずれる。 - 特許庁

To provide a pattern recognizing method and a device thereof that decrease the calculation quantity of adaptability to all reference pattern functions needed for pattern recognition and further perform fast pattern recognition, without increasing the calculation quantity of adaptability, even when the number of reference patterns is large.例文帳に追加

パターン認識を行なうために必要な全ての参照パターン関数に対する適合度の計算量を削減し、更に、参照パターンの数が多い場合にも、適合度の計算量が増加せずに高速なパターン認識を行うパターン認識方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

In a mask pattern correction method according to an embodiment, a mask pattern correction amount for a reference flare value is calculated as a reference mask correction amount for every type of pattern within a layout, and a change amount of the mask pattern correction amount corresponding to a change amount of a flare value is calculated as change amount information.例文帳に追加

実施形態のマスクパターン補正方法では、レイアウト中のパターンの種類毎に、基準フレア値におけるマスクパターン補正量を基準マスク補正量として算出するとともに、フレア値の変化量に対するマスクパターン補正量の変化量を変化量情報として算出する。 - 特許庁

The iris pattern in an image is viewed from time to time at the time of alignment for the measurement with the iris pattern of each previously registered subject when the eyelids are sufficiently opened as a reference image, and the state of opening of the eyelids is determined based on the degree of matching of the iris pattern with the iris pattern in the reference image.例文帳に追加

あらかじめ、登録された個々の被検者の十分に開瞼された状態での虹彩パターンを参照画像とし、計測でのアライメント時に、画像中の虹彩パターンを随時視認し、参照画像中の虹彩パターンとの合致度合いから、開瞼状態を判断する。 - 特許庁

A pattern is extracted by performing registration p1 of a pattern image with respect to a critical portion of the reference mask and registration p2 of a pattern in a critical portion of design data and applying extraction p4 of the critical pattern portion to a pattern image acquired by acquisition p3 of the pattern image of an inspection target mask.例文帳に追加

基準マスクのクリティカル部分についてのパターン画像の登録Ｐ１と、設計データのクリティカル部分のパターンの登録ｐ２を行い、検査対象マスクのパターン画像の取得ｐ３によって得たパターン画像に対してクリティカルパターン部の抽出処理ｐ４を施すことでパターンを抽出する。 - 特許庁

The position detection pattern replacement unit 30 replaces a position detection pattern in the image data vd with a reference pattern that is a position detection pattern with a predetermined contrast ratio or more, based on the position and size of a position detection pattern detected by the position detection pattern detection unit 20.例文帳に追加

そして、位置検出用パターン差し替え部３０は、位置検出用パターン検出部２０により検出される位置検出用パターンの位置および大きさに基づいて、画像データｖｄ中の位置検出用パターンを、所定のコントラスト比以上の位置検出用パターンである基準パターンに差し替える。 - 特許庁

An extraction part 2 extracts a first graphic included in a first reference frame and a second graphic included in a second reference frame from a first circuit pattern, and extracts a third graphic included in the first reference frame and a fourth graphic included in the second reference frame from a second circuit pattern different in layer from that of the first circuit pattern.例文帳に追加

抽出部２は、第１の回路パターンから、第１の基準枠に含まれる第１の図形、および第２の基準枠に含まれる第２の図形を抽出し、第１の回路パターンと異なる層の第２の回路パターンから、第１の基準枠に含まれる第３の図形、および第２の基準枠に含まれる第４の図形を抽出する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device and a pattern drawing method capable of drawing a pattern in an appropriate position in each region even when a reference pattern is individually formed in a plurality of regions on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面の複数の領域に個別に基準パターンが形成されている場合であっても、各領域内の適正位置にパターンを描画することができるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reference value setting method and a pattern determining method, wherein even in the case of an underlying pattern having a substantially circular shaped part, it is possible to determine the pertinence of the position of a resist pattern for the underlying pattern accurately.例文帳に追加

略円形状の部分を有する下地パターンであっても、下地パターンに対するレジストパターンの位置の良否を正確に判定することができる基準値設定方法およびパターン判定方法を提供する。 - 特許庁

A signal light pattern is displayed in a signal light area 20S set in the fixed position of a spatial optical modulator 20, and a ring-shaped reference light area 20R is slid to display a reference light pattern in the moved reference light area 20R.例文帳に追加

空間光変調器２０の固定配置された信号光領域２０Ｓに信号光パターンを表示すると共に、リング状の参照光領域２０Ｒをスライドさせて、移動させた参照光領域２０Ｒに参照光パターンを表示する。 - 特許庁

The apparatus estimates sets of values of the manipulated variables used when outputting an image of the reference pattern, by using the data on the database to obtain values of the manipulated variables from a desired value for the reference pattern.例文帳に追加

装置は、基準パターンに対する目標値からデータベースのデータを使って操作量の値を得ることにより、基準パターンの画像を出力するときの操作量の値を複数組算定する。 - 特許庁

The image forming apparatus creates a reference pattern group for each color for a length which is the least common multiple of periphery length of the transfer driving roller 45 and periphery length of a photoreceptor 2, and measures detection time between the reference pattern images.例文帳に追加

各色の基準パターン像群を転写駆動ローラ４５の周長と感光体２の周長の最小公倍数分の長さ作成し、基準パターン像間の検知時間を測定する。 - 特許庁

A defect inspection apparatus inspects the defect on a module board by comparing the image pattern picked up by an image pickup apparatus 20 with a reference pattern image of a reference module board previously stored.例文帳に追加

画像読取装置２０で読取った画像パターンと予め記憶されている基準モジュール基板の基準パターン画像と比較対照することにより、モジュール基板の欠陥を検査する欠陥検査装置である。 - 特許庁

To provide a portable electronic device which increases contact points in a case member and a reference potential pattern by forming a recess in the reference potential pattern formed in a circuit substrate.例文帳に追加

本発明は、回路基板に形成された基準電位パターンに凹部を形成することで、ケース部材と基準電位パターンとにおける接点を増加させた携帯電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁

In correcting a reference pattern disposed in parallel arrangement, edges of the reference pattern is divided into many regions, and each region is corrected by shifting the edge by the correction amount preliminarily determined.例文帳に追加

平行配置形態にある基準パターンの補正では、基準パターンのエッジを多数の領域に分割し、この各領域毎にそれぞれ設定された補正値だけエッジを移動させる補正を行う。 - 特許庁

An operator inputs a face dimension of the dispersion speaker face, a reference position, an angle, a pattern class representing a class of an arrangement pattern, an arrangement interval, and a speaker class or the like in reference to the setting screen to be displayed.例文帳に追加

操作者は、表示される設定画面を参照して、分散スピーカ面の面寸法、基準位置、角度、配置パターンの種別を示すパターン種別、配置間隔、スピーカ種別等を入力する。 - 特許庁

Reference air temperature differences are stored in a reference air temperature difference database 133 in association with dates, and weather pattern information obtained by patterning general weather conditions is stored in a weather pattern database 134.例文帳に追加

基準気温差データベース１３３には、日付に対応付けて基準気温差が記憶されており、天気パターンデータベース１３４には、天気概況をパターン化した天気パターン情報が記憶されている。 - 特許庁

To provide a method for generating reference data for performing the inspection of a line width by an APM-PER inspection method using the reference data regardless of a resist pattern or a pattern after etching and re-etching.例文帳に追加

レジストパターンやエッチング後及び再エッチング後のパターンに関わらず、基準データを用いてＡＰＭ−ＰＥＲ検査法による線幅の検査を行うための基準データの生成方法を提供する。 - 特許庁

A reference pattern image P for density detection and reference pattern images pP1 and pP2 for position detection, which are formed on a transfer carrying belt 60, are detected by the same reflection type photosensor 69.例文帳に追加

同一の反射型フォトセンサ６９を用いて、転写搬送ベルト６０上に形成した濃度検知用の基準パターン像Ｐと位置検知用の基準パターン像ｐＰ１、ｐＰ２とを検知する。 - 特許庁

When the matching rate is rejected, the pattern matching hereinbefore is conducted in order with respect to other reference patterns, and a position of the recognition mark is detected based on a collated result with respect to the reference pattern having a prescribed value or more of matching rate.例文帳に追加

マッチング率が不合格ならば順次他のリファレンスパターンとのパターンマッチングを行い、マッチング率が所定値以上のリファレンスパターンとの照合結果に基づいて認識マークの位置を検出する。 - 特許庁

In a focal position confirming chart for confirming the focal position, a reference pattern part (11) having difference of light and dark, and a scale (12) arranged vicinity of the reference pattern part (11) are provided on the same surface (10).例文帳に追加

ピント位置を確認するためのピント位置確認チャートにおいて、明暗差を有する基準パターン部（１１）と、基準パターン部（１１）の近傍に配置された目盛（１２）とを同一面（１０）上に備えている。 - 特許庁

To detect a position by an optimum pattern for an individual system by setting a ratio between the pattern width of a first color (reference color) and that of a second color.例文帳に追加

第１色目（基準色）と第２色目のパターン幅の比を設定することにより、個々のシステムに最適なパターンで位置検知する。 - 特許庁