「sputtered」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Eggs sputtered in the frying pan.例文帳に追加

卵がフライパンの中でジューと音を立てた - Eゲイト英和辞典

COMPOSITE TARGET FOR SPUTTERING, SPUTTERING METHOD AND SPUTTERED FILM例文帳に追加

スパッタ用コンポジットターゲット，スパッタ方法，スパッタ膜 - 特許庁

“Who…who are you?" he sputtered in surprise. 例文帳に追加

「だ, だれだ, お前は」と彼はびっくりして言った. - 研究社 新英和中辞典

DRIP ABSORBER SPUTTERED WITH ANTIBACTERIAL METAL例文帳に追加

抗菌性金属をスパッタリングしたドリップ吸収体 - 特許庁

The transparent conductive membrane 3 is formed as a laminate of sputtered layers of three or more layers (first sputtered layer 31, second sputtered layer 32, and third sputtered layer 33) by sputtering intermittently divided in three times or more.例文帳に追加

透明導電膜３は、３回以上に分けて断続的にスパッタリングすることにより、３層以上のスパッタ層（第１スパッタ層３１、第２スパッタ層３２、第３スパッタ層３３）の積層体として形成されている。 - 特許庁

A part of a sputtered layer 21 is eliminated by etching.例文帳に追加

次に、エッチングにより、スパッタ層２１の一部を除去する。 - 特許庁

A Ti sputtered layer 11 and a Cu sputtered layer 13 are formed on the whole surface of the surface side of a base board 3.例文帳に追加

ベース基板３の表側の表面全体に、Ｔｉスパッタ層１１及びＣｕスパッタ層１３を形成する。 - 特許庁

To make an opening for supplying gas unlikely to be sputtered.例文帳に追加

ガスを供給する開口部がスパッタされにくくなるようにする。 - 特許庁

To prevent an opening for supplying a gas from being sputtered.例文帳に追加

ガスを供給する開口部がスパッタされにくくなるようにする。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FORMING SPUTTERED DOPE-FINISHED SEED LAYER例文帳に追加

スパッタされたドープ済みのシード層を形成する方法及び装置 - 特許庁

Then, the above sputtered thin film is heat-treated (step S20).例文帳に追加

次に、前記スパッタリング薄膜に対して熱処理を施す（ステップＳ２０）。 - 特許庁

Thus, the upper surface of the gate 4 is sputtered, and a suppression film 4s is formed by the material of the sputtered gate 4 (Figure 1 (c)).例文帳に追加

これにより、ゲート４の上面がスパッタリングされ、同スパッタリングされたゲート４材料により、抑制膜４ｓが形成される（図１（ｃ））。 - 特許庁

To provide a magnet system having a uniformly sputtered target surface.例文帳に追加

ターゲット表面が均一にスパッタリングされる磁石装置を提供する。 - 特許庁

A target supplies a material which is sputtered and ionized by plasma.例文帳に追加

ターゲットは、プラズマによってスパッタされイオン化される材料を供給する。 - 特許庁

The sputtering apparatus 1 is provided with a sputtered particle control board 16 for controlling sputtered particles arranged between a target 3 and a shutter 15.例文帳に追加

本発明のスパッタ装置１は、ターゲット３とシャッタ１５の間に、スパッタ粒子を制御するためのスパッタ粒子制御板１６が配置されている。 - 特許庁

To control sputtered amount on a target surface more in details and more precisely.例文帳に追加

ターゲット表面の被スパッタ量を、より詳細かつ精密に制御する。 - 特許庁

In addition, titanium is sputtered to form a film on the surface where the alumina ceramic is exposed to the vacuum side, and platinum is sputtered to form a film having a thickness of 10 μm on it, in order to form a platinum sputtered film 5 with a titanium backing.例文帳に追加

さらに、アルミナセラミックスが真空側に露出している面に、チタンをスパッターで膜成形し、その上に白金をスパッターにより10μｍの厚さに成膜して、チタン下地の白金スパッター膜５を形成した。 - 特許庁

A graphite target 7 is sputtered in ECR plasma essentially consisting of nitrogen.例文帳に追加

黒鉛ターゲット７を、窒素を主成分とするECRプラズマによってスパッタする。 - 特許庁

The target 3 of which the surface to be sputtered is exposed in a treatment chamber 1 is subjected to application of high-frequency voltage by a high-frequency power source 4 and is sputtered.例文帳に追加

被スパッタ面が処理チャンバー１内に露出したターゲット３は、高周波電源４によって高周波電圧が印加されてスパッタされる。 - 特許庁

A screening tool 39 and a shielding plate 391 prevent sputtered particles which are emitted from the target 30, from mixing with the sputtered particles from the other target 30.例文帳に追加

遮蔽具３９及びシールド板３９１は、ターゲット３０から放出されるスパッタ粒子が、別のターゲット３０からのスパッタ粒子に混ざらないようにする。 - 特許庁

A target 3 in which the face to be sputtered on the front side is exposed to the inside of a treating chamber 1 is applied with high-frequency voltage by a high-frequency power source 4 and is sputtered.例文帳に追加

前側の被スパッタ面が処理チャンバー１内に露出したターゲット３は、高周波電源４によって高周波電圧が印加されてスパッタされる。 - 特許庁

A resist pattern 25 is formed on the whole surface of the Cu sputtered layer 13.例文帳に追加

次に、Ｃｕスパッタ層１３の表面全体に、レジストパターン２５を形成する。 - 特許庁

Subsequently, a titanium (Ti) film is sputtered and a nickel (Ni) film is spattered on the titanium film.例文帳に追加

その後、チタニューム（Ｔｉ）膜をスパッタし、その上にニッケル（Ｎｉ）膜をスパッタする。 - 特許庁

To form a sputtered film on the surface of an organic thin film without causing any damage.例文帳に追加

有機薄膜表にダメージを与えずにその表面にスパッタ膜を形成する。 - 特許庁

A cap metal film is sputtered and heat treated at a specified temperature (step S4).例文帳に追加

キャップ金属膜を所定温度の熱処理を兼ねてスパッタ形成する（処理Ｓ４）。 - 特許庁

This ultraviolet light screening fabric sputtered with a metal is characterized in that a metal (1) is stuck fast to a base material (2) by a sputtering method.例文帳に追加

基材（２）に、金属（１）をスパッタリング法で密着させたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a thin film deposition apparatus capable of stabilizing plasma during sputtering and maintaining the thickness of a sputtered film on a substrate constant.例文帳に追加

スパッタリングにおけるプラズマを安定させ、基板のスパッタ膜の膜圧を一定とする。 - 特許庁

A diamond like carbon(DLC) protective film 22 is sputtered on the first magnetic film.例文帳に追加

更に、第１の磁性膜上にダイアモンド状炭素（ＤＬＣ）保護膜２２がスパッタリングされる。 - 特許庁

By the magnetic field, the ionization of the particles to be sputtered is promoted, and self-sputtering stably occurs.例文帳に追加

磁場により被スパッタリング粒子のイオン化が促進されセルフスパッタリングが安定して起こる。 - 特許庁

The sensitivity is raised especially to metal in a tendency to be sputtered as the positive ion.例文帳に追加

感度は、正イオンとしてスパッタリングされる傾向にある特に金属に対して高められる。 - 特許庁

In the method or manufacturing the metallic film of the surface acoustic wave filter, after Cr/Al-Cu/Cr is metal-sputtered onto a dielectric substrate, a metal-sputtered wafer is heated at a temperature of 200°C-250°C.例文帳に追加

弾性表面波フィルタの金属膜の製造方法において、誘電体基板上にＣｒ／Ａｌ−Ｃｕ／Ｃｒをメタルスパッタ後、メタル付きウエハを２００℃から２５０℃で加熱する。 - 特許庁

By making different the amounts of reactive gas respectively supplied to targets, a reactive product with reactive gas is sputtered from one target, and a target material is sputtered from the other target.例文帳に追加

各ターゲットへの反応性ガスの供給量を異ならせることで、一方のターゲットからは反応性ガスとの反応生成物がスパッタされ、他のターゲットからはターゲット材質がスパッタリングされる。 - 特許庁

A desired part of the applied film of regions where no sputtered film exists can be selectively cured using the sputtered film as a mask by irradiation with UV from the rear surface side of the substrate 1.例文帳に追加

基板１裏面側からの紫外線照射により、スパッタ膜をマスクとして、スパッタ膜が存在しない領域のうち所望部分の塗布膜を選択的に硬化させることができる。 - 特許庁

To provide a Co alloy target material which inhibits the variation of a soft magnetic film to be formed when being sputtered, and reduces particles to be produced when being sputtered, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

スパッタリングにより成膜される軟磁性膜のバラツキを抑制するとともに、スパッタリングの際に発生するパーティクルを低減したＣｏ合金ターゲット材およびその製造方法を提供する - 特許庁

The conductor layer 3 is composed of a first sputtered layer 31 formed by sputtering copper on the upper surface of the film 2 at a temperature of 150-280°C and a second sputtered layer 32 formed by sputtering copper on the upper surface of the first sputtered layer 31 at a temperature of -20°C to 150°C.例文帳に追加

導体層３は，ポリイミドフィルム２の上面に，１５０〜２８０℃の温度下で銅をスパッタリングすることにより形成した第１スパッタ層３１と，第１スパッタ層３１の上面に，−２０〜１５０℃の温度下で銅をスパッタリングすることにより形成した第２スパッタ層３２とからなる。 - 特許庁

To prevent adhesion to a wafer caused by sputter particles or a sputtered film through a simple structure.例文帳に追加

スパッタ粒子やスパッタ膜に起因するウェハとの癒着現象を簡単な構造で防止する。 - 特許庁

PASSIVATION OF WIDE BAND-GAP BASED SEMICONDUCTOR DEVICES WITH HYDROGEN-FREE SPUTTERED NITRIDES例文帳に追加

水素を含まないスパッタリングされた窒化物を有するワイドバンドギャップベースの半導体デバイスの不動態化 - 特許庁

The surface of the target 5 is sputtered correspondingly to a magnetic field B formed with the magnetic mechanism 7.例文帳に追加

ターゲット５の表面は、この磁石機構７の形成する磁界Ｂに応じて、スパッタされる。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING EMISSION ANGLE DISTRIBUTION OF SPUTTERED PARTICLES, SIMULATION METHOD OF FILM THICKNESS DISTRIBUTION, AND SPUTTER EQUIPMENT例文帳に追加

スパッタ粒子の放出角度分布計測方法、膜厚分布シミュレーション方法及びスパッタ装置 - 特許庁

The reinforcement material is preferable to be a porous membrane, a fibrous material, fine particles, a binder, a sputtered membrane, or a carbon layer.例文帳に追加

補強材は、多孔膜、繊維状物、微粒子、結着剤、スパッタ膜又はカーボン層が好ましい。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus which can uniformly form a sputtered film on a substrate.例文帳に追加

基板上にスパッタ膜を均一に形成することができるマグネトロンスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

The film deposition apparatus has an ion beam irradiating unit, a target 105 containing a film forming substance to be sputtered, and a holding unit 112 for holding a substrate 106 on which the sputtered film forming substance is deposited.例文帳に追加

成膜装置は、イオンビーム照射手段と、スパッタリングされる成膜物質を含むターゲット１０５と、スパッタリングされた成膜物質が析出する基板１０６を保持する保持手段１１２を有する。 - 特許庁

To provide a method for measuring emission angle distribution of sputtered particles and a simulation method of film pressure distribution, which can accurately measure the emission angle distribution of the sputtered particles in a sputter equipment.例文帳に追加

スパッタ装置におけるスパッタ粒子の放出角度分布を精度よく計測することが可能なスパッタ粒子の放出角度分布計測方法及び膜厚分布のシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

The base material for immobilizing the biological substance includes the glass base material, containing the alkaline component, a sputtered SiO_2 film formed on the glass base material, and a silane coupling agent layer combined with the sputtered film.例文帳に追加

アルカリ成分を含有するガラス基材、前記ガラス基材上に形成されたＳｉＯ_2スパッタ膜、および前記スパッタ膜と結合したシランカップリング剤層を含む生体物質固定用基材とする。 - 特許庁

One-half of the target 22 is covered by a shielding plate 51, thus shielding sputtered particles sputtered from an erosion area 39 underneath (highest magnetic flux-density area) so as not to fly to a substrate 28.例文帳に追加

ターゲット２２の片半分を遮蔽板５１によって覆い、その下のエロージョン領域３９（磁束密度の最も大きな領域）から飛び出たスパッタ粒子が基板２８へ飛来しないように遮断する。 - 特許庁