「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a sputtering system with a new constitution improving the distribution of film thickness on a substrate.例文帳に追加

この発明は、基板上の膜厚分布を向上させる新しい構成を有するスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

To enhance adhesiveness of a barrier metal film to an insulating layer without providing any cooling mechanism on a reverse sputtering apparatus.例文帳に追加

逆スパッタ装置に冷却機構を設けることなく、バリアメタル膜と絶縁層との密着性を向上させる。 - 特許庁

MO-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND CIGS-BASED THIN-FILM SOLAR CELL USING THE SAME例文帳に追加

Ｍｏ系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにこれを用いたＣＩＧＳ系薄膜太陽電池 - 特許庁

This sputtering target material made of glassy carbon contains gaseous hydrogen and gaseous nitrogen by ≥50 ppm weight in total.例文帳に追加

水素ガス及び窒素ガスの合計が、重量で５０ppm以上含有してなるガラス状炭素製スパッタリングターゲット材。 - 特許庁

The nitrogen-containing vanadium film can be deposited by sputtering vanadium in the nitrogen atmosphere.例文帳に追加

前記窒素含有バナジウム被膜は、窒素の雰囲気中でバナジウムをスパッタリングすることによって形成することができる。 - 特許庁

To provide a low oxygen content gallium nitride sintered body and a low oxygen content gallium nitride sputtering target.例文帳に追加

低酸素含有量窒化ガリウム焼結体ならびに低酸素含有量窒化ガリウムスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

Preferably, the first secondary electron emitting layer is constituted in a powder-like form obtained by crushing an MgO sputtering target.例文帳に追加

好ましくは、第１二次電子放出層は、ＭｇＯスパッタリングターゲットを粉砕して得た粉末状で構成される。 - 特許庁

The substrate layer 12 is formed on the nonmagnetic substrate 2 by a vapor growth method such as sputtering and vapor deposition.例文帳に追加

この下地層１２は、非磁性基板２上に、スパッタリングや蒸着等の気相成長法により形成する。 - 特許庁

An aluminium film 2 is deposited on a silicon wafer 1, which is used as a substrate, in a film thickness of 5 μm or thereabouts by sputtering.例文帳に追加

基板となるシリコンウエハ１にアルミニウム膜２をスパッタにより５μｍ程度の膜厚で成膜する（同図（ａ））。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus which can form an alloy thin film different in composition while suppressing reduction in productivity.例文帳に追加

生産性の低下を抑えつつ組成の異なる合金薄膜を形成可能なスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

The thin piezoelectric substance film which turns to an actuator of a liquid discharge head is deposited under heating by sputtering.例文帳に追加

液体吐出ヘッドのアクチュエータとなる圧電体薄膜をスパッタリングによって基板を加熱しながら成膜する。 - 特許庁

SPUTTERING SURFACE FLATNESS EVALUATION METHOD AND RESOLUTION EVALUATION METHOD IN GLOW DISCHARGE EMISSION SPECTRAL ANALYSIS例文帳に追加

グロー放電発光分光分析におけるスパッタ面の平坦性の評価方法及び深さ分解能の評価方法 - 特許庁

Then, an alloy film 18 composed of a CuMn alloy is applied to an inner surface of the second groove 11 by sputtering.例文帳に追加

次に、スパッタ法により、第２溝１１の内面に、ＣｕＭｎ合金からなる合金膜１８が被着される。 - 特許庁

The insulating layer by an Al oxidized film is formed by executing reactive sputtering in the gaseous atmosphere containing the oxygen.例文帳に追加

酸素を含むガス雰囲気中で反応性スパッタを行うことで、Ａｌ酸化膜による絶縁層が形成される。 - 特許庁

To provide an indium-zinc-oxide-based sputtering target; a manufacturing method therefor; and an indium-zinc-oxide-based thin film.例文帳に追加

酸化インジウム亜鉛系スパッタリングターゲット、その製造方法、および酸化インジウム亜鉛系薄膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a film with a sputtering process, which can further improve the crystallinity of an LaB_6 film, and also does not cause the peeling of the LaB_6 film.例文帳に追加

ＬａＢ_６膜の結晶性を更に改善でき、剥離も少ないスパッタ形成方法を提供する。 - 特許庁

ALLOY FOR SOFT MAGNETIC FILM LAYER IN PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 - 特許庁

To provide a planetary sputtering apparatus capable of easily unifying the thickness of a film to be deposited on a substrate.例文帳に追加

基板に形成される膜厚を均一化することが容易である、プラネタリー方式のスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem in the conventional method of sputtering method employing an Al-Si-Cu target, that Si nodules are generated when an Al- interconnection film is deposited.例文帳に追加

Al-Si-Cuターゲットによるスパッタ法で、Al配線膜を堆積させるときに生ずるSiのノジュールが発生してしまう。 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH THIN FILM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE TRANSFER MASK例文帳に追加

スパッタリング装置、薄膜付き基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 - 特許庁

A TiSi layer 8 is formed on the gate electrode and the surface of both the impurity layers through sputtering-heat-treatment of Ti.例文帳に追加

次にＴｉをスパッタ熱処理しゲート電極と両不純物層表面にＴｉＳｉ層８を形成する。 - 特許庁

Pressure in the container 51 of the sputtering system 50 is set in the range of 0.28-0.32 Pa(Pascal).例文帳に追加

このときの、スパッタリング装置５０の容器５１内の圧力は、０．２８Ｐａ（パスカル）以上０．３２Ｐａ（パスカル）以下とする。 - 特許庁

The Cu-Ga alloy sputtering target is obtained by molding and sintering the Cu-Ga alloy powder.例文帳に追加

また、このＣｕ−Ｇａ合金粉末を成型し、焼結することにより、Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットを得る。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a target material for sputtering, by which minute internal defects can be detected.例文帳に追加

微小な内部欠陥を検出することができるスパッタリング用ターゲット材料の検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus which can reduce or prevent sputtering on optical component relevant to plasma.例文帳に追加

プラズマに関連する光コンポーネントのスパッタリングを低減または防止することができるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

The high-resistance ZnO thin film that serves as the buffer layer is formed by carrying out sputtering film formation in an atmosphere including oxygen.例文帳に追加

バッファ層である高抵抗ＺｎＯ薄膜を、酸素を含む雰囲気中でスパッタ成膜して形成する。 - 特許庁

(1) In the sputtering process, a surface resistance of a metal coating film to be formed is controlled within 0.1-1.0 Ω/sq.例文帳に追加

（１）前記スパッタリング工程において、形成する金属被膜の表面抵抗を、０．１〜１．０Ω／□に制御する。 - 特許庁

To provide a sputtering cathode in which flexibility of adjustment of a distance between a target and a magnet unit is increased.例文帳に追加

ターゲットと磁石ユニットとの距離の調整の自由度を高めることができるスパッタリングカソードを提供すること。 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE, ITS ABNORMAL DISCHARGE DETECTING METHOD, PRODUCTION OF LIQUID CRYSTAL ELEMENT USING THE DEVICE AND LIQUID CRYSTAL ELEMENT例文帳に追加

スパッタリング装置とその異常放電検出方法、該装置を用いた液晶素子の製造方法、液晶素子 - 特許庁

A spin valve sensor is formed into pinned layers by sputtering cobalt iron (CoFe) in a nitrogen (N_2) atmosphere.例文帳に追加

窒素（Ｎ_2）雰囲気中でのコバルト鉄（ＣｏＦｅ）のスパッタ付着により、スピン・バルブ・センサのピンド層構造を形成する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING HIGH PURITY HAFNIUM MATERIAL, HIGH PURITY HAFNIUM MATERIAL OBTAINED BY THE METHOD, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

高純度ハフニウム材の製造方法及びこの方法により得られた高純度ハフニウム材、並びにスパッタリングターゲット - 特許庁

To provide an ion sputtering apparatus to select only the ion having a predetermined energy and irradiate a target with it.例文帳に追加

特定のエネルギを有すイオンのみを選択してターゲットに照射するイオンビームスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target material made from a master alloy containing a stoichiometrically favorable amount of carbide or carbon.例文帳に追加

化学量論的に良好なカーバイド又は炭素含有のマスター合金スパッタターゲット材料を提供すること。 - 特許庁

A size of the milling ion source is made small, and therefore miniaturization of the sputtering device is realized by improving space efficiency.例文帳に追加

ミリング用イオン源のサイズを小さくできるので、スペース効率を向上させてスパッタリング装置を小型化できる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY MOLYBDENUM-TUNGSTEN ALLOY POWDER USED FOR RAW POWDER FOR SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングターゲット用原料粉末として用いられる高純度モリブデン−タングステン合金粉末の製造方法 - 特許庁

A substrate covering film 13 consisting of nickel phosphorus is formed by sputtering so as to cover the texture 17.例文帳に追加

テクスチャ１７を覆うようにして、ニッケル燐から成る基板被覆膜１３がスパッタリングにより作成されている。 - 特許庁

The tungsten sputtering target has 5-100 ppm molybdenum(Mo) content.例文帳に追加

モリブデン（Ｍｏ）含有量が５ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下であることを特徴とするタングステンスパッタリングターゲットである。 - 特許庁

COPPER ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING SEMICONDUCTOR DEVICE INTERCONNECT LINE SEED LAYER AND SEED LAYER FORMED USING THAT TARGET例文帳に追加

半導体装置配線シード層形成用銅合金スパッタリングターゲットおよびこのターゲットを用いて形成したシード層 - 特許庁

Thus, the electrode for sputtering can be protected from the plasma atmosphere formed by the process of the plasma polymerization.例文帳に追加

これにより、スパッタリング用電極をプラズマ重合のプロセスで生成したプラズマ雰囲気から保護することができる。 - 特許庁

The multilayer film is formed by laminating alternately an Si layer 2 and an Mo layer on a substrate 4 by a sputtering method.例文帳に追加

基板４の上に、スパッタリング法で、Ｓｉ層２とＭｏ層３を交互に積層して多層膜を形成する。 - 特許庁

The stabilizing layer may be laminated using either of a sputtering process, a vapor deposition process or a plating process.例文帳に追加

また、上記安定化層は、スパッタリング法、蒸着法またはめっき法のいずれかにより積層することができる。 - 特許庁

To provide a carbon dioxide gas shielded arc welding method and a welding device, in which sputtering reduces, and a weld quality improves.例文帳に追加

スパッタが低減し、溶接品質が向上した炭酸ガスアーク溶接方法および溶接装置を提供する。 - 特許庁

REFLECTIVE FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING REFLECTIVE FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光情報記録媒体用反射膜および光情報記録媒体反射膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Co-BASE SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF MAGNETIC RECORDING FILM WHICH IS LESS LIKELY TO GENERATE PARTICLE例文帳に追加

パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, THIN FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜及びその製造方法 - 特許庁