「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a magnetron sputtering device for use in the deposition of a film having a predictive thickness distribution with low defect levels.例文帳に追加

欠陥レベルの低い、予想される厚さ分布を有する膜形成に用いるマグネトロン・スパッタリング・デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering thin film deposition system capable of depositing a thin film of high quality at high film deposition rate.例文帳に追加

製膜速度が高く、品質が高い薄膜を形成することができるスパッタリング薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

A metal film for silicidizing is deposited on the principal surface of the wafer through sputtering, while including the surface of the conductive member (step 2).例文帳に追加

ウェハ主面上に導電部材上を含んでシリサイド化のための金属膜をスパッタ法で堆積する（ステップ２）。 - 特許庁

To obtain a radical generating method in reactive sputtering where damages to a film and a substrate caused by ions is suppressed, and to obtain a device therefor.例文帳に追加

イオンによる膜と基板へのダメージを抑制する反応性スパッタにおけるラジカル発生方法及び同装置を得る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a Co-base sintered alloy sputtering target for forming a magnetic recording film of low relative magnetic permeability.例文帳に追加

低透磁率を有する磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, an upper Al alloy film 25 is formed directly on the surface of the W film 24 by second-step sputtering.例文帳に追加

次いで、２ｎｄステップスパッタにより、Ｗ膜２４の表面上に、直接、上側Ａｌ合金膜２５を成膜する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL CONTAINING COBALT, CHROMIUM, AND PLATINUM MATRIX PHASE AND OXIDE PHASE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

コバルト、クロム、および白金からなるマトリックス相と酸化物相とを含有するスパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

The porous lithium film is provided by vacuum evaporating, ion plating, or sputtering under prescribed conditions.例文帳に追加

このような多孔質リチウム膜は、特定条件下で真空蒸着、イオンプレーティングあるいはスパッタリングすることにより得られる。 - 特許庁

MAGNETRON REACTOR MADE OF METAL AND FEEDING HIGH DENSITY INDUCTION COUPLING HIGH FREQUENCY PLASMA SOURCE SPUTTERING DIELECTRIC FILM例文帳に追加

金属製及び誘電体膜をスパッタリングする高密度誘導結合高周波プラズマ源を供給するマグネトロンリアクタ - 特許庁

To provide an InSbO_4-contained transparent conductive membrane with a low resistiviy and its manufacturing method using sputtering method.例文帳に追加

抵抗率が低いＩｎＳｂＯ_4含有透明導電性膜およびそのスパッタ法による製造方法を提供する。 - 特許庁

In the second process, an optical shield film 9 is formed by sputtering on the conductive film 3 around the cylinder 7.例文帳に追加

第２工程では、スパッタリングにより導電膜３上であって円柱７の周囲に光学遮蔽膜９を形成する。 - 特許庁

The antireflection film 52 is composed of laminated films of three layers 52a, 52b and 52c which are deposited by a sputtering method, respectively.例文帳に追加

この反射防止膜５２は３層５２ａ，５２ｂ，５２ｃの積層膜からなり、それぞれスパッタリング法で成膜される。 - 特許庁

Ag-ALLOY FILM FOR ELECTRONIC PART, FLAT PANEL DISPLAY DEVICE, AND SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR DEPOSITING Ag-ALLOY FILM FOR ELECTRONIC PART例文帳に追加

電子部品用Ａｇ合金膜、平面表示装置および電子部品用Ａｇ合金膜形成用スパッタリングターゲット材 - 特許庁

Afterwards, the dielectric film 139 is subjected to a metal sputtering process to form a conductive material layer 180 thereon.例文帳に追加

その後、誘電体フィルム１３０に金属スパッタリングプロセスを施してその上に導電性物質層１８０を形成する。 - 特許庁

POLYCRYSTALLINE SILICON FILM VAPOR PHASE FORMATION METHOD AND APPARATUS BY PULSE POWER SUPPLY AND PULSE DISCHARGE SPUTTERING例文帳に追加

パルス電源とパルス放電スパッタによる多結晶シリコン膜気相合成法並びに多結晶シリコン膜気相合成装置 - 特許庁

Four small diameter chemically strengthened glass substrates 9 are attached to one small diameter sputtering carrier 10 exclusive for a 3.5 inch size.例文帳に追加

４枚の小径化学強化ガラス基板９を１枚の３．５インチサイズ専用小径スパッタキャリア１０に取り付ける。 - 特許庁

ARTICLE COATED WITH PHOTOCATALYTIC FILM, METHOD OF MANUFACTURING FOR THE ARTICLE, AND SPUTTERING TARGET USED FOR DEPOSITING THE FILM例文帳に追加

光触媒膜が被覆された物品、その物品の製造方法及びその膜を被覆するために用いるスパッタリングターゲット - 特許庁

To establish a technique which is capable of turning cobalt or the like to silicide or salicide at mass production level, through high-temperature sputtering method.例文帳に追加

高温スパッタリング法を用いたコバルト等のシリサイド化あるいはサリサイド化技術の量産レベルでの確立を図る。 - 特許庁

The oxide film on the NiP layer is formed in a vacuum chamber of a sputtering machine by introducing a small amount of oxygen.例文帳に追加

ＮｉＰ層上の酸化膜はスパッタ装置の真空室内に微量の酸素を導入して形成されたものである。 - 特許庁

To provide a sputtering target which has enhanced cooling and can reduce the deflection of a sputtered material.例文帳に追加

向上した冷却能を有し、且つスパッタ材料の撓みを減少させることのできるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

DUAL MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, THIN FILM BODY OF HIGHLY FUNCTIONAL MATERIAL PRODUCED USING THE SYSTEM, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

デュアルマグネトロンスパッタリング装置とこの装置を用いて作製された高機能性材料薄膜体およびその製造方法 - 特許庁

As a result, because surface area of the electrode 4 is increased and electrode surface current density is lowered, sputtering is reduced.例文帳に追加

その結果、電極の表面積が増大して電極表面電流密度が低下するので、スパッタリングが低減する。 - 特許庁

A pad electrode 16 connected to the common potential line COM through the contact hole CH3 is formed by a sputtering method.例文帳に追加

コンタクトホールＣＨ３を通して共通電位線ＣＯＭに接続されたパッド電極１６をスパッタ法で形成する。 - 特許庁

Next, the inner surface of the groove and that of the via hole are coated with a metal film 18 formed of MnO by a sputtering method.例文帳に追加

次に、スパッタ法により、溝の内面およびビアホールの内面に、ＭｎＯからなる金属膜１８が被着される。 - 特許庁

To improve the film quality in a magnetron sputtering method in which film formation is executed under the pressure lower than that capable of starting discharge.例文帳に追加

放電開始可能圧力より低い圧力で成膜するマグネトロンスパッタ方法において、膜質の向上を図る。 - 特許庁

To provide an optical recording medium which can be manufactured without using a vacuum process which uses a sputtering device or the like.例文帳に追加

スパッタリング装置などを用いた真空プロセスを使用することなく製造可能な光記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering system effective for depositing a metallic film free from voids in the insides of grooves and interlayer connecting holes.例文帳に追加

溝や層間接続孔の内部にボイドのない金属膜を形成するのに有効なスパッタ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus which can form a film by sputtering without damaging an optical disk substrate or degrading the mechanical properties thereof.例文帳に追加

光ディスク基板にその損傷と機械的特性の低下をもたらさずにスパッタ成膜を施せる装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of oxygen omission and high internal stress in deposition of a thin piezoelectric substance film by a simultaneous heating and sputtering method.例文帳に追加

同時加熱スパッタ法による圧電体薄膜の成膜において、酸素抜けや高い内部応力の発生を防ぐ。 - 特許庁

The sputtering target contains an oxide A shown below, and indium oxide (In_2O_3) having a bixbyite type crystallite structure.例文帳に追加

下記に示す酸化物Ａと、ビックスバイト型の結晶構造を有する酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）と、を含有するスパッタリングターゲット。 - 特許庁

The plating base layer is mainly composed of Cu or Ni and formed by vacuum-deposition or sputtering.例文帳に追加

当該メッキ下地層はＣｕまたはＮｉを主体とする金属からなり、真空蒸着またはスパッタリングで形成される。 - 特許庁

A titanium oxide film 4 is formed thereon as a barrier metal, and a platinum film 5 is successively formed thereon as a lower electrode through a sputtering method.例文帳に追加

この上にバリアメタルとして酸化チタン膜４を、下部電極として白金膜５をスパッタ法にて順次成膜する。 - 特許庁

The sputtering apparatus also includes a magnetic circuit with an electrically floating center pole 18 and an electrically floating outside pole 20.例文帳に追加

スパッタリング装置は、電気的にフローティング状態の中心磁極18および外側磁極20を有する磁気回路を備える。 - 特許庁

To suppress generation of impurities into plasma caused by sputtering from a region definition body.例文帳に追加

領域規定体からのスパッタリングによって、プラズマ中に不純物が発生するのを抑制することができるようにする。 - 特許庁

After that, an IrO_Y film 26 having a thickness of 50 nm-100 nm is formed on the IrO_X film 25 by a sputtering method.例文帳に追加

その後、ＩｒＯ_X膜２５上にスパッタ法により厚さが５０ｎｍ〜１００ｎｍのＩｒＯ_Y膜２６を形成する。 - 特許庁

Next, an Al layer 2, a Ti layer 3, and an Ni layer 4 are formed on the forming face S of the semiconductor substrate 1 by sputtering.例文帳に追加

次に、半導体基板１の形成面ＳにスパッタリングによってＡｌ層２、Ｔｉ層３、Ｎｉ層４を形成する。 - 特許庁

To provide a phase change recording film with high electric resistance and a sputtering target for forming the phase change recording film.例文帳に追加

電気抵抗が高い相変化記録膜およびその相変化記録膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a vanadium sputtering target having excellent film deposition properties and capable of depositing a hard film having extremely high uniformity.例文帳に追加

極めて均一性が高い硬質被膜を形成させることができる成膜性の優れたバナジウムスパッタリングターゲットの提供。 - 特許庁

A metal target 12 is arranged on a metal oxide target 10, and a single sputtering target 14 is constituted.例文帳に追加

金属のターゲット１２を、金属酸化物のターゲット１０上に配置し、単一のスパッタリングターゲット１４を構成させる。 - 特許庁

The bulk body constituting the first bump layer is formed by one of a plating method, a sputtering method and a CVD method.例文帳に追加

第１バンプ層を構成するバルク体は、メッキ法、スパッタリング法、ＣＶＤ法のいずれかにより形成されるものである。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, ITS MANUFACTURING METHOD, OPTICAL RECORDING MEDIUM USING THE TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE OPTICAL RECORDING MEDIUM例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット、その製造方法、そのターゲットを用いた光記録媒体及びその光記録媒体の製造方法 - 特許庁

To provide a sputtering target material composed of an Ag alloy which has high reflectivity and excellent in heat resistance.例文帳に追加

Ａｇ合金から構成された、高い反射率を有し且つ耐熱性に優れたスパッタリングターゲット材を提供すること。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, MANUFACTURING METHOD OF PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁気記録媒体製造用スパッタリングターゲット、及び垂直磁気記録媒体の製造方法並びに垂直磁気記録媒体 - 特許庁

A magnetron 18 driven by DC electric current is positioned in the reactor and supports a target 20 of sputtering.例文帳に追加

直流電流で駆動されるマグネトロンは、リアクタ室内に位置しスパッタリングのターゲットを支持するように構成されている。 - 特許庁

Subsequently an amorphous SiC layer 12 is formed by sputtering and crystallized by irradiating it with an energy beam.例文帳に追加

続いて、非晶質ＳｉＣ層１２をスパッタリング法により形成し、これをエネルギービームの照射により結晶化させる。 - 特許庁