「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

The ion sputtering magnetron has an electromagnetic field shield arranged between the conductive component and a drive shaft segment.例文帳に追加

このイオンスパッタリングマグネトロンは更に、導電性構成部材と駆動軸部分との間に配置された電磁場シールドを有している。 - 特許庁

Ag ALLOY REFLECTION FILM FOR REFLECTOR, REFLECTOR AND Ag ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF Ag ALLOY REFLECTION FILM FOR REFLECTOR例文帳に追加

リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

METHOD OF FORMING SILICON NANOPARTICLES FROM SILICON RICH-OXIDE BY DC REACTIVE SPUTTERING FOR ELECTROLUMINESCENCE APPLICATION例文帳に追加

エレクトロルミネセンスへの応用を目的とし、シリコン過剰酸化物からシリコンナノ粒子をＤＣ反応性スパッタリングによって形成する方法 - 特許庁

Then, the first port is provided with an electrode for sputtering, and the second port is provided with an electrode for plasma polymerization.例文帳に追加

そして、第一のポートにはスパッタリング用電極が設けられており、第二のポートにはプラズマ重合用電極が設けられている。 - 特許庁

COPPER ALLOY THIN FILM FOR WIRING AND ELECTRODE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING THIN FILM例文帳に追加

液晶表示装置における配線および電極用銅合金薄膜並びにその薄膜を形成するためのスパッタリングターゲット - 特許庁

Here, the transparent electrode 111c is an amorphous transparent conductive body formed with sputtering which uses an indium-tin alloy.例文帳に追加

ここで、透明電極１１１ｃは、インジウム・スズ合金を用いたスパッタリングで形成された非晶質の透明導電体である。 - 特許庁

A film forming chamber 121 is provided directly under the glass melting chamber and also a sputtering device for an electrically conductive substance is provided in the film forming chamber.例文帳に追加

ガラス溶融室の直下に成膜室１２１を設けるとともに、該室内に導電性物質のスパッタ装置を設ける。 - 特許庁

To provide a non-silicon series semiconductor thin film usable for a thin film transistor, and to provide a sputtering target for forming the non-silicon series semiconductor thin film.例文帳に追加

薄膜トランジスタに使用できる非シリコン系半導体薄膜、及びそれを形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a conductive sintered sputtering target material for forming optical recording medium dielectric protective layer, capable of high speed film deposition.例文帳に追加

高速成膜が可能な光記録媒体誘電体保護層形成用導電性焼結スパッタリングターゲット材を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, INTERFACE FILM FOR PHASE CHANGE OPTICAL RECORDING MEDIUM USING SAME, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND PHASE CHANGE OPTICAL RECORDING MEDIUM例文帳に追加

スパッタリングターゲット、それを用いた相変化光記録媒体用界面層膜とその製造方法、および相変化光記録媒体 - 特許庁

To provide a sputtering system capable of improving a film thickness distribution and a coverage distribution without increasing the size of the system.例文帳に追加

装置のサイズを大きくすることなく、膜厚分布及びカバレージ分布を向上させることができるスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

(1) The SrS-containing sputtering target for use in the optical information recording medium includes SrS and has a packing density of 70 to 98%.例文帳に追加

（１）ＳｒＳを含み、充填密度が７０〜９８％である光情報記録媒体用ＳｒＳ含有スパッタリングターゲット。 - 特許庁

To provide a holder for forming a film on a glass substrate, which easily aligns a mask plate with the glass substrate and fixes them in a sputtering apparatus.例文帳に追加

スパッタリング装置内でガラス基板とマスク板との位置合わせおよびその固定を簡単に行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide a film-forming method which can efficiently form a film on many substrates by using a gas-flow sputtering technique, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

ガスフロースパッタリング法によって多数の基材に効率よく成膜することができる成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a Cu-Ga alloy sputtering target which has high Ga concentration and in which cracks, abnormal discharge, and generation of particles are suppressed.例文帳に追加

高Ｇａ濃度を有し、割れや異常放電、パーティクルが発生が抑制されたＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットを得る。 - 特許庁

To provide a low-cost ultrasonic flaw detector having a simple structure properly inspecting flaws on a cylindrical sputtering target.例文帳に追加

円筒状のスパッタリングターゲットの探傷検査を適正に行いつつ、構成が簡易で安価な超音波探傷装置を提供する。 - 特許庁

To provide an element structure which suppresses damage occurring in the formation of a transparent electrode of ITO or the like by a sputtering method.例文帳に追加

ＩＴＯなどの透明電極をスパッタリング法によって成膜する際のダメージが抑制された素子構造を提供する。 - 特許庁

To provide an Mo-based sputtering target suited for an increase in size and reduced in an oxygen content and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

大型化に適し、酸素量の低減化を達成したＭｏ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The lower end of the center mask 29 is brought into contact with the center part of the surface of a disk substrate 31 arranged at the lower part of the sputtering chamber 11.例文帳に追加

センターマスク２９の下端は、スパッタ室１１下部に配置されるディスク基板３１の表面中心部に接触する。 - 特許庁

Cr-Mn-B-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR PRODUCING SUBSTRATE FILM IN MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND THIN FILM PRODUCED USING THE SAME例文帳に追加

磁気記録媒体における下地膜製造用Ｃｒ−Ｍｎ−Ｂ系スパッタリングターゲット材およびこれを用いて製造した薄膜 - 特許庁

To uniformize the feed of high-frequency electric power to plasma in a high-frequency sputtering device and to execute uniform film forming treatment.例文帳に追加

高周波スパッタリング装置において、プラズマへの高周波電力の供給を均一にして均一な成膜処理を可能にする。 - 特許庁

In the manufacture of the optical disk, the phase change recording layer and the phase change material layer are successively formed by a sputtering method.例文帳に追加

前記光ディスクの製造においては、スパッタ法を用いて相変化記録層と相変化材料層を連続的に成膜する。 - 特許庁

To provide a sputtering system where the increase in the temperature of an anode is suppressed and the suppression of particles is possible in a film deposition stage.例文帳に追加

成膜過程においてアノードの温度上昇を抑制し、パーティクルを抑制することが可能なスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas outlet part structure for a melting furnace capable of certainly precluding a clogging caused by a molten substance sputtering.例文帳に追加

飛散してきた溶融物による閉塞を確実に防止することができる溶融炉の排ガス出口部構造を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing method of a Cu_2O thin film, the Cu_2O thin film having its film thickness of about 1 μm is created by a reactive sputtering method on a cleaned glass substrate.例文帳に追加

洗浄したガラス基板上に反応性スパッタ法によって膜厚約１μｍのＣｕ_2Ｏ薄膜を作製した。 - 特許庁

To provide a sputtering system capable of highly precisely monitoring/controlling a film thickness and enhancing the latitude of design.例文帳に追加

膜厚を高精度にモニタ制御することができるとともに、設計自由度を高めることができるスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

The reactive sputtering deposition is executed simultaneously with the deposition of the metallic layer on the first wafer in the second IBS deposition chamber.例文帳に追加

この反応性スパッタ堆積は、第１のウェハが第２のＩＢＳ堆積室で金属層を堆積するのと同時に行われる。 - 特許庁

To provide a sputtering system which has wide control width of the horizontal magnetic flux density, and capable of enhancing the film thickness distribution in the film deposition on a substrate to be treated.例文帳に追加

水平磁束密度の制御幅が広く、被処理基板への成膜における膜厚分布を向上させること。 - 特許庁

Moreover, from the center part of this target 22, a center mask 29 is extendedly arranged vertically across the inside of the sputtering chamber 11.例文帳に追加

また、このターゲット２２の中心部からはセンターマスク２９がスパッタ室１１内部を横切って垂直に延長配置されている。 - 特許庁

PLANAR DISPLAY UNIT, Ag ALLOY-BASED REFLECTIVE FILM THEREFOR AND SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR Ag ALLOY- BASED REFLECTIVE FILM FORMATION例文帳に追加

平面表示装置用Ａｇ合金系反射膜、Ａｇ合金系反射膜形成用スパッタリングターゲット材および平面表示装置 - 特許庁

Further, a wafer method is used to display a plurality of discrimination symbols S in a lump on the wafer by sputtering or photolithography.例文帳に追加

また、ウエハ工法を用い、複数の判別記号Ｓを、ウエハ上に一括してスパッタリングあるいはフォトリソグラフィにより表示する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sputtering target to be used in forming a film of a perpendicular magnetic recording medium having low relative magnetic permeability in an in-plane direction.例文帳に追加

面内方向比透磁率の低い垂直磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁

The unit deposition processing includes a step for depositing an Mg film by sputtering, and a step for oxidizing the Mg film thus deposited.例文帳に追加

単位成膜処理は、Ｍｇ膜をスパッタ法により堆積する工程と、堆積されたＭｇ膜を酸化する工程と、を含む。 - 特許庁

REINFORCEMENT RING FOR PREVENTING DEFORMATION OF BACKING PLATE, BACKING PLATE WITH THE REINFORCEMENT RING, SPUTTERING TARGET, AND THEIR USE例文帳に追加

バッキングプレート変形防止用補強リング、その補強リングを取り付けたバッキングプレートおよびスパッタリングターゲット、並びにそれらの使用方法 - 特許庁

At the time of forming each the film by sputtering, all the films that constitute the multilayer films are carried out patterning using the same metal mask.例文帳に追加

スパッタ法により各膜を成膜するに際し、多層膜を構成する全ての膜を同一のメタルマスクを使用してパターニングする。 - 特許庁

When the SiO_2 film is formed, an Si target containing a specified metallic additive is used and the sputtering is performed.例文帳に追加

本発明においては、ＳiＯ_2膜を形成する際に、所定の金属添加物を含有するＳｉターゲットを用いてスパッタリングを行う。 - 特許庁

To fast deposit an antireflection film which suppresses reflection on the display surface such as a CRT, LCD, PDP or the like by sputtering.例文帳に追加

ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＰＤＰなどのディスプレイ表面の反射を抑制する反射防止膜をスパッタリングで高速に成膜する。 - 特許庁

To provide a high-output ion sputtering magnetron which is hardly affected by the thermal damage arising from magnetic induction heating.例文帳に追加

磁気誘導加熱によって生じた熱損傷の影響を受けにくい高出力イオンスパッタリングマグネトロンを提供すること。 - 特許庁

In the deposit-up type sputtering vapor deposition, the substrate is not polluted, and the offset film deposition is also performed.例文帳に追加

このため、本願発明のデポアップ型スパッタ蒸着においては、基板を汚染することなく、また、オフセット成膜も可能である。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, ANTIFERROMAGNETIC FILM, MAGNETORESISTANCE EFFECT ELEMENT PROVIDED WITH THE FILM, MAGNETIC HEAD, AND MAGNETORESISTANCE EFFECT TYPE RANDOM ACCESS MEMORY例文帳に追加

スパッタリングターゲット、反強磁性体膜、それを具備する磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドおよび磁気抵抗効果型ランダムアクセスメモリ - 特許庁

The film or composite film is produced by an arc ion plating method or a magnetron sputtering method using a solid target material with a sintered structure containing B.例文帳に追加

Ｂを含む、焼結構造の固体ターゲット材を用いたアークイオンプレーティング法またはマグネトロンスパッタリング法で製造する。 - 特許庁

The electrodes 14a-14d are provided with large resistance by directly forming them as thin films on the base material 11 by a sputtering method.例文帳に追加

電極１４ａ〜１４ｄはスパッタ法によって絶縁基板１１に直接形成し、薄膜とすることで抵抗を大きくする。 - 特許庁

To provide a sputtering target used when a Ti-W film is formed as a diffusion-preventive film on a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の拡散防止膜として使用するＴｉ−Ｗ膜を形成するためのスパッタリングターゲットをを提供する。 - 特許庁

Furthermore, by specifying a distance between a pixel area and the wire, the common electrode is patterned, even with low-cost mask sputtering.例文帳に追加

さらに、画素エリアと配線の距離を規定する事で、コストの安いマスク・スパッタ法でもコモン電極のパターニングを行えるようにする。 - 特許庁

To provide a film of high quality by reducing the quantity of inert gas mixed in the film when performing the film deposition on a substrate by the sputtering.例文帳に追加

スパッタにより基板へ成膜する場合に、膜中に混入する不活性ガスの量を減らし、高品質の膜を得る。 - 特許庁