「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

ELECTRON SOURCE SUBSTRATE MANUFACTURING DEVICE, SOLUTION FOR IT, ELECTRON SOURCE SUBSTRATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

電子源基板製造装置，そのための溶液，電子源基板および画像表示装置 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING COATING SOLUTION, AND METHOD FOR USING THE SAME COATING SOLUTION FOR COATING SUBSTRATE例文帳に追加

コーティング溶液の調製方法および基板をコーティングするための同コーティング溶液の使用方法 - 特許庁

The solution containing organism sample is held and a spot of the solution is formed on the substrate 3.例文帳に追加

そして、生体試料を含む溶液を保持し、基板３上に溶液のスポットを形成する。 - 特許庁

To provide a solution treatment apparatus and solution treatment method capable of lessening the contamination of a substrate.例文帳に追加

基板の汚染を低減させることができる液処理装置及び液処理方法を提供する。 - 特許庁

To decrease the supply amount of a coating solution while evenly applying the coating solution in a substrate plane.例文帳に追加

基板面内において塗布液を均一に塗布しつつ、塗布液の供給量を低減する。 - 特許庁

POLISHING SOLUTION FOR METAL AND METHOD OF POLISHING SUBSTRATE USING SAME例文帳に追加

金属用研磨液及びそれを用いた基板の研磨方法 - 特許庁

CLEANING SOLUTION AND METHOD OF CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板洗浄液及び半導体基板洗浄方法 - 特許庁

To dispense more efficiently solution in an array shape on a substrate.例文帳に追加

より効率よく、溶液を基板上にアレイ状に分注する。 - 特許庁

POLISHING SOLUTION FOR CMP AND POLISHING METHOD OF SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加

ＣＭＰ用研磨液及びこれを用いた基板の研磨方法 - 特許庁

To improve the flatness of a resist solution applied on a substrate.例文帳に追加

基板上に塗布されたレジスト液の平坦性を向上する。 - 特許庁

After temperature of the substrate W is equalized as explained above, a temperature adjustment solution removing step is conducted to remove the temperature adjustment solution from the substrate W and a resist solution coating step is conducted to coat the resist solution at the upper surface of the substrate W.例文帳に追加

こうして基板Ｗの温度を均一化した後，基板Ｗから温調用液体を除去する温調用液体除去工程を行い，基板Ｗの上面にレジスト液を塗布するレジスト液塗布工程を行った。 - 特許庁

To provide a technique for preventing a processing solution from remaining in a solution receiver, in a substrate processing apparatus comprising the solution receiver for accepting the processing solution dropping from a substrate during transportation thereof.例文帳に追加

搬送途中の基板から落下する処理液を受ける液受け部を備えた基板処理装置において、液受け部における処理液の残留を防止できる技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

A SC1 solution (mixed solution containing aqueous ammonia and hydrogen peroxide solution) is supplied to the substrate surface Wf to form the liquid film 11 composed of the SC1 solution on the substrate surface Wf.例文帳に追加

基板表面ＷｆにＳＣ１溶液（アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液）を供給して基板表面ＷｆにＳＣ１溶液で構成された液膜１１を形成する。 - 特許庁

A resin substrate is treated with a first ozone solution having the high activation rate, and after that, the resin substrate is treated with a second ozone solution having the activation rate lower than that of the first ozone solution.例文帳に追加

樹脂基板を活性化速度の大きい第１のオゾン溶液で処理した後に、第１のオゾン溶液より活性化速度の小さい第２のオゾン溶液で処理する。 - 特許庁

The substrate P to which the solution is applied is dried in a chamber 100.例文帳に追加

溶液を塗布した基板Ｐをチャンバー１００にて乾燥させる。 - 特許庁

METHOD FOR APPLYING COATING SOLUTION, MANUFACTURING METHOD FOR SUBSTRATE FOR PLASMA DISPLAY PANEL, DEVICE FOR APPLYING COATING SOLUTION AND MANUFACTURING DEVICE FOR SUBSTRATE FOR PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

塗液の塗布方法、プラズマディスプレイパネル用基板の製造方法、塗液の塗布装置およびプラズマディスプレイパネル用基板の製造装置 - 特許庁

METHOD FOR TREATING PROCESS SOLUTION AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE USING IT例文帳に追加

工程溶液処理方法及びこれを用いた基板処理装置 - 特許庁

COMPOUND, CLEANING SOLUTION, SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING SUBSTRATE例文帳に追加

基板を洗浄するための化合物，洗浄溶液，システムおよび方法 - 特許庁

After the mixed solution is divided into a lower developing solution layer and an upper solution layer, development collectively progresses on the whole surface of the substrate.例文帳に追加

混合液が、下層が現像液、上層が溶液の２層に分離された後、現像が基板の面全体で一括的に進行する。 - 特許庁

The first and second washing solution spraying nozzles 41a, 41b spray the washing solution onto the substrate 32.例文帳に追加

第１および第２洗浄液噴射ノズル４１ａ，４１ｂは、基板３２に洗浄液を噴射する。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION AND ARRAY SUBSTRATE FOR ELECTRONIC APPARATUS HAVING COPPER WIRING PATTERNED AND FORMED BY ETCHING SOLUTION例文帳に追加

エッチング溶液及びエッチング溶液でパターン形成された銅配線を有する電子機器用アレー基板 - 特許庁

To provide a chemical solution treatment method by which the uniformity of processing with a chemical solution is enhanced by moving the chemical solution on a substrate to be treated without direct contact with the chemical solution.例文帳に追加

薬液と直接接触することなく、被処理基板上で薬液を移動させることで、薬液の加工の均一性を向上させる薬液処理方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor substrate 2 is dipped in a chemical solution to form the oxide film 4 on the semiconductor substrate 2.例文帳に追加

半導体基板２を化学溶液に浸し、半導体基板２上に酸化膜４を形成する。 - 特許庁

SUBSTRATE FOR ELECTRONIC PARTS USING POLYIMIDE RESIN PRECURSOR SOLUTION, AND MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加

ポリイミド樹脂前駆体溶液を用いた電子部品用基材及びその基材の製造方法 - 特許庁

To provide a substrate treatment device and a substrate treatment method capable of reducing the consumption of a treatment solution.例文帳に追加

処理液の消費量が少ない基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning method for cleaning a substrate effectively by removing organic matter from the surface of the substrate, using an ozone-containing solution.例文帳に追加

オゾン含有溶液を用いて基板表面の有機物を高清浄に洗浄する洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treating apparatus and a substrate treating system capable of executing desired substrate treatment without wasting a chemical solution.例文帳に追加

薬液を浪費することなく、所望の基板処理を実施できる基板処理装置および基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To obtain a substrate processing device, which can eliminate a use amount of a processing solution and can contain a specified chemical solution component of a sufficient amount in the processing solution at the time when a substrate is processed, when the substrate is impregnated in the processing solution having the chemical solution component incidental to a natural deterioration to process it.例文帳に追加

自然劣化を伴う薬液成分を有する処理液に基板を浸漬して処理するにあたって、処理液の使用量を削減するとともに、基板処理時において処理液中に十分な量の所定の薬液成分を含有させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

While the substrate G is held by a holding plate 41 and not moved substantially, the coating treatment of the development solution for the substrate G, the cut-off treatment of development solution by slanting the substrate G, the rinse treatment of the rinsing solution for the substrate G, and the drying treatment of the substrate G are carried out.例文帳に追加

基板Ｇに対する現像液の塗布処理、基板Ｇを傾斜させる現像液の液切り処理、基板Ｇのリンス液によるリンス処理、基板Ｇの乾燥処理を、基板Ｇが保持プレート４１に保持された実質的に移動しない状態で行う。 - 特許庁

To provide a substrate processor capable of effectively preventing a processing solution from being entrained to the other surface of the substrate and surely controlling the entrainment of the processing solution when supplying the processing solution to one surface of the substrate while rotating the substrate to process the substrate.例文帳に追加

基板を回転させながら基板の一方面に処理液を供給して処理を行う場合に、基板の他方面への処理液ミストの巻き込みを効果的に防止でき、処理液の回り込みを確実に制御できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

An organic semiconductor solution L1 and a polymer solution L2 are individually supplied to the surface of a substrate 1 to form a mixed solution layer 5a of the organic semiconductor solution L1 and the polymer solution L2.例文帳に追加

有機半導体溶液Ｌ１とポリマー溶液Ｌ２とを基板１上に個別に供給することにより、有機半導体溶液Ｌ１とポリマー溶液Ｌ２との混合液層５ａを形成する。 - 特許庁

To provide a substrate treating method and a substrate treating apparatus which can obtain a treatment solution with high activity and applying proper treatment, based on the treating solution to a substrate.例文帳に追加

活性度の高い処理液を得ることができ、その処理液による良好な処理を基板に施すことができる、基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In the glass substrate 6 of the active matrix substrate 2, an etching speed by etching solution is lower than that of a glass substrate 7 of the facing substrate 3.例文帳に追加

そして、アクティブマトリクス基板２のガラス基板６は、エッチング溶液によりエッチングされる速度が対向基板３のガラス基板７よりも小さい。 - 特許庁

A coating solution 5a supplied to one surface of a substrate 1 through a solution-repelling part 2a is allowed to escape outside through the solution-repelling part 2a so as to reduce accumulation of the coating solution 5a in regions close to the edge of the substrate 20a.例文帳に追加

撥液部２ａを介して基板１の一方の面に供給された塗布液５ａを撥液部２ａを介してその外側に逃し、基板２０ａの縁に近い領域に塗布液５ａが溜まることを低減する。 - 特許庁

The nozzle bodies 36b to 38b atomize drug solution to a glass substrate 11.例文帳に追加

ノズル本体３６ｂ〜３８ｂは、ガラス基板１１に薬液を噴射する。 - 特許庁

The SOI substrate is immersed in a hydrofluoric acid solution in a step ST13.例文帳に追加

ステップＳＴ１３において、ＳＯＩ基板をフッ酸溶液に浸漬する。 - 特許庁

ALKALINE AQUEOUS SOLUTION COMPOSITION USED TO WASH OR ETCH SUBSTRATE例文帳に追加

基板の洗浄またはエッチングに用いられるアルカリ性水溶液組成物 - 特許庁

CMP POLISHING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR METAL FILM, AND POLISHING METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加

半導体金属膜用ＣＭＰ研磨液および基体の研磨方法 - 特許庁

DROPLET JETTING MANUFACTURING DEVICE, SOLUTION THEREFOR, AND SUBSTRATE TO BE MANUFACTURED例文帳に追加

液滴噴射製造装置及びその溶液ならびに製作される基板 - 特許庁

A glass substrate with little elution of the alkali is obtained by immersing the glass substrate in a aqueous solution of 100-250°C or a boiling aqueous solution.例文帳に追加

ガラス基板を、１００℃〜２５０℃の水溶液または沸騰する水溶液に浸漬させることによって、アルカリ溶出の少ないガラス基板を得る。 - 特許庁

The semiconductor device substrate is cleaned without using a fluorine-containing solution.例文帳に追加

フッ素含有溶液を用いずに半導体デバイス基板を清浄する。 - 特許庁

The titanium oxide substrate 3a is immersed in a titanium oxysulfate aqueous solution.例文帳に追加

この酸化チタン基層３ａをオキシ硫酸チタン水溶液に浸漬させる。 - 特許庁

OZONE SOLUTION TREATMENT METHOD OF RESIN SUBSTRATE, AND WIRING BOARD MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

樹脂基板のオゾン溶液処理方法と配線基板の製造方法 - 特許庁

Since the treating solution remains in the solution reservoir section 16, the substrate treatment can be performed continuously by using the remaining amount of the solution.例文帳に追加

このとき、液溜まり部１６には処理液が残っているので、この処理液の残量によって基板処理を連続して行うことができる。 - 特許庁

In the solution application step, a solution containing an element constituting a superconductor is applied to a surface of a tape-like substrate to form a solution film.例文帳に追加

溶液塗布工程では、テープ状基材の表面に、超電導体を構成する元素を含む溶液を塗布し、溶液膜を形成する。 - 特許庁