「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The organic semiconductor solution L1 and the polymer solution L2 are supplied to the surface of the substrate 1 by a printing method such as an ink-jet method.例文帳に追加

有機半導体溶液Ｌ１およびポリマー溶液Ｌ２は、インクジェット法のような印刷法によって基板１上に供給する。 - 特許庁

Thereafter, the molded substrate 101 is extracted from the detecting solution 122 after the process to analyze the elements dissolved into the detecting solution 122.例文帳に追加

この後、処理後の検出溶液１２２よりモールド基板１０１を取り出し、検出溶液１２２に溶解している成分を分析する。 - 特許庁

Using the edge rinse apparatus including a substrate chuck 102 for sucking a substrate 101, a motor 103 for rotating the substrate chuck, a nozzle for discharging a developing solution onto the surface of the substrate, a nozzle 107 for discharging a developing solution onto the backside of the substrate, and an exposure means 108 for masking the substrate chuck, the resist coated on unnecessary parts is exposed to light and developed.例文帳に追加

基板を吸着する基板チャックと、前記基板チャックを回転させるモーターと、基板の表面に現像液を吐出するノズルと、基板の裏面に現像液を吐出するノズルと、前記基板チャックをマスクとする露光手段とを有するエッジリンス装置を用いて、不要部分に塗布されているレジストを露光し現像する。 - 特許庁

When making the drops 10 and 11 land in on adjacent places on the substrate 1, the drops 10 of the insulating solution are made to land on the substrate 1 before the drops 11 of the conductive solution are made to land on the substrate 1.例文帳に追加

この際、両液滴１０，１１を基材１上の隣接位置に着弾させる場合には、絶縁性溶液の液滴１０を導電性溶液の液滴１１よりも先に基材１上に着弾させる。 - 特許庁

The holes and ions contained in the electrolytic solution are combined on the contacting surface of the crystal substrate 15 with the electrolytic solution 12 to etch the surface of the substrate 15, so that an irregular structure is formed on the surface of the crystal substrate 15.例文帳に追加

結晶基板１５の電解液との接触面において該ホールと電解液中のイオンとが結合することによるエッチングを進行させ、結晶基板表面に少なくとも１つの凹凸構造を形成する。 - 特許庁

This method for producing a paper substrate for wet type friction materials comprises producing a ring plate-like paper substrate 4 by feeding a substrate raw material solution containing a fiber component and making the raw material solution into paper.例文帳に追加

繊維成分を含む基材原料液２をリング状の抄紙部１３に供給して抄紙することによりリング板状の紙質基材４を製造する湿式摩擦材用紙質基材の製造方法である。 - 特許庁

An acid solution is supplied continuously on the center of the surface of the substrate W while the substrate W is being rotated, and then an oxidizing reagent solution is supplied continuously or intermittently on the circumference of the substrate W.例文帳に追加

基板Ｗを回転させながら該基板Ｗの表面側中央部に酸溶液を連続的に供給しつつ、基板Ｗの周縁部に酸化剤溶液を連続的または間欠的に供給する。 - 特許庁

The pretreatment method comprises the step to make a caustic alkali solution and a hydrochloric and solution act upon a calcium fluoride substrate sequentially after irradiating the surface of the substrate with a beam and the step to form an adhesive layer on the substrate.例文帳に追加

弗化カルシウム基板上にビームを照射した後、苛性アルカリ溶液、塩酸溶液を順次作用させるステップと、前記基板上に接着層を形成するステップとを有する前処理方法を提供する。 - 特許庁

The washing device 200 comprises a substrate 103, washing brushes 104 attached on the front face of the substrate and having rotation shafts parallel with the face of the substrate, grips 102 attached on a rear face of the substrate, a cover 105 provided around the substrate on the front side of the substrate, and a washing solution supply mechanism 120 supplying the washing solution to the front face of the substrate.例文帳に追加

洗浄装置（２００）は、基板（１０３）と、基板の表側に取り付けられ、基板の面と平行な回転軸を有する洗浄ブラシ（１０４）と、基板の裏側に取り付けられた把持部（１０２）と、基板の表側において、基板の周囲に設けられたカバー（１０５）と、基板の表側に洗浄液を供給する洗浄液供給機構（１２０）と、からなる。 - 特許庁

To suppress an increase in manufacturing steps, to suppress the deformation of a plastic substrate and separation of the plastic substrate from a support substrate in a manufacturing step and to suppress the intrusion of a processing solution into a gap between the plastic substrate and the support substrate.例文帳に追加

製造工程の増加を抑制して、製造工程において、プラスチック基板の変形及び支持基板からの剥離を抑制すると共に、プラスチック基板と支持基板との間への処理液の侵入を抑制する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the metal carrier by making the substrate carry the metal nanocolloid particle using the metal nanocolloid solution, a conductive substrate is used as a substrate, the colloidal solution substantially containing no protective colloid forming agent is used as the metal nanocolloid solution, and the metal nanocolloid particle is carried on the substrate via an electro-deposition process.例文帳に追加

金属ナノコロイド液を用い、基体に金属ナノコロイド粒子を担持させて金属担持体を製造する方法において、基体として導電性基体を、金属ナノコロイド液として保護コロイド形成剤を実質上含まないコロイド液を使用し、電着法により、前記基体に金属ナノコロイド粒子を担持させる方法である。 - 特許庁

The liquid phase-growing method comprises immersing a seeding substrate 11 into a solution dissolving a crystalline raw material in a crucible vessel 2 and growing a crystal on the substrate 11, wherein a lid member 3 is floated on the solution surface before immersing the substrate 11, whereas the lid member 3 is precipitated in the solution when immersing the substrate 11.例文帳に追加

結晶原料を溶かし込んだ坩堝２内の溶液に種子基板１１を浸漬し、その基板１１上に結晶を成長させる液相成長方法であって、基板１１の浸漬前には溶液面に蓋部材３を浮在させおき、基板１１の浸漬時に蓋部材３を溶液中に沈降させる。 - 特許庁

The semiconductor manufacturing method includes processes of subjecting a solution that contains organic metals and thiourea to an ultrasonic treatment, applying the solution subjected to the ultrasonic treatment on a substrate by a spray, and heating the substrate on which the solution has been applied.例文帳に追加

半導体の作製方法は、有機金属、チオ尿素を含有する溶液を超音波処理し、当該超音波処理された溶液を基板上へスプレー塗布し、当該溶液が塗布された基板を加熱することを特徴とする。 - 特許庁

The method of forming the thin film by applying the polymer solution on the substrate by the spin coat method gives the polymer solution shearing immediately before supplying the polymer solution to the substrate.例文帳に追加

本発明の薄膜の形成方法は、スピンコート法により基板上にポリマー溶液を適用して薄膜を形成する方法において、基板にポリマー溶液を供給する直前に該ポリマー溶液にせん断を付与することを特徴とする。 - 特許庁

A substrate 20 is immersed in and pulled out of a solution prepared by adding an organic compound such as a chelating agent or a polymer to a transparent conductive oxide so as to increase the viscosity of the solution or the solution is applied to the substrate 20.例文帳に追加

透明導電性酸化物に溶液の粘性を高めるためにキレート剤あるいは高分子などの有機化合物を添加した溶液に、基板２０を浸漬し引き上げを行うか、又は、溶液を基板２０上に塗布する。 - 特許庁

The drier 8 is used in a manufacturing process of the substrate to remove and dry the cleaning solution C adhered to the substrate material A.例文帳に追加

この乾燥装置８は、基板の製造工程で使用され、基板材Ａに付着した洗浄液Ｃを除去乾燥する。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus, there are provided a conveyance robot 21, a conveyance unit and an application unit 10 for applying a medicinal solution on the substrate.例文帳に追加

基板処理装置において、搬送ユニットである搬送ロボット２１と、基板に薬液を塗布する塗布ユニット１０とを設ける。 - 特許庁

A printed substrate 100, which is formed by printing a pattern on a non-conductive substrate using a metal-compound solution, is prepared beforehand.例文帳に追加

金属化合物溶液を用いて非導電性の基材にパターン印刷して生成した印刷物１００を予め準備する。 - 特許庁

Then, the alkalne solution is introduced to the other face of the substrate exposed by the etching mask, and the substrate is etched, and the membrane layer is exposed.例文帳に追加

蝕刻マスクによって露出される基板の他面にアルカリ性溶液を導入し基板を蝕刻してメンブレイン層を露出する。 - 特許庁

To provide substrate drying equipment in which solution applied to the upper surface of a substrate can be heated and dried uniformly.例文帳に追加

この発明は、基板の上面に塗付された溶液を均一に加熱乾燥できる基板乾燥装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a method, where a processing solution is uniformly applied to all the surface of a substrate.例文帳に追加

基板の全面に処理液を均一に供給することができる基板処置装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The main surface of the substrate 10 is set to the vertical direction, and the substrate 10 is pulled up from the dipped solution 12 at a rate of 5 to 50 mm/sec.例文帳に追加

浸漬した液１２から基板１０をその主面を鉛直方向にして５〜５０ｍｍ／秒の速度で引上げる。 - 特許庁

To suppress corrosion of a surface of an anodic oxidation substrate due to an alkaline solution in the anodic oxidation substrate for a photoelectric conversion element.例文帳に追加

光電変換素子用の陽極酸化基板において、アルカリ溶液による陽極酸化基板の裏面の腐食を抑制する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method prolonging the life of a drug solution of which the performance is deteriorated owing to moisture absorption.例文帳に追加

吸湿により性能が劣化する薬液を長寿命化させる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

After this, the SC1 solution is supplied toward the substrate surface Wf to remove the frozen film 13 from the substrate surface Wf.例文帳に追加

その後、基板表面Ｗｆに向けてＳＣ１溶液を供給して基板表面Ｗｆから凍結膜１３を除去する。 - 特許庁

The strip solution 102 containing particle removed from the semiconductor substrate 104 is removed from the semiconductor substrate 104.例文帳に追加

半導体基板１０４から除去された粒子を含有するストリップ溶液１０２が半導体基板１０４から除去される。 - 特許庁

The substrate treating device comprises a plurality of supply pipes 63a, 63b, 63c, and 63d for supplying a treatment solution to a substrate W, which is dipped into a treatment solution stored in a processing chamber 61.例文帳に追加

本発明の基板処理装置は、処理槽６１内に貯留された処理液に浸漬された基板Ｗに対して、処理液を供給する複数の供給管６３ａ，６３ｂ，６３ｃ，６３ｄを有している。 - 特許庁

The processing solution nozzle 3 is retained at a position so that the arriving point 20 of the processing solution 2 on the surface of the substrate W is apart from the rotating center 21 of the substrate W by a predetermined distance 22.例文帳に追加

処理液ノズル３を、基板Ｗの表面における処理液２の着液点２０を、基板Ｗの回転中心２１から所定距離２２離隔した位置に保持する。 - 特許庁

To provide a substrate processor, capable of suppressing or preventing the dropping of a processing solution from a processing solution ejection part over a long time and thereby improving the quality of substrate processing.例文帳に追加

処理液吐出部からの処理液の長時間に渡るぼた落ちを抑制または防止することができ、これにより基板処理の品質を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of chambers 1 to 7 include chemical solution processing chambers 2, 3 for conducting solution processes to the substrate and water cleaning chambers 5, 6 for conducting water cleaning of the substrate after the processes by the chemical solutions.例文帳に追加

複数の室１〜７には、基板に対して薬液処理を行なうための薬液処理室２，３と、薬液処理よりも後で基板の水洗を行なうための水洗室５，６とが含まれる。 - 特許庁

To provide a non-cyanide electroless gold-plating solution which is excellent in solution stability, and can perform a plating without impairing a substrate even when the substrate is composed of an Ni-P plated metal layer of phosphate medium in concentration.例文帳に追加

液安定性に優れ、また中リン濃度のNi-Pめっき金属層からなる下地であっても該下地を荒らすことなくめっきが行える非シアン無電解金めっき液を提供する。 - 特許庁

To provide a solution applicator for applying a solution to a coating scheduled area on a substrate with an inkjet type method, which enhances the use efficiency of a solution.例文帳に追加

基板上の塗布予定領域に溶液をインクジェット方式によって塗布する溶液塗布装置において、溶液の使用効率を向上させることのできる溶液塗布装置を提供すること。 - 特許庁

The solution applying apparatus is provided with a dipping vessel 1 for dipping a substrate S in the solution, a storage vessel 2 for storing the solution, a solution supply means 3 for supplying the solution from the dipping vessel 1 to the storage vessel 2 and a solution transporting means 4 for transporting the solution from the dipping vessel to the storage vessel.例文帳に追加

溶液塗布装置は、基板Ｓを溶液に浸漬させるための浸漬槽１と、前記溶液を貯留するための貯留槽２と、前記貯留槽から前記浸漬槽に溶液を供給するための溶液供給手段３と、前記浸漬槽から前記貯留槽に溶液を移送するための溶液移送手段４と、を備えていることを特徴とする。 - 特許庁

After a portion not to be coated with the phosphor solution 10 of a substrate 1 is covered with a cover sheet 20, while a nozzle head 4 and the substrate 1 are relatively moved, the phosphor solution 10 always continuously discharged from each nozzle is applied to each recess, and the phosphor solution 10 is applied to all recesses of the substrate 1.例文帳に追加

基板１における蛍光体液１０の非塗布箇所をカバーシート２０で覆ったのちに、ノズルヘッド４と基板１とを相対移動させながら各ノズルから常時連続的に吐出する蛍光体液１０を各凹部内に塗布して、基板１の全ての凹部内に蛍光体液１０を塗布する。 - 特許庁

The solar battery is manufactured by dipping a polycrystalline silicon substrate into a solution 24 containing silicon and forming a pn-junction in a silicon film by growing the silicon film on a substrate 28 while decreasing the temperature lowering rate of the solution with time during dipping of the substrate in the solution.例文帳に追加

シリコンを含む溶液２４に多結晶シリコン基板２８を浸漬し、基板が溶液に浸漬している間の該溶液の降温速度を時間とともに小さくしてシリコン膜を基板２８上に成長させ、このシリコン膜にｐｎ接合を形成して太陽電池を製造する。 - 特許庁

This surface treatment method is a surface treatment method for a calcium fluoride substrate having a reformed surface which has a step of acting a caustic alkali solution on this substrate and a step of acting a hydrochloric acid solution on the substrate on which the caustic alkali solution is acted.例文帳に追加

表面が改質された弗化カルシウム基板の表面処理方法であって、前記基板に苛性アルカリ溶液を作用させるステップと、前記苛性アルカリ溶液が作用された前記基板に塩酸溶液を作用させるステップとを有する表面処理方法を提供する。 - 特許庁

Rinse solution feeding nozzles 41a to 41g are disposed in parallel while being separated of almost equal intervals along a treatment solution feeding direction (scanning direction A) from one edge side SE to the other edge side EE of the substrate W at the time of supplying a rinse solution on the substrate W held by a substrate holding part.例文帳に追加

リンス液供給ノズル４１ａ〜４１ｇは、基板保持部により保持された基板Ｗ上へのリンス液供給時には、その基板Ｗの一端側ＳＥから他端側ＥＥに向けた処理液供給方向（走査方向Ａ）に沿って、ほぼ等間隔に離間して並列配置される。 - 特許庁

A solution catch plate where through-holes through which a developing solution flows to the backside are bored is provided so as to be flush with a substrate as separating from the front end of the substrate by a small gap, and a feed nozzle is moved to apply a developing solution on the surface of the substrate.例文帳に追加

現像液をその裏面側に通過させる通流孔が設けられた液受け板を、その表面が基板表面を同じ高さ位置にて基板の前端側に僅かな隙間をもって設けられる構成とし、供給ノズルを移動させながら現像液を塗布する。 - 特許庁

The edible film for taste modification is produced by mixing an aqueous solution of a mixture containing a water-soluble polymer with a material containing a taste modifying substance to give a mixed solution, coating a film substrate with the mixed solution, drying the film substrate and peeling an edible film for taste modification from the film substrate.例文帳に追加

このような味覚修飾用可食性フィルムは、水溶性高分子を含む混合物水溶液に、味覚修飾物質含有物を加え混合したものを、フィルム支持体上に塗布し、乾燥させた後、フィルム支持体から味覚修飾用可食性フィルムを剥離させて製造する。 - 特許庁

This substrate developing and processing device is provided with a separating plate 14 which prevents a developer 1 piled up on a substrate W from being pushed forward by a rinsing solution 2, when the solution 2 is discharged onto the substrate W from the slit-like discharge opening of a rinsing solution discharge nozzle 12 and flows forward in the moving direction of the nozzle 12.例文帳に追加

リンス液吐出ノズル１２のスリット状吐出口から基板Ｗ上へ吐出されたリンス液２がリンス液吐出ノズルの移動方向における前方へ流れリンス液によって基板上の現像液１が前方側へ押し流されないようにする仕切り板１４を備えた。 - 特許庁

The used exhaust gas denitration catalyst, wherein a denitration catalyst component is supported on an iron-containing metal substrate, is impregnated with a mixed solution (a) of an oxotungstate solution and vanadyl sulfate or a mixed solution (b) of the oxotungstate solution and a solution prepared by neutralizing the vanadyl sulfate solution by an ammonia compound before dried.例文帳に追加

鉄を含む金属製基板に脱硝触媒成分を担持した使用済みの排ガス脱硝触媒を、（ａ）タングステンのオキソ酸塩溶液と硫酸バナジルとの混合溶液、又は（ｂ）タングステンのオキソ酸塩溶液と硫酸バナジル溶液をアンモニア化合物で中和した溶液との混合溶液に含浸後、乾燥する。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate equipped with the anti- reflection layer provides the substrate (a), deposits amorphous silicon on the substrate (b), and etches the amorphous silicon layer and the substrate with an etching solution, and removes the amorphous silicon layer with the etching solution (c).例文帳に追加

本発明のアンチリフレクション層を具える基板の製造方法は、(a) 基板を提供し、(b) 基板上にアモルファスシリコンを堆積させ、(c) エッチング液でアモルファスシリコン層及び基板をエッチングし、且つアモルファスシリコン層をエッチング液により除去することを特徴とする。 - 特許庁

As a method for contact with the peeling solution, the substrate 4 with the multilayer reflection film which is inserted into a holder 3 is dipped into the peeling solution 2 in a processing tank 1.例文帳に追加

剥離液との接触方法は、処理槽１内の剥離液２に、ホルダー３に挿入した多層反射膜付き基板４を浸漬させる。 - 特許庁

Incidentally, the supplement operation of the hydrogen peroxide solution has only to be rendered at a period of time from immediately prior to the substrate is led into the processing solution until immediately after it.例文帳に追加

なお、過酸化水素水の補充動作は、基板を処理液に導入する直前から直後までの時間において行えばよい。 - 特許庁

A polyimide solution having 3.5 to 20 Pa s viscosity range is applied on a substrate, and the coating solution is fixed, for example, by drying.例文帳に追加

粘度が３．５〜２０Ｐａ・ｓの範囲であるポリイミド溶液を基材に塗工し、前記塗工液を、例えば、乾燥処理を施して固定化する。 - 特許庁