「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

When the substrate S where a developing solution is supplied to the surface with the use of a developing solution supply nozzle 22 is carried to an inclination mechanism by a carriage rollers 21, 31, the developing solution is supplied from a developing solution replenishing nozzle 43 to the upper end of the substrate S where conversion into the inclination state is started by the inclination mechanism.例文帳に追加

現像液供給ノズル２２により表面に現像液が供給された基板Ｓが、搬送ローラ２１，３１によって傾斜機構まで搬送されてくると、傾斜機構による傾斜姿勢への変換が開始された基板Ｓの上端部に対して、現像液補充ノズル４３から現像液を供給する。 - 特許庁

And after a cleaning step with use of the HF aqueous solution and before the surface of the substrate is contaminated by the air, a cleaning solution of hydrophilization is supplied onto the surface of the substrate to form an oxide film on the substrate surface.例文帳に追加

そして、ＨＦ水溶液による洗浄工程の後に、空気によって半導体基板の表面が汚染される前に、半導体基板の表面に親水化用洗浄液を供給して半導体基板の表面に酸化膜を生成する。 - 特許庁

A substrate for functional element is manufactured by injecting a liquid drop of a solution containing a functional material on the substrate from an injection head 11, and by volatilizing the volatile component in the solution and making remain the solid component on the substrate 14.例文帳に追加

噴射ヘッド１１より、基板１４上に機能性材料を含有する溶液の液滴を噴射付与し、該溶液中の揮発成分を揮発させ、固形分を基板１４上に残留させることによって機能性素子基板を製造する。 - 特許庁

In this case, the developing solution is moved down by the thickness of the liquid receiving plate and transferred onto the surface of the substrate, so that the developing solution supplied onto the substrate is restrained from flowing, exuding outside from the substrate, and wasting uselessly.例文帳に追加

この場合、現像液は液受け板の高さ分だけ動いて基板の表面に乗せられていくので、基板に供給された現像液に液流れが発生するのが抑えられ、外にはみ出して捨てられる無駄な現像液を少なくすることができる。 - 特許庁

A silicon substrate 200 with an injection secondary defect 201 is immersed in a nitric acid solution to form an oxide film 202 in the surface of the silicon substrate 200.例文帳に追加

注入二次欠陥２０１を有するシリコン基板２００を硝酸液に浸けてシリコン基板２００表面に酸化膜２０２を形成する。 - 特許庁

To prevent a splashing of a chemical solution to a face of one side of a substrate when a film to be processed on a face of another side of the substrate is etched for peeling.例文帳に追加

基板の一方の面の被加工膜をエッチングして剥離するときに、薬液が基板の他方の面に飛散することを防止する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method which can drastically improve a reaction rate of a substrate surface treatment by a treated solution, and its apparatus.例文帳に追加

処理液による基板表面処理の反応速度を格段に向上させることができる基板処理方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method of a substrate which inhibits a damage caused by a local electrification to a region where a chemical solution is discharged on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面の薬液が吐出される領域への局所的な帯電によるダメージを抑制する基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solution processing apparatus which can deal with a larger substrate than a conventional one and suppress contamination of the substrate.例文帳に追加

従来の基板よりも大型の基板を取り扱うことが可能であり、その際に基板の汚染を抑制した液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate-processing device and a method, where a substrate can be stably processed and restrained of a processing solution from varying in concentration.例文帳に追加

処理液の濃度変動を抑えて基板処理を安定して行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Supersaturated silicon is deposited on the surface of the substrate 1 by cooling the aqueous solution, and a silicon film 4 is formed on the surface of the substrate 1.例文帳に追加

融液を冷却することで、過飽和となったシリコンを基板１の表面に析出させ、基板１の表面にシリコン膜４を形成する。 - 特許庁

The substrate treatment apparatus performs washing treatment by supplying pure water L from the treatment solution supply nozzle 370 that is arranged over the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗの上方に配設された処理液供給ノズル３７０から純水Ｌを供給して洗浄処理を行う。 - 特許庁

After a metal film 15 is deposited on the surface of the semiconductor substrate, a drug solution is discharged from the rear surface of the semiconductor substrate to etch all the sacrifice film.例文帳に追加

半導体基板の表面に金属膜１５を成膜した後、半導体基板の裏面から薬液を吐出し、犠牲膜を全てエッチングする。 - 特許庁

After the resist discharge nozzle 1 is removed by rotating the substrate 4 at a high speed, the resist solution 14 is spread over the whole surface of the substrate 4.例文帳に追加

レジスト吐出ノズル１を移動させた後、基板４を高速回転させることにより、レジスト溶液１４を基板４全面に広げる。 - 特許庁

To easily and appropriately perform control of the substrate concentration of a substrate solution supplied for recovering the activity of microorganism within a biosensor.例文帳に追加

バイオセンサ内の微生物の活性を回復させるために供給する基質溶液の基質濃度の制御を容易且つ適切に行うこと。 - 特許庁

The crystalline substrate 1 having ion implantation is dipped into an aqueous solution containing silicon and indium and the substrate 1 is heated to form voids 15.例文帳に追加

イオン注入された結晶基板１をシリコン及びインジウムを含む融液の中に浸し、基板１を加熱することでボイド１５を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of supplying a sulfic acid/hydrogen peroxide mixture solution having a liquid temperature suitable for peeling of a resist to a substrate.例文帳に追加

レジストの剥離に適した液温の硫酸過酸化水素水を基板に供給することができる、基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment which can enhance drying efficiency of a substrate by lowering the temperature of processing solution through decompression.例文帳に追加

減圧して処理液の温度を低下させることにより、基板の乾燥効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

While immersing a silicon substrate 1 to be processed in an oxidizing solution 3 in a processing bath 2, the silicon substrate 1 is connected to a power supply 4.例文帳に追加

被処理用のシリコン基板１を、処理槽２内の酸化性溶液３に浸漬した状態で、シリコン基板１に電源４を接続する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE, PRECURSOR SOLUTION USED FOR THIS, AND ITS HANDLING METHOD例文帳に追加

透明導電性基板の製造方法、これに用いる前駆体溶液およびその取り扱い方法 - 特許庁

To provide a film deposition device which can supply a material solution to a substrate, while vaporizing it completely.例文帳に追加

材料溶液を完全に気化し、基板に安定供給することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

The methods and compositions used to form an image on a substrate with a colorant solution are provided.例文帳に追加

着色剤溶液を用いて基材上に画像を形成するための方法及び組成物を開示する。 - 特許庁

ABRASIVE POWDER, POLISHING METHOD OF SUBSTRATE EMPLOYING THE SAME AS WELL AS SOLUTION AND SLURRY EMPLOYED FOR THE POLISHING METHOD例文帳に追加

研磨剤、これを用いた基板の研磨方法並びにこの研磨方法に用いる溶液及びスラリー - 特許庁

TREATMENT SOLUTION SUPPLY NOZZLE, SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS EQUIPPED THEREWITH AND COATING USING THIS NOZZLE例文帳に追加

処理液供給用ノズルおよび該ノズルを備えた基板処理装置、ならびに該ノズルを用いた塗布方法 - 特許庁

Moving in a second direction Y, a slit nozzle 224 discharges a developing solution on the substrate 100.例文帳に追加

スリットノズル２２４は第２の方向Ｙに移動するとともに基板１００上に現像液を吐出する。 - 特許庁

To provide a film deposition device which can supply a material solution to a substrate stably, while vaporizing it completely.例文帳に追加

材料溶液を完全に気化し、基板に安定供給することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

The glass substrate consists of crystallized glass containing a β-quartz solid solution or β-spodumene as a principal crystal.例文帳に追加

ガラス基材は、β−石英固溶体又はβ−スポジューメンを主結晶とする結晶化ガラスよりなる。 - 特許庁

To provide a film forming apparatus that completely vaporizes and stably supplies a material solution to a substrate.例文帳に追加

材料溶液を完全に気化し、基板に安定供給することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

A fifth step S5 etches the FIB irradiation surface of the processing object substrate by being soaked in a KOH aqueous solution.例文帳に追加

第５ステップＳ５では、ＫＯＨ水溶液に浸漬して被加工基板のＦＩＢ照射面をエッチングする。 - 特許庁

Therefore, the counter electrode can allow the local delivery of the plating solution onto the substrate.例文帳に追加

したがって可変直径の対電極によって、基板へのメッキ溶液の局所的な送出が可能になる。 - 特許庁

The heater 110 holds and heats a glass substrate 1, which is an object to be coated with an organic solution 2.例文帳に追加

ヒータ１１０は、有機溶液２の塗布対象であるガラス基板１を保持して、所定温度に加熱する。 - 特許庁

The substrate 1 is heated to form the voids 15 while an ion implantation surface is pressurized by the aqueous solution.例文帳に追加

融液で、基板１のイオン注入面を加圧しながら、基板１を加熱して、ボイド１５を形成する。 - 特許庁

The first processing part 12 performs paddle processing in a chemical solution while carrying the substrate S in a horizontal posture.例文帳に追加

第１処理部１２は、基板Ｓを水平姿勢で搬送しながら薬液によるパドル処理を実施する。 - 特許庁

In doing so, hydrochloric acid and hydrogen peroxide solution are discharged onto a backside of a semiconductor substrate, respectively, for a predetermined time.例文帳に追加

このとき、半導体基板の裏面に、塩酸と過酸化水素水とをそれぞれ所定時間吐出させる。 - 特許庁

Since a strong alkaline solution is not used, there is no fear that a substrate and a piezoelectric thin film layer are eroded.例文帳に追加

強いアルカリ性溶液を用いないので、基板や圧電体薄膜層が侵食されるおそれがない。 - 特許庁

In step 4, the substrate G_i is moved from the first developer supply part to a solution drain-off/rinse part at a middle speed.例文帳に追加

ステップ▲４▼で、基板Ｇ_ｉは第１現像液供給部から液切り／リンス部まで中速で移動する。 - 特許庁

An opening 35 of a through-hole 32a, which passes through the substrate 32, is provided near the solution guide.例文帳に追加

溶液ガイド近傍には、インクガイド基板３２を貫通する貫通孔３２ａの開口３５とを備えている。 - 特許庁

A substrate 105 which is coupled with an elevation apparatus 104 is held and dipped in the dispersion solution 102.例文帳に追加

上昇装置１０４に連結した基板１０５が保持され、分散液１０２中に浸漬している。 - 特許庁

The pattern layer 102 of a separated mold substrate 101 is soaked into a detecting solution 121.例文帳に追加

離型したモールド基板１０１のパターン層１０２が、検出溶液１２１に浸漬された状態とする。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for cleaning a substrate capable of reducing the consumption of a chemical solution and pure water.例文帳に追加

薬液及び純水の消費量を削減できる基板洗浄装置及び基板洗浄方法 - 特許庁

STRIPPING SOLUTION COMPOSITION FOR PHOTORESIST USED FOR COPPER CIRCUIT FORMING SUBSTRATE AND RESIST STRIPPING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

銅配線形成基板に用いるホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたレジスト剥離方法 - 特許庁

As a result, organic EL solution can be applied on the applying region 91 of the substrate 9 in high precision.例文帳に追加

その結果、基板９の塗布領域９１に有機ＥＬ液を高精度に塗布することができる。 - 特許庁

In a method of making an organic electroluminescent device, a transfer layer is solution coated on a donor substrate.例文帳に追加

有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法において、転写層がドナー基材上に溶液塗布される。 - 特許庁

A cleaning liquid composition for a semiconductor substrate is manufactured by adding an anti-corrosion agent to an acid solution.例文帳に追加

半導体基板用洗浄液組成物は、酸性水溶液に腐食防止剤を添加して製造する。 - 特許庁

To develop sufficiently a luminescent reaction reagent solution to be supplied onto a substrate surface, and to prevent evaporation.例文帳に追加

基板表面へ供給する発光反応試薬溶液を十分に展開させ、かつ揮発を防止する。 - 特許庁