「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目)

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substrate solutionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2912件

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例文

The method is for cleaning a conveyed film-like substrate and comprises blowing the cleaning solution near the site at which the squeegee is being pressed on the film-like substrate while pressing the squeegee on the film-like substrate.例文帳に追加

また、搬送されてくるフイルム状基材を洗浄する方法において、スキージをフイルム上に押付けながら洗浄液をスキージ押付け部付近に吹き出すフイルム状基材の洗浄方法である。 - 特許庁

To make a functional element substrate absorb a solvent of droplets of a solution that contains a functional material and makes solid content remain on the above substrate when the above droplets are put on the substrate surface by injection.例文帳に追加

機能性素子基板は、基板表面に機能性材料を含有する溶液の液滴が噴射付与された時、該液滴の溶媒を吸収し、固形分を前記基板上に残留させる。 - 特許庁

The method comprises a step for providing a patterned substrate with selectively positioned recesses, and a step for applying a solution or suspension of the nanoparticles to the patterned substrate to form a wetted substrate.例文帳に追加

この方法は、パターニングした基板に選択的に位置付けたくぼみを設けるステップと、パターニングした基板にナノ粒子の溶液または懸濁液を塗布してぬれた基板を形成するステップと、を含む。 - 特許庁

More preferably, the substrate is rotated at the speed of approximately 100 or 1000 rpm, and the etching solution is fed to the periphery of the substrate substantially in the tangential direction and in the incident direction of 0° to 45° from he surface of the substrate.例文帳に追加

好ましくは、基板は約100rpm乃至約1000rpmで回転させ、エッチング液は基板の周縁部分に実質的に接線方向に、且つ基板の表面から約０°乃至約45°の入射角で送給する。 - 特許庁

例文

To provide a polishing solution composition for a sapphire substrate adapted to manufacture at a high polish rate, the sapphire substrate having excellent surface roughness of a surface to be polished, and to provide a polishing method of the sapphire substrate using the same.例文帳に追加

高い研磨速度で、被研磨面の表面粗度に優れたサファイア基板を作製することのできるサファイア基板用研磨液組成物、それを用いたサファイア基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

例文

The group of functional elements is formed by injecting droplets of a solution containing a functional material to adhere on the substrate 14 by an injection head, by volatilizing a volatile constituent in this solution, and by making solid contents remain on the above substrate 14.例文帳に追加

噴射ヘッドから基板１４上に機能性材料を含有する溶液の液滴を噴射付与し、該溶液中の揮発成分を揮発させ、固形分を基板１４上に残留させることによって機能性素子基板を製造する。 - 特許庁

Thus, an appropriate amount of the washing solution can be sprayed according to the size of the glass substrate G, an extent of contamination and a required degree of washing, to wash the glass substrate G with a minimum required amount of the washing solution.例文帳に追加

これにより、ガラス基板Ｇのサイズや汚れの程度、求められる洗浄の程度に応じて適切な流量で洗浄液を噴射することができ、必要最小限の洗浄液でガラス基板Ｇを洗浄することができる。 - 特許庁

The method comprises applying, to an ozone-treated substrate, a solution containing a monomer which serves as a raw material for an insoluble π-conjugated polymer stable in air, causing the solution to polymerize and removing the formed film from the substrate as a self-supporting film.例文帳に追加

オゾン処理を行なった基板上に、空気中で安定な不溶性のπ共役系高分子の原料となるモノマーを含む溶液を塗布して重合反応させ、形成された膜を自立膜として基板から剥離させる。 - 特許庁

While moving a liquid discharging means 2 and the substrate 1 relatively with each other, drops 10 of an insulating solution and drops 11 of the conductive solution are discharged from the liquid discharging means on the substrate 1 to form a circuit pattern.例文帳に追加

液体吐出手段２と基材１とを相対移動させつつ、液体吐出手段から絶縁性溶液の液滴１０と導電性溶液の液滴１１とを基材１上に吐出させて回路パターンを形成する。 - 特許庁

例文

The coating film 1 for optical compensation is formed by applying a solution or a melted product of a liquid crystalline polymer on a substrate 10 while aligning the solution or the melted product in a direction parallel to the surface of the substrate 10.例文帳に追加

本発明の光学補償用塗布膜１は、液晶性高分子の溶液または溶融物を基板１０上に当該基板１０の面に平行な方向に配向させながら塗布することで形成されるものである。 - 特許庁

例文

When the substrate is cleaned by using an ammonium fluoride aqueous solution or a mixed liquid of the ammonium fluoride aqueous solution with hydrofluoric acid as a cleaning liquid, the substrate cleaning time is changed according to the lapse of used time of the cleaning liquid.例文帳に追加

弗化アンモニウム水溶液や弗化アンモニウム水溶液と弗化水素酸との混合液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、洗浄液の使用時間の経過とともに基板の洗浄時間を変化させる。 - 特許庁

A discharge interval acquisition part 143 acquires discharge interval time from the time point the chemical solution 104 has been completely discharged in a just before substrate treatment to the time the discharge of the chemical solution 104 is started in the next substrate treatment.例文帳に追加

吐出間隔取得部１４３は、直前の基板処理において薬液１０４の吐出が完了した時点から、次基板処理において薬液１０４の吐出が開始される時点までの吐出間隔時間を取得する。 - 特許庁

The fixation of the natural pigment on the substrate powder can be achieved by bringing a solution of the pigment into contact with the substrate powder under agitation in a solution which does not dissolve the pigment to deposit the pigment on the surface of the powder and thereafter separating and drying the powder.例文帳に追加

基材粉体への色素の固着は色素溶液を色素を溶解しない溶液中で撹拌しながら基材粉体と接触させて粉体表面に色素を析出させ、その後、粉体を分離し乾燥することによる。 - 特許庁

A solution containing a substance to be immobilized is retained by a pin, the pin, where the area of a tip figure is at least 0.01 mm^2, is brought into contact with the substrate, and then the solution is spotted onto a metal substrate chip, thus manufacturing the array.例文帳に追加

固定化する物質を含む溶液をピンに保持させ、先端部図形の面積が０．０１ｍｍ２以上であるピンを基板に接触させることにより、金属基板チップ上に溶液をスポッティングすることでアレイを作製する。 - 特許庁

When the substrate 11 is dipped in the cleaning solution, a natural oxide film 12 formed on the surface of the substrate 11 is removed by the hydrofluoric acid and the fine particles 13 and metallic impurities 14 on the film 12 and the metallic impurities 14 in the film 12 migrate into the solution.例文帳に追加

汚染基板１１を洗浄液に浸漬するとフッ酸により基板表面の自然酸化膜１２が除かれ、膜上の微粒子１３、金属不純物１４及び膜中の金属不純物１４が液中に移行する（ｂ）。 - 特許庁

The method and device for producing the filter for removing leukocytes is characterized in that a filter substrate is nipped in a polymer solution and thereafter nipped in the air in the method for coating the filter substrate by dipping it in the polymer solution.例文帳に追加

フィルター基材をポリマー溶液に浸漬してコーティングする方法において、該ポリマー溶液中でニップした後、さらに空中でニップすることを特徴とする白血球除去フィルターの製造方法、およびそのための装置。 - 特許庁

The electroless plating method comprises treating the substrate with a pretreating solution containing fluorides of group IIa, IIb, IVa metals of periodic table, then treating the substrate with an electroless plating solution.例文帳に追加

本発明の上記課題は、基材を周期律表のＩＩa、ＩＩｂ、ＩＶa族金属のフッ化物を含有する前処理液で処理した後、無電解メッキ液で処理することを特徴とする無電解メッキ方法により達成された。 - 特許庁

Deionized water or methanol is used as a solvent, which is mixed with SCCO2 to make a processing solution, and the processing solution is brought into contact with a surface of a substrate W to form an oxide film on the substrate surface (step S13).例文帳に追加

純水やメタノールを溶剤とし、これをＳＣＣＯ2に混合させて処理流体を調製するとともに、該処理流体を基板Ｗの表面に接触させて基板表面に酸化膜ＯＦを形成する（ステップＳ１３）。 - 特許庁

Immediately after a semiconductor substrate 17 having surface polished with polishing liquid is taken out from a rotary surface plate 11, aqueous solution 22 containing oxidizing agent and having oxidation-reduction potential of 10 mV or above is sprayed to the surface of the substrate 17 or the substrate 17 is immersed into the aqueous solution 22.例文帳に追加

研磨液を用いて基板表面を研磨した半導体基板１７を回転定盤１１から取外した直後に酸化剤を含有し酸化還元電位が１０ｍＶ以上である水溶液２２を基板１７の表面に噴霧するか、又は水溶液２２に基板１７を浸漬する。 - 特許庁

The method comprises steps of forming complexes of the metal existing on a surface of the semiconductor substrate 12 and cyanide ions by bringing the surface of the substrate 12 into contact with a solution 11 comprising the cyanide ions, and removing the solution 11 from the surface of the substrate 12.例文帳に追加

半導体を含む基板１２の表面をシアン化物イオンを含む溶液１１に接触させることによって、基板１２の表面に存在する金属とシアン化物イオンとの錯体を形成する工程と、基板１２の表面から溶液１１を除去する工程とを含む。 - 特許庁

A semiconductor substrate 1 is equipped with an interlayer insulating film 2 where recesses (grooves) 3 are provided, a solution 5 containing Ru (ruthenium) elements as a solute is applied on the semiconductor substrate 1, and thereafter, the semiconductor substrate 1 where the solution 5 is applied is subjected to a drying process in a reducing atmosphere.例文帳に追加

凹部（溝）３が形成されている層間絶縁膜２を有する半導体基板１に対して、溶質となるＲｕ（ルテニウム）原子が含有されている溶液５を塗布し、その後、還元性環境下において、当該溶液５が塗布された半導体基板１の乾燥処理を施す。 - 特許庁

The substrate 5 is processed with the drug solution by supplying a drug solution 6 deteriorated in performance owing to moisture absorption onto the substrate 5 from a supply nozzle 3 penetrating the side wall of the processing container 2 while rotating the substrate 5 utilizing a rotating stage 7 after producing the flow of the dry air in the processing container 2.例文帳に追加

処理容器２に乾燥空気の流れを発生させた後、回転ステージ７により基板５を回転させながら、処理容器２側壁を貫通する供給ノズル３から基板５上に吸湿により性能が劣化する薬液６を供給することにより、基板５の薬液処理を行う。 - 特許庁

By dropping and spreading the coating solution 38 on the surface of the rotating glass substrate 12, the coating solution 38 that reaches and drops down the edge of the glass substrate 12 either drops down or is blown off by centrifugal force without going around to the rear side of the glass substrate 12.例文帳に追加

コーティング液３８は、回転しているガラス基板１２の表面上に垂らされて広げられることで、ガラス基板１２の外縁部に達して垂れようとするコーティング液３８は、ガラス基板１２の裏面側に回り込むことなく、遠心力で外方へ飛ばされるか、そのまま落下する。 - 特許庁

Then, the sensitizing solution is evaporated in the sensitizing solution storage tank 117, and the sensitizing solution is evaporated like fume in the low pressure vacuum chamber 104 so that the thickness uniformity of a sensitized film formed on the substrate 101 can be largely improved.例文帳に追加

感光液貯蔵タンク１１７で感光液を蒸発させ、低圧の真空チャンバ１０４で感光液をヒューム状で蒸着するために、基板１０１上に形成される感光膜の厚さ均一度を大きく向上させうる。 - 特許庁

The plating tank is made of tempered glass, and heating is carried out by indirect heating using water both, and simultaneously, plating solution is cooled/filtered using the circulation system for the plating solution to stabilize the plating solution in the tank and uniformly apply plating to the substrate.例文帳に追加

めっき槽を強化硝子製とし、ウオーターバスとして、加温を間接加温すると同時に、めっき液の循環系統でめっき液を冷却・濾過して槽内のめっき液を安定させ基板に均一にめっきを施す。 - 特許庁

The etching method using the etching solution includes just immersing the thin film of metallic silver or the silver alloy into the etching solution in a resting state in an etching step, and does not need such a streaming of a solution or a swinging of a substrate as to have been carried out in a conventional method.例文帳に追加

そして、このエッチャントを用いる際は、エッチング時に、静止状態のエッチング溶液に金属銀薄膜または銀合金薄膜を浸漬させるだけで足り、従来例のような溶液流動化や基板の揺動を要しない。 - 特許庁

In the transparent conductive substrate, a metal minute particle dispersed solution is applied to a substrate 2 and is dried up, a first conductive layer 3 is completely covered by a highly transparent adhesive layer 7 after forming a mesh-shaped first conductive layer 3 on the substrate 2, and the substrate 2 is exfoliated after pasting the substrate 2 and a transferred substrate 8 together.例文帳に追加

金属微粒子分散溶液を基材２上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層３を基材２上に形成させた後、第一導電性層３を透明性の高い接着層７で完全に覆い、前記基材２と被転写基板８とを貼り合せた後、基材２を剥離する。 - 特許庁

While moving the substrate 1 in which a cleaning solution 2 is supplied to the surface or to the back surface thereof, air is blown to the surface or to the back surface of the substrate 1 from the air knife 30 disposed over the width of the direction vertical to a substrate moving direction of the substrate 1 on the upper side or the lower side of the substrate 1.例文帳に追加

表面又は裏面に洗浄液２が供給された基板１を移動しながら、基板１の上方又は下方に基板１の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けたエアナイフ３０から、基板１の表面又は裏面へエアを吹き付ける。 - 特許庁

The method involves an immersion and impregnation step of immersing a substrate 1 made of non-heat resistant fibers in a fluororesin-containing solution and thereby impregnating the substrate with the fluororesin-containing solution and a firing step of improving the heat resistance by firing the substrate impregnated with the fluororesin-containing solution in the immersion and impregnation step to produce a fluororesin material keeping the three-dimensional shape of the substrate.例文帳に追加

非耐熱性繊維で構成される基材１をフッ素樹脂含有溶液中に浸漬して前記基材に前記フッ素樹脂含有溶液を含浸させる浸漬・含浸工程と、前記浸漬・含浸工程で前記フッ素樹脂含有溶液を含浸した前記基材を焼成して耐熱性を高める焼成工程と、を有し、前記基材の３次元形状を保持したフッ素樹脂材を製造することを特徴とする。 - 特許庁

In a method for embedding the metal film at a recessed part 11 provided on the surface of the substrate 10, the solution dispersed with the fine metal particles is sprayed toward the substrate 10 by the spray nozzle 12 moving relatively two-dimensionally to the substrate 10 from above the surface of the substrate 10, and the spraying of the solution on the substrate 10 is performed in a reduced-pressure atmosphere 13.例文帳に追加