「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a cleaning liquid containing ammonia-hydrogen peroxide solution for a semiconductor substrate which has a metal film on the surface.例文帳に追加

表面に金属膜を有する半導体基板のアンモニア−過酸化水素溶液による洗浄液を提供する。 - 特許庁

Preferably, the substrate treatment stage S3 is performed by atomizing metallic halide aqueous solution to the magnesium material.例文帳に追加

好ましくは、下地処理工程Ｓ３は、金属ハロゲン化物水溶液をマグネシウム材に対して噴霧することによって行う。 - 特許庁

A solution which can selectively remove silicon oxide and does not remove the sidewall spacer 16 is supplied to the surface of the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

シリコン酸化物を選択除去し、サイドウォールスペーサ16を除去しない溶液を半導体基板10上に供給する。 - 特許庁

The material for forming the pattern is a solution containing metallic particles and it is supplied to the substrate 10 in liquid state.例文帳に追加

パターンを形成する材料は、金属粒子を含む溶液であり、基材１０に対して液体状態で供給する。 - 特許庁

Furthermore, the defluorination treatment can be performed by only dipping the fluorine-contained resin substrate 2 in the solution, resulting in facilitating a job.例文帳に追加

また、脱フッ素処理はフッ素樹脂基板２を溶液に浸漬するだけで行うことができるので、作業が容易である。 - 特許庁

Processed substrate with the material to be oxidized formed is put into this ozone-sulfuric acid mixed solution to oxidize the material to be oxidized.例文帳に追加

オゾン・硫酸混合溶液中に被酸化物が形成された被処理基板を投入して、被酸化物を酸化させる。 - 特許庁

Then the photoresist film 12 is partially removed by bringing the piezoelectric substrate 10 into contact with a developing solution on a supporting base 13.例文帳に追加

次に、圧電基板１０を支持台１３上で現像液と接触させて、フォトレジスト膜１２の一部を除去する。 - 特許庁

A solution of the source material resin for the hydrogen separation film is cast onto a first glass substrate 1a to form a thin film 2a.例文帳に追加

水素分離膜の原料樹脂の溶液を一のガラス基板１ａ上に流延して薄膜２ａを形成する。 - 特許庁

To obtain a silicon substrate, having a smooth etched surface with a small undercut through anisotropic etching using an alkaline aqueous solution.例文帳に追加

アルカリ性水溶液を用いるシリコン基板の異方性エッチングにより、滑らかな、アンダーカットの小さいエッチング表面を得る。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of keeping etching characteristics of an aqueous phosphoric acid solution fixed for a long period of time.例文帳に追加

リン酸水溶液のエッチング特性を長時間一定に維持することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

After a passage of a specified time, the developing solution 16 is eliminated by a method for, e.g. rotating the glass substrate 10.例文帳に追加

そして、一定の時間経過した後、ガラス基板１０を回転させるなどの方法により、現像液１６を除去する。 - 特許庁

To provide a liquid treatment device with which the uniformity of film thickness of treatment solution can be improved and the contamination of a substrate can be prevented.例文帳に追加

処理液の膜厚均一性を向上させ，かつ基板の汚染を防止可能な液処理装置を提供する。 - 特許庁

The substrate is horizontally held at a substrate retention section freely movable in a Y direction (forward/backward direction), and a freely movable nozzle section is provided opposite to the substrate above this printed circuit board and in a range in a X direction (right/left direction) corresponding to the coating solution supply area of the substrate.例文帳に追加

基板をＹ方向（前後方向）に移動自在な基板保持部にて水平保持し、この基板上方に該基板と対向し、基板の塗布液供給領域と対応するＸ方向（左右方向）の範囲に移動自在なノズル部を設ける。 - 特許庁

A substrate 3 can be precisely etched while being carried in a floating manner by using the porous type substrate treatment apparatus which is placed on the bottom side of the substrate 3 and performs the etching with an etching solution ejecting film 22 of a porous body 21 abutted on the lower side of the substrate 3.例文帳に追加

基板３の下面側に配置し、基板３の下面に多孔質体２１のエッチング液吐出膜２２を当ててエッチングを行うポーラス方式の基板処理装置を用いて、基板３を浮上搬送させながら精密エッチングができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid jetting head which can surely prevent a wiring cable etc. formed in a second substrate such as a reservoir forming substrate from being broken with an etching solution that wet-etches a first substrate such as a channel forming substrate.例文帳に追加

リザーバ形成基板等の第２の基板に形成された配線等が流路形成基板等の第１の基板をウェットエッチングするエッチング液により破壊されるのを確実に防止することができる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of treating a glass substrate for display is for removing foreign matter in the fine dent parts of the end face part of the glass substrate by treating only the glass substrate end face part with a chemical solution after grinding the glass substrate face part cut.例文帳に追加

本発明のディスプレイ用ガラス基板の処理方法は、切断されたガラス基板端面部を研磨加工した後に、ガラス基板端面部のみを薬液処理することにより、該端面部の微小凹部内の異物を除去することを特徴とする。 - 特許庁

The stretchable nonwoven sheet is produced by treating a necked nonwoven substrate with an elastomeric polymer solution to substantially uniformly impregnate the necked nonwoven substrate with the elastomeric polymer.例文帳に追加

ネック付き不織機材を弾性ポリマー溶液での処理によって、ネック付き不織基材に弾性ポリマーをほぼ均一に含浸させることにより伸縮性不織シートを作製する。 - 特許庁

The polishing head HD presses the surface of the substrate SB against the polishing cloth CL supplied with the polishing solution SLp by applying pressure to the back surface side of the substrate SB.例文帳に追加

研磨ヘッドＨＤは、基板ＳＢの裏面側に圧力をかけることによって基板ＳＢの表面を研磨液ＳＬｐが供給された研磨布ＣＬに押付ける。 - 特許庁

To provide a rotation applying method applying uniformly an application solution over the entire region that forms an application film on a substrate irrespective of the surface state of the substrate.例文帳に追加

基体の表面状態に関係なく、基体の塗布膜を形成する領域全体にわたって塗布液をむら無く塗布することのできる回転塗布方法を提供する。 - 特許庁

As a result, the organic EL solution can be applied along the coating direction to be predetermined on the substrate 9 regardless of attitudes of the substrate 9 to be conveyed.例文帳に追加

これにより、搬入時の基板９の姿勢に関わらず、基板９上に予め定められている塗布方向に沿って有機ＥＬ液を塗布することができる。 - 特許庁

When mist of the raw material solution is supplied gradually toward a substrate and the atmosphere is heated, a thin film of zirconia is deposited on the substrate as an oxide film.例文帳に追加

基板に向けて原料溶液のミストが段階的に供給され、かつ、雰囲気が加熱されることにより、基板の上にジルコニア薄膜が酸化膜として成膜される。 - 特許庁

To provide a thin film forming device for forming a uniform thin film on a substrate by heating and drying only a material solution applied on the substrate.例文帳に追加

基板上に塗布された材料溶液だけを加熱して乾燥させることで、基板上に均一な薄膜を形成する薄膜形成装置を提供することにある。 - 特許庁

A coating head 20 supplies a chemical solution to the whole surface of a substrate 1, moving along the substrate 1 by sliding a mobile stand 60 over a traveling rail 70.例文帳に追加

移動台６０が走行レール７０上をスライドすることにより、塗布ヘッド２０は基板１に沿って移動しながら、薬液を基板１の表面全体に塗布する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus can efficiently exclude the mist of a treatment solution from the periphery of a substrate in accordance with vertical moving situations of first and second guards.例文帳に追加

第１および第２ガードの昇降状況に応じて、処理液のミストを基板の周辺から効率よく排除することができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a two fluid nozzle which enables an improvement in the treatment efficiency with a mixed treatment solution and a substrate treatment apparatus and a substrate treatment method using the nozzle.例文帳に追加

混合処理液による処理効率を向上させることができる二流体ノズル、ならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE, ITS MANUFACTURING METHOD, DISPLAY DEVICE USING THIS TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE, COATING SOLUTION FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE LAYER, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

透明導電性基材とその製造方法並びにこの透明導電性基材が適用された表示装置、および透明導電層形成用塗液とその製造方法 - 特許庁

To protect a substrate to be treated and to improve the quality of developing process by softening the impact of the developing solution to be fed from a nozzle to the surface of the substrate to be treated.例文帳に追加

ノズルより被処理基板の表面に供給される現像液の衝撃を和らげて被処理基板を保護し現像処理工程の質の向上させること。 - 特許庁

In the oxide film forming method, the oxide film is locally formed on a substrate surface layer by jetting a high-pressure solution comprising an oxidation source on a substrate surface.例文帳に追加

酸化源を含む高圧溶液を基板表面に噴出することにより、基板表面層に局所的に酸化膜を形成する酸化膜形成方法である。 - 特許庁

After a coating solution is dripped on the surface of a substrate W to be treated, a holding stand 4, a chuck 5, the substrate W to be treated and a plate 7 are integrally rotated by a spinner.例文帳に追加

被処理基板Ｗの表面に塗布液を滴下した後、スピンナーにて、保持台４、チャック５被処理基板Ｗ及びプレート７を一体的に回転せしめる。 - 特許庁

Accordingly, excess coating solution on the substrate flows to the mist scattering prevention member horizontal to the face of a substrate to be coated with the coating film and the mist generation can be prevented.例文帳に追加

これにより、基板上の過剰な塗布液が基板塗布膜形成面と水平なミスト飛散防止部材に流れ、かつミストの発生を防止することができる。 - 特許庁

By polishing the sapphire substrate using the polishing solution composition for the sapphire substrate, the polish rate is improved, and the surface roughness of the surface polished is decreased.例文帳に追加

本発明のサファイア基板用研磨液組成物を用いてサファイア基板を研磨することにより、研磨速度を向上させ、被研磨面の表面粗度を低減することができる。 - 特許庁

This method for producing a semiconductor thin film comprises immersing a substrate in a solution containing a semiconductor material to grow the semiconductor thin film on the substrate.例文帳に追加

また、溶液に基板を浸漬する際の衝撃により溶液中に結晶核が成長してしまい、膜質に悪影響を及ぼすという問題点を解決する。 - 特許庁

The surface of a mica substrate 5 is inclined with respect to a spraying direction in a vacuum chamber and, in this state, a DNA aqueous solution 6 is sprayed on the mica substrate 5 through a pulse valve 2.例文帳に追加

真空チャンバー内で、噴霧方向に対して、雲母基板５表面を傾斜させた状態で、パルスバルブ２を介して、雲母基板５にＤＮＡ水溶液６を噴霧する。 - 特許庁

With it, the substrate can be prevented from being partially raised on a table in the application step, and thus a resist solution can be evenly applied on the surface of the substrate 9.例文帳に追加

このようにすれば、塗布工程の際にテーブル上において基板が部分的に浮き上がることはなく、基板９の表面にレジスト液を均一に塗布することができる。 - 特許庁

To reduce the production of powder caused by a stripping liquid when stripping a polyimide film on the surface of a substrate from the substrate by means of the stripping liquid containing an inorganic alkaline water solution.例文帳に追加

無機アルカリ水溶液を含む剥離液を用いて、基板表面のポリイミド薄膜を基板から剥離する際に、剥離液に起因する粉末の生成を低減する。 - 特許庁

By dipping the optical element in a hydrochloric acid solution, the intermediate layer is dissolved and, as a result, the functional layer is also removed from the substrate to bring the substrate to a reusable state.例文帳に追加

光学要素を塩酸溶液に浸漬させることにより、この中間層を溶解し、その結果、基板から機能層をも除去して基板を再使用できる状態にする。 - 特許庁

The pump 6 is driven with a rotation output of a cooling fan 3, and the cooling solution flows circulating through the inside of the lower substrate 5, second fin group 8 and upper substrate 9.例文帳に追加

冷却用ファン３の回転出力でポンプ６を駆動し、冷却液は、下部基板５と第二のフィン群８と上部基板９の内部を循環して流れる。 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION, IMAGE FORMING METHOD, COLORED IMAGE FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING COLOR FILTER, METHOD FOR PRODUCING ARRAY SUBSTRATE WITH COLOR FILTER AND METHOD FOR PRODUCING ARRAY SUBSTRATE WITH RESIN LAYER例文帳に追加

現像液、画像形成方法、着色画像形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ付アレイ基板の製造方法、樹脂層付アレイ基板の製造方法 - 特許庁

To provide a method and apparatus in which a polished surface of a semiconductor substrate is brought into contact with a cleaning solution which is in motion relative to the polished surface of the substrate.例文帳に追加

半導体基板の研磨済み表面が、この研磨済み表面と相対的に移動する状態にある洗浄溶液と接触する方法と装置を提示する。 - 特許庁

The transporting rollers 4 are rotated in the direction of the arrow R, to transport the long substrate 3 at a constant speed in the direction of the arrow X while the substrate is immersed in a plating solution.例文帳に追加

搬送ローラ４が矢印Ｒの方向に回転することにより、長尺基板３はめっき液に浸漬しながら一定の速度で矢印Ｘの方向に移動する。 - 特許庁

Next, the GaAs substrate to which the Pd catalyst is made to adhere to the surface is immersed in Pd electroless plating solution 42, and a Pd plated film 44 is formed on the GaAs substrate.例文帳に追加

次に、表面にＰｄキャタリストが付着されたＧａＡｓ基板をＰｄ無電解めっき液４２に浸漬してＧａＡｓ基板上にＰｄめっき膜４４を形成する。 - 特許庁

A substrate is rinsed with a solution composed of the principal component of the solvent of an ink in the state of the partition between the liquid chamber and the ink passage having been formed on the substrate.例文帳に追加

本発明は、液室、インク流路の隔壁を基板上に形成した状態で、インクにおける溶媒の主成分による溶液により基板を洗浄する。 - 特許庁

In this case, the substrate 17 is preliminarily heated up to such a temperature level as causing the evaporation of the solvent of an MOD solution via a support bed 18 having a built-in heater and mounting the substrate 17.例文帳に追加

基板１７の温度は、基板１７を載置しているヒータ内蔵の支持台１８によりＭＯＤ溶液の溶媒が蒸発する温度まで予め加熱されている。 - 特許庁

In a film forming process (step S10), a substrate is coated with a polyimide solution prepared by dissolving a polyimide precursor in a solvent to form a polyimide film on the substrate.例文帳に追加

膜形成工程（ステップＳ１０）では、溶媒にポリイミド前駆体を溶解させたポリイミド溶液を基板上に塗布することにより、基板上にポリイミド膜を形成する。 - 特許庁

A method of forming an image on a substrate includes a step for applying the colorant solution comprising a reactive colorant and a radiation absorber to the substrate.例文帳に追加

基材上に画像を形成する方法は、反応性着色剤と放射線吸収剤とを含んで成る着色剤溶液を基材に適用するステップを含む。 - 特許庁