「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

After a solution of an organic semiconductor material is supplied to the surface of a substrate, a part of a solvent is evaporated and, after the organic semiconductor material is precipitated on the surface of the substrate, the residual solution is removed to form the organic semiconductor layer.例文帳に追加

基板上に有機半導体材料の溶液を供給した後、溶媒の一部を蒸発させ、基板表面に有機半導体材料を析出させた後、残留した溶液を除去することにより有機半導体層を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method for the fine pore structural body has a process for preparing a reaction solution containing a metallic compound and the surfactant, a process for applying the reaction solution on a substrate and a process for holding the substrate in an atmosphere containing steam.例文帳に追加

金属化合物と界面活性剤を含有する反応溶液を用意する工程、該反応溶液を基板上に塗布する工程及び該基板を水蒸気を含む雰囲気中に保持する工程を有する細孔構造体の製造方法。 - 特許庁

The means 28 controls a valve 25 and a constant flow pump 26 according to input of the current signal, and transmits an activity adjusting substrate solution stored in an activity adjusting substrate solution storage container 23 to a supply line 7.例文帳に追加

手段２８は、この電流信号の入力に基づきバルブ２５及び定流量ポンプ２６を制御し、活性調整用基質溶液保管容器２３に貯溜されている活性調整用基質溶液を供給ライン７に対して送出する。 - 特許庁

Colloidal solution containing metallic platinum particles is prepared, a catalytic layer containing platinum is formed by painting the colloidal solution on the prescribed conductive substrate, and the pair electrodes having a conductive substrate and a catalytic layer are formed.例文帳に追加

金属白金微粒子を含むコロイド溶液を形成し、このコロイド溶液を所定の導電性基板上に塗布することによって、白金を含む触媒層を形成し、前記導電性基板と前記触媒層とを有する対電極を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus by which the surface of the substrate can be more uniformly processed by more uniformly controlling the temperature of a processing solution, such as a plating solution, in plating and which is relatively simple and can reduce a footprint.例文帳に追加

例えば、めっき処理中におけるめっき液等の処理液の温度をより均一に制御して、基板の表面により均一な処理を行い、しかも装置として比較的簡単で、フットプリントを小さく抑えることができるようにする。 - 特許庁

Consequently, even when there are portions on the surface of the substrate such as uneven portions or portions not adapted to the application solution where the application solution is unlikely to be applied, the application solution is applied uniformly over the entire region where formation of the application film is scheduled.例文帳に追加

これによって、基体の表面部に、凹凸部分、塗布液となじみにくい部分などの塗布液が塗布されにくい部分がある場合であっても、塗布膜の形成を予定する領域全体にわたって塗布液をむら無く塗布することができる。 - 特許庁

A resin pattern that can absorb a liquid solution including a metal component is formed on a substrate, the resin pattern is immersed into the solution including the metal component to absorb the solution, and a calcination step is taken to make it a metal or metal compound pattern.例文帳に追加

金属成分を含む溶液を吸収可能な樹脂パターンを基体上に形成し、該樹脂パターンを前記金属成分を含む溶液に浸漬して該溶液を吸収させ、焼成工程を経て金属または金属化合物パターンとする。 - 特許庁

Since the cleaning solution is an acidic solution containing organic acid and has a pH value of 4 or less, the fine particles 13 are charged negatively similar to the surface of the substrate 11, and at the same time, the metallic impurity ions in the solution become negative complex ions due to the complexing effect of the organic acid.例文帳に追加

洗浄液が有機酸を含むｐＨ４以下の酸性溶液であるため微粒子は基板表面と同じマイナスに荷電されるとともに有機酸の錯化効果により液中の金属不純物イオンはマイナスの錯イオンとなる。 - 特許庁

In the drawing method of a wiring pattern on the substrate by dropping a solution including an electric conductive component; an oxygen element is included in the substrate on the front surface, the substrate with a critical surface tension smaller than 25 dyn/cm in 25°C of the front surface is used, and the solution with the larger surface tension force than the above critical surface tension is used for the solution.例文帳に追加

導電成分を含む溶液を滴下することによって基板上に配線パターンを描画形成する方法において、基板に酸素元素を表面に含み、その表面の２５℃における臨界表面張力が２５ｄｙｎ／ｃｍより小さい基板を用い、溶液にその表面張力が上記臨界表面張力より大きい溶液を用いる。 - 特許庁

A solution containing water content of ≥10 wt.% is used at a hydrofluoric acid solution for electrolyte etching using the p-type silicon substrate, which has an etching start groove and has ≥30 Ω cm substrate resistivity, as an anode by dipping the p-type silicon substrate in the hydrofluoric acid solution together with a counter electrode arranged opposite the surface where the groove is formed.例文帳に追加

エッチング開始用溝の形成された基板抵抗率が３０Ω・ｃｍ以上のｐ型シリコン基板を、該溝の形成された面に対向するように配置された対向電極とともにフッ化水素酸溶液に浸漬し、上記シリコン基板を陽極として電解エッチングする際に、上記フッ化水素酸溶液として溶媒中の水含有率が１０重量％以上である溶液を用いた。 - 特許庁

A manufacturing method for a semiconductor device using acid diffusion comprises forming a resist pattern in a partial area of a substrate,contacting a result forming the resist pattern with descumming solution which includes an acid source, resolving a resist residue which remains on a substrate face within the descumming solution using an acid obtained from the acid source, and removing the resolved residue and descumming solution from the substrate.例文帳に追加

基板上の一部領域にレジスト・パターンを形成し、レジスト・パターンが形成された結果物に酸ソースを含むデスカム溶液を接触させ、デスカム溶液内で、酸ソースから得られる酸を利用して、基板表面に残留するレジスト残留物を分解させ、分解された残留物及びデスカム溶液を基板から除去する、酸の拡散を利用する半導体素子の製造方法である。 - 特許庁

The method for producing the sheet-like article obtained by imparting a polyurethane solution to the fibrous substrate is characterized in that the polyurethane solution is a water dispersion type polyurethane solution containing a foaming agent, and the 100% modulus of the dry membrane of the polyurethane constituting the polyurethane solution is 3 to 8 MPa.例文帳に追加

また、繊維質基材にポリウレタン液を付与して得るシート状物の製造方法であって、当該ポリウレタン液が発泡剤を含有する水分散型ポリウレタン液であり、かつ当該ポリウレタン液を構成するポリウレタンの乾式膜の１００％モジュラスが３〜８ＭＰａであることを特徴とするシート状物の製造方法である。 - 特許庁

As a result, the concentration of a solvent component of the organic EL solution becomes higher on the terminal end side of the organic EL solution applied in the coating area 91 of the substrate 9, so that the time to dry the organic EL solution applied in the coating area can be restrained from being shorter than the time to dry the organic EL solution applied in another area.例文帳に追加

これにより、基板９の塗布領域９１における有機ＥＬ液の塗布の終端側において、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなり、有機ＥＬ液の乾燥時間が他の領域に塗布された有機ＥＬ液の乾燥時間よりも短くなることを抑制することができる。 - 特許庁

A detection probe pattern by means of a first solution (nucleic acid probe) is formed on a detection substrate 108, and after the volatile substance in the first solution has been volatilized, a spot pattern due to a second solution (target nucleic acid) is formed on the detection probe pattern, to cause the hybridization reaction of the first and second solution.例文帳に追加

検出用基板１０８上に第１の溶液（核酸プローブ）による検出用プローブパターンを形成し、第１の溶液における揮発物質の揮発後に、検出用プローブパターン上に第２の溶液（標的核酸）によるスポット状パターンの形成を行い、第１の溶液及び第２の溶液のハイブリダイゼーション反応を起こす。 - 特許庁

When the substrate is cleaned by using an ammonium fluoride aqueous solution or a mixed solution of an ammonium fluoride aqueous solution and hydrofluoric acid as a cleaning liquid, with the passage of time during the use of the cleaning liquid, the cleaning liquid is added with at least one selected from water, ammonia, ammonia water, and an ammonium fluoride aqueous solution.例文帳に追加

弗化アンモニウム水溶液や弗化アンモニウム水溶液と弗化水素酸との混合液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、洗浄液の使用時間の経過とともに洗浄液に水、アンモニア、アンモニア水、弗化アンモニウム水溶液から選ばれる少なくとも１種を追加補充する。 - 特許庁

This plating apparatus comprises a plating tank 50 for holding plating solution 45, a head part 47 for holding a substrate W connected to the cathode at least in the plating solution 45, an anode 48 disposed inside the plating tank 50, and a plating solution spouting nozzle 45 for feeding the plating solution containing additive to the plating tank 50.例文帳に追加

めっき液４５を保持するめっき槽５０と、カソードに接続された基板Ｗを少なくともめっき液４５中で保持するヘッド部４７と、めっき槽５０の内部に配置されるアノード４８と、添加剤を含んだめっき液４５をめっき槽５０に供給するめっき液噴出ノズル５３とを備える。 - 特許庁

A raw material solution containing TiO_2 particles is applied onto the surface of a substrate 2 to form a TiO_2 particle layer on the surface of the substrate 2, and the substrate 2 is burned under a hydrogen atmosphere to form a titanium oxide thin film 3 on the surface of the substrate 2.例文帳に追加

ＴｉＯ_２粒子を混入させた原料溶液を基板２の表面に塗布して、ＴｉＯ_２粒子層を当該基板２の表面に形成し、水素雰囲気下において焼成処理することにより、基板２の表面に酸化チタン薄膜３を形成する。 - 特許庁

After the ferroelectric film is formed on the semiconductor substrate by using a CVD method, the back of the semiconductor substrate is substrate-etched down to a specific depth by using a mixed solution of a nitric acid and a fluoric acid, to remove the contamination components included in the back of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上にＣＶＤ法等を用いて強誘電体膜を形成した後、半導体基板の裏面を、硝酸とフッ酸の混合液を用いて所定の深さまで基板エッチングして、半導体基板の裏面に含まれる汚染成分を除去する。 - 特許庁

To provide a device which prevents damage from being given to a film formed on a substrate, and fine patterns on the substrate, and the device from being broken by static electricity, when supplying a treating solution containing fine ice particles onto the surface of the substrate, for treating the substrate.例文帳に追加

氷の微粒子を含む処理液を基板の表面へ供給して基板の処理を行う場合に、基板上に形成された被膜にダメージを与えることがなく、静電気によって基板上の微細なパターンやデバイスを破壊することもない装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of regenerating a glass substrate for a color filter for peeling off a color filter layer from a glass substrate for a color filter by bringing a defective substrate for a color filter into contact with a peeling liquid, so as to prevent corrosion of the glass substrate for a color filter by an alkali aqueous solution.例文帳に追加

カラーフィルターの不良基板を、カラーフィルター用ガラス基板がアルカリ水溶液により浸食されないように剥離液と接触させることにより、カラーフィルター用ガラス基板からカラーフィルター層を剥離するカラーフィルター用ガラス基板の再生方法を提供する。 - 特許庁

Then the substrate 10 having the second resist layer 17 is immersed in a developing solution 20d to develop the second resist layer 17.例文帳に追加

次に、第２のレジスト層１７を含む半導体基板１０を現像液２０ｄに浸漬して、第２のレジスト層１７を現像する。 - 特許庁

For example, the droplet 3 comprising the solvent is arranged to a position not to form the droplet 2 comprising the solution on the silicon substrate 1.例文帳に追加

例えば、シリコン基板１上の、溶液からなる液滴２を形成しない位置に、溶媒からなる液滴３を配置する。 - 特許庁

The etching may be aqueous solution etching sufficient to increase an amount of light extracted through the substrate.例文帳に追加

このエッチングは、基板を介して抽出される光の量を増大させるのに十分な、水溶液エッチングとすることができる。 - 特許庁

To provide a coating method and a coater for applying a coating solution at a high precision to a film-like substrate through a transfer roll.例文帳に追加

フィルム状の基材に転写ロールを介して塗布液を精度よく塗工する塗工方法および塗工機を提供する。 - 特許庁

This method comprises dissolving and polishing a glass plate surface while including an aqueous hydrofluoric solution or hydrofluoric gas between a pad and the glass substrate.例文帳に追加

パッドとガラス基板の間にフッ化水素水溶液またはフッ化水素ガスを介在させてガラス板表面を溶解研磨する。 - 特許庁

A lower layer resist 11 is formed on a semiconductor substrate 1 using a commercially available resist solution, and ordinary heat treatment is performed.例文帳に追加

市販されているレジスト溶液を用いて、半導体基板１上に下層レジスト１１を形成し、通常の熱処理を施す。 - 特許庁

DETECTION PART OF INTERACTION BETWEEN SUBSTANCES, SUBSTRATE FOR BIOASSAY EQUIPPED THEREWITH, AND SUPPLY METHOD OF AQUEOUS SOLUTION TO DETECTION PART例文帳に追加

物質間の相互作用検出部と該検出部を備えるバイオアッセイ用基板及び該検出部への水溶液供給方法 - 特許庁

Resist solution discharge nozzles 56a-56d are attached to the tip end part of a nozzle arm 55 and a substrate G is set in a spin chuck 51.例文帳に追加

レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄがノズルアーム５５の先端部に設けられ、基板Ｇはスピンチャック５１に装着されている。 - 特許庁

The substrate W to be processed is brought into contact with a cleaning solution DIW contained in a cleaning tank 52 to perform cleaning processing.例文帳に追加

まず、洗浄槽５２内に収容された洗浄液ＤＩＷに被処理基板Ｗを接触させて洗浄処理する。 - 特許庁

The method further comprises the step of thereafter dipping a connector of the base 2 to the substrate 3 in a mixed aqueous solution of a hydrogen fluoride and a copper chloride.例文帳に追加

然る後に、基台２と半導体基板３の接合体を弗化水素と塩化銅の混合水溶液に浸漬する。 - 特許庁

Thus, the electroplating solution is distributed onto the annular part of the substrate having a diameter corresponding to the diameter of the counter electrode.例文帳に追加

こうして電気メッキ溶液が、対電極の直径に対応する直径を有する基板の環状部分上に分配される。 - 特許庁

To prevent occurrence of water mark or/and stripe type particle on the substrate surface by successfully removing a solution for rinse.例文帳に追加

リンス液を良好に除去することにより、基板表面におけるウォーターマークまたは／および筋状パーティクルの発生を防止する。 - 特許庁

The plating solution composition is used at pH 5.5 to 8 and at a temperature of 30 to 70°C, and applies electroless copper plating to the substrate to be plated.例文帳に追加

前記めっき液組成物をｐＨ５．５〜８、温度３０〜７０℃で使用し、被めっき基板に無電解銅めっきを施す。 - 特許庁

The alcohol solution is introduced into the grooves 12 upon the contact with the substrate 11 by the capillary phenomenon due to surface tension.例文帳に追加

アルコール溶液は、基板１１に接触すると、表面張力による毛細管現象により溝１２内に導入される。 - 特許庁

The intermediately dried porous sintered substrate is immersed in an alkaline solution to substitute nickel hydroxide for the acidic nickel salt.例文帳に追加

ついで、中間乾燥された多孔性焼結基板をアルカリ溶液中に浸漬して酸性ニッケル塩を水酸化ニッケルに置換する。 - 特許庁

The carbon nanotube containing solution is filtered, then dropped onto a rotating substrate, and dried, thereby producing a carbon nanotube thin film.例文帳に追加

カーボンナノチューブ含有溶液を濾過してから回転している基板に滴下し、乾燥させることでカーボンナノチューブ薄膜を形成する。 - 特許庁

The substrate is immersed in a substitution solution containing a metal potentially nobler in electrical conductivity than the metal included in the conducting material.例文帳に追加

導電化材料に含まれる金属より導電性が高く電位的に貴な金属を含む置換溶液に基体を浸漬する。 - 特許庁

The method may further comprise application of the corrosion inhibitor solution prior to treating the substrate surface with the composition.例文帳に追加

該方法は、該組成物を用いて該基板表面を処理する前に、該腐食防止溶液を供給することをさらに備えてもよい。 - 特許庁

When the substrate is immersed in the plating solution, the electrically conductive material is electrically plated to form a via structure.例文帳に追加

基板がめっき溶液中に浸漬されたとき、導電性材料はアパーチャ内で電気めっきされ、バイア構造体を形成する。 - 特許庁

To provide a device of dry treatment that can dry solution applied on a substrate evenly.例文帳に追加

この発明は基板に塗布された溶液を均一に乾燥させることができるようにした乾燥処理装置を提供することにある。 - 特許庁

The sample solution can enter the gap between the flat plate 9 and the glass substrate 7 due to the capillary phenomenon caused by the gap.例文帳に追加

平板とガラス基板との間隙内に対し、試料溶液を間隙による毛細管現象により浸入可能にする。 - 特許庁

A Ta oxide film 11 applied on the upper face of the glass substrate 2 is removed by using a specified treating solution or by heat shock.例文帳に追加

ガラス基板２の上面に設けたＴａ酸化膜１１を所定の処理溶液または熱衝撃をもって剥離する。 - 特許庁

Step (3): transferring the chemical solution on the transfer cylinder to a predetermined position of the substrate to form the functional film.例文帳に追加

工程（３） 前記転写シリンダー上の薬液を前記基板の所定の位置へ転写し、機能性膜の形成を行う工程。 - 特許庁

A substrate after subjected to surface treatment with use of a chemical, such as a hydrofluoric acid solution, is rinsed and cleaned with an acid-added water.例文帳に追加

フッ酸等の薬液による表面処理が行われた基板に対して酸添加水によるリンス洗浄処理を行う。 - 特許庁

To supply, without waste, a developing solution onto the surface of a substrate which is coated with a resist and subjected to an exposure process while restraining it from flowing.例文帳に追加

レジストが塗布され露光処理がされた基板の表面に液流れのない現像液を無駄を抑えて供給すること - 特許庁