「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The high-temperature water 2 at the temperature higher than room temperatures is supplied to the substrate W that is held and rotated by the substrate holding/rotating mechanism 1 and having the temperature lower than the high-temperature chemical solution, and successively the high-temperature chemical solution 3 at the temperature higher than room temperatures is supplied to it.例文帳に追加

基板保持回転機構１によって保持されて回転されており、高温薬液よりも低温の基板Ｗに、室温よりも高温の高温水２が供給され、それに引き続いて室温よりも高温の高温薬液３が供給される。 - 特許庁

To provide a treatment solution-spraying nozzle of a substrate treatment apparatus capable of providing sufficient ultrasonic wave vibration to a treatment solution by preventing accumulation of foams in the treatment solution-spraying nozzle and capable of preventing damages on an ultrasonic oscillator.例文帳に追加

処理液吐出ノズル内における気泡の蓄積を防止することにより、処理液に十分な超音波振動が付与可能であり、また、超音波発振子の損傷を防止することができる基板処理装置の処理液吐出ノズルを提供することを目的とする。 - 特許庁

In addition, this manufacturing method of a sample used for the determination is characterized by manufacturing the oriented solid film by drying the solution prepared by mixing an aqueous solution containing DNAs with molecules bonded to the DNAs in a magnetic field by disposing the solution on a substrate.例文帳に追加

また、前記判定に使用する試料の作製方法において、ＤＮＡを含む水溶液とＤＮＡに結合する分子を混ぜた溶液を基板上に置いて磁場中で乾燥させることにより配向した固体膜を作製することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a roll coating method and a roll coating apparatus, whereby: a thinner film of a coating solution can be produced although the properties of the solution are inhibited by effects such as the shear strength of rolls; and a coating solution can be transferred to create a stripe pattern on a running sheet-shaped or a continuum substrate.例文帳に追加

ロールのせん断力等の影響で特性が阻害される塗工液を薄膜化でき、また、走行するシート状もしくは連続体の基材上に塗工液をストライプパターンで転移することができるロールコート方法および装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a solution discharge apparatus capable of uniformly applying a solution at the minimum amount on the entire surface of a substrate, achieving intermittent discharge, and eliminating preparation time for filling the solution into a nozzle to improve responding ability.例文帳に追加

基板の表面全体に液剤を最小限の液量で均一に塗布することができるとともに、間欠吐出を可能とし、ノズル内に液剤を充填させる準備時間を解消して応答性を向上させることのできる液剤吐出装置を提供すること。 - 特許庁

The substrate is then cleaned with a second cleaning solution containing a first complexing agent easily forming metal oxide and complex included in a metal material or a polishing solution (second step) and containing a second cleaning solution containing an anion- or cation-based surfactant.例文帳に追加

ついで、（ａ）上記金属材料または上記研磨液に含まれる金属の酸化物と錯体を形成しやすい第一の錯化剤、および（ｂ）アニオン系またはカチオン系の界面活性剤を含む第二の洗浄液により基板を洗浄する（第二の工程）。 - 特許庁

To prepare an activating catalyst solution containing no lead, which can electroless plate selectively on a metallized wiring formed on the surface of an insulative substrate, and has the life of solution equal to or more than that of a conventional activating catalyst solution containing lead.例文帳に追加

鉛を含まなくても絶縁基体の表面に形成されたメタライズ配線上に選択的に無電解めっきを施すことができ、かつ従来の鉛を含む活性化触媒液と同等以上の液寿命を有する活性化触媒液を提供することである。 - 特許庁

The manufacturing method sequentially has a process for implementing a hydrolytic cleavage/polymerization of a silane-alkoxide solution containing the porphyrin compound, a process for condensing the silane-alkoxide solution applied with the hydrolytic cleavage/polymerization, and a process for coating the condensed silane-alkoxide solution on the substrate.例文帳に追加

また、ポルフィリン化合物を含むシランアルコキシド溶液を加水分解・重合する工程、加水分解・重合したシランアルコキシド溶液を濃縮する工程、濃縮したシランアルコキシド溶液を基材上にコーティングする工程、をこの順に有する製造方法とする。 - 特許庁

To provide a quantification of a substrate which uses a measuring device to measure a substrate contained in a sample solution supplied to a biosensor, which determines whether or not to measure the substrate based on the temperature variation.例文帳に追加

バイオセンサに供給される試料液に含まれる基質を、測定装置によって測定する基質の定量方法であって、温度変化に基づき、基質の測定をするか否かの判定をするための定量方法を提供する。 - 特許庁

To make the surface of a substrate more uniformly chemical-treated while easily avoiding gases from remaining on the surface of the substrate and the concentration and temperature of the chemical solution from varying between the edge part and the central part of the substrate.例文帳に追加

基板の表面に気体が残ったり、薬液濃度並びにその温度が基板の端部と中央部で異なったりすることを容易に回避しつつ、基板表面により均一に薬液処理を行うことができるようにする。 - 特許庁

The photodeposition gold plating method comprises setting a substrate 2 to be plated in an aqueous solution containing metal ions and a reducing agent and irradiating the substrate 2 with light in the ultraviolet region from a light source 6 to form a gold plating on the surface of the substrate 2 by a photodeposition reaction.例文帳に追加

金イオンと、還元剤を含む水溶液中にメッキを施す基板２を配置し、基板２に対して光源６から紫外線領域の光を照射して、光化学反応により、基板２表面に金メッキ膜を形成する。 - 特許庁

By the heating process, deposits that are adhered on the substrate W after the supply of the developing solution are dried, and are easily washed out from the substrate by the second rinsing process, which is carried out for the substrate W immediately after the heating process.例文帳に追加

この加熱処理により、現像液供給後の基板Ｗ上に付着している付着物が乾燥し、直後に行われる基板Ｗに対する第２のリンス処理によって基板上から容易に洗い流される。 - 特許庁

A drying gas G1 is supplied thereafter toward the substrate W to be processed in the drying chamber 10 to be brought into contact with the substrate W to be processed, thereby removing the cleaning solution DIW on the surface of the substrate W to be processed.例文帳に追加

その後、乾燥室１０内の被処理基板Ｗに向けて乾燥ガスＧ１を供給することにより、乾燥ガスＧ１を被処理基板Ｗに接触させ、被処理基板Ｗ表面の洗浄液ＤＩＷを除去する。 - 特許庁

A silicon substrate is dipped into an aqueous solution containing hydrofluoric acid, ammonium fluoride and catalyst metal for electroless plating to catalyze the surface of the silicon substrate, and thereafter, a metal film is formed on the surface of the silicon substrate by electroless plating.例文帳に追加

フッ酸、フッ化アンモニウムおよび無電解めっき用触媒金属を含む水溶液にシリコン基板を浸漬してシリコン基板表面の触媒化を行った後、このシリコン基板表面に無電解めっきにより金属皮膜を形成する。 - 特許庁

The liquid treatment method supplies the treatment solution between a substrate to be treated and a facing member using the substrate to be treated and the facing member disposed at a distance from the substrate where the treatment solution can be held by surface tension, and accordingly, the surface of the substrate is treated.例文帳に追加

本発明は、被処理基板と、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材とを用い、上記被処理基板および上記対向部材の間に、上記処理液を供給することにより、上記被処理基板の表面を処理することを特徴とする液処理方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The method of depositing the metallic layer containing metal on the substrate surface has a process step of immersing the substrate in a first solution which contains a depolarizing agent and in which the metal ions do not substantially exist and a process step of immersing the substrate into a second solution containing the metal ions described above while passing an electric current between the substrate and an anode.例文帳に追加

基板表面上に金属を含む金属層を析出させる方法であって、前記基板を、復極剤を含み、かつ、実質的に前記金属イオンが存在しない第一溶液に浸す工程と、その後に、前記基板とアノード間に電流を流しながら、前記基板を、前記金属のイオンを含有する第二溶液に浸す工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method includes a step of rubbing a surface of a long substrate film, and a step of coating the rubbed substrate film with a liquid crystal polymer solution, etc., and also includes a step of continuously heating the long substrate film while conveying it before the step of coating the substrate film with the liquid crystal polymer solution.例文帳に追加

長尺の基板フィルムの表面に対してラビング処理を施す工程と、ラビング処理が施された基板フィルムに液晶高分子溶液を塗布する工程等を備える液晶高分子フィルムの製造方法において、液晶高分子溶液を基板フィルムに塗布する工程よりも前に、長尺の基板フィルムを搬送しながら連続的に加熱する工程を備える、製造方法。 - 特許庁

There are provided: the photosynthesis substrate immobilizing an electron carrier, a photosensitizing dye molecule, and an enzyme on at least the surface of a base material; the method for producing the photosynthesis substrate; the method for photosynthesis reaction including bringing a reaction raw material solution into contact with the photosynthesis substrate; and the photosynthesis apparatus using the internal surface of a flow channel wherein the reaction raw material solution flows as the photosynthesis substrate.例文帳に追加

基材の少なくとも表面に電子伝達体、光増感色素分子および酵素を固定してなる光合成基板、光合成基板の製造方法、反応原料溶液を前記の光合成基板に接触させる光合成反応法、および反応原料溶液が流れる流路内面を前記の光合成基板として使用してなる光合成装置。 - 特許庁

In a method of forming a photovoltaic element, which enables the precipitation of a silicon layer 110 on a substrate 103 by contacting the substrate 103 with a supersaturated solution obtained by dissolving a silicone in a metal solvent 109, before the substrate 103 contacts the supersaturated solution, a silicon thin film 107 is formed on the surface of the substrate 103 using a high-frequency plasma CVD method.例文帳に追加

金属溶媒１０９にシリコンを溶解した過飽和溶液に基板１０３を接触させることにより基板１０３上にシリコン層１１０を析出させる光起電力素子の形成方法において、過飽和溶液に基板１０３と接触させる前に、基板１０３表面にシリコン系薄膜１０７を高周波プラズマＣＶＤ法を用いて形成しておく。 - 特許庁

To shorten a DNA chip production time to enhance productivity by promoting a reaction of a substrate with a probe in a probe solution, and to reduce a required concentration of the probe in the probe solution to reduce a cost of a DNA chip by promoting the reaction of the substrate with the probe in the probe solution, in a liquid imparting device used in DNA chip production.例文帳に追加

DNAチップ製造に使用される液体付与装置において、基板とプローブ溶液内のプローブの反応を促進することで、DNAチップ製造時間を短縮し生産性を向上することと、基板とプローブ溶液内のプローブの反応を促進することで必要なプローブ溶液内のプローブの濃度を減少させDNAチップのコストダウンを行うこと。 - 特許庁

The production method of a metal oxide precursor layer which applies a solution containing metal ions is applied onto a substrate, is characterized by having a process for applying the solution to form a film, after adjusting the temperature (°C) of the substrate in a temperature range of 50 to 150% of the boiling temperature (°C) of the main solvent of the solution.例文帳に追加

基材の上に金属イオンを含む溶液を基材に塗布する金属酸化物前駆体層の作製方法において、該基材の温度（℃）を該溶液の主溶媒の沸点（℃）の５０％〜１５０％の温度範囲に調整して前記溶液を塗布、成膜する工程を有することを特徴とする金属酸化物前駆体層の作製方法。 - 特許庁

A solution passage formed by engraving one groove in a glass substrate is made to overlap on a microarray electrode prepared on another glass substrate, a high-frequency voltage is impressed on the microarray electrode, then a distribution agent fine particle solution is introduced from a solution passage inlet, and the fine particles are thereby arrayed on the electrode according to an electrode pattern to be immobilized.例文帳に追加

ガラス基板に作成したマイクロアレイ電極上に、他のガラス基板に一本の溝を彫ることによって形成した溶液通路を重ね合わせ、該マイクロアレイ電極に高周波電圧を印加し、溶液通路入口から分配剤微粒子溶液を導入すると、微粒子は電極パターンに従って電極上に配列・固定される。 - 特許庁

To form an antireflection layer, having a low refractive index on the surface of a substrate and to provide a low reflective substrate, having high transmittance for visible rays by the method of supersaturation precipitation that the substrate is brought into contact with a silicon oxide supersaturated aqueous solution of hydrosilicofluoric acid to precipitate a silicon dioxide film on the substrate surface.例文帳に追加

珪弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液と基板とを接触させて基板表面に二酸化珪素被膜を析出させる過飽和析出法により、基板表面に低屈折率の反射防止層を形成して可視光透過率の高い低反射基板を提供する。 - 特許庁

To obtain a substrate for an electronic part having a high adhesive strength to a metal layer and high insulating properties without losing essential characteristics of the substrate, to provide a method for producing the substrate for the electronic part and to obtain a polyimide resin precursor solution used for producing the substrate for the electronic part.例文帳に追加

金属層との密着強度が非常に高くかつ、基材が本来の特性を失うことなく、絶縁性が高い電子部品溶基材、電子部品溶基材の製造方法、電子部品溶基材の製造に用いるポリイミド樹脂前駆体溶液を提供することにある。 - 特許庁

The SiC single crystal is produced by a liquid phase growth method for epitaxially growing SiC on a substrate by bringing a seed crystal substrate into contact with an SiC solution in which a melt of an Si alloy held in a crucible is used as a solvent, wherein a sapphire crystal substrate is used as the seed crystal substrate.例文帳に追加

坩堝に収容されたＳｉ合金の融液を溶媒とするＳｉＣ溶液に種結晶基板を接触させて基板上にＳｉＣをエピタキシャル成長させる液相成長法によるＳｉＣ単結晶の製造において、種結晶基板としてサファイア結晶基板を使用する。 - 特許庁

Also, a method of forming a conductive structure on a substrate includes: feeding the solution of dispersed metal nanoparticles; depositing the dispersion liquid of bident amine-stabilized metal nanoparticles on the substrate; and heating a printed substrate to form the conductive structure on the surface of the substrate.例文帳に追加

また、分散された金属ナノ粒子の溶液を供給し、二座アミン安定化金属ナノ粒子分散液を基板上に堆積し、印刷された基板を加熱して基板の表面上に導電性構造部を形成して、基板上に導電性構造部を形成する方法。 - 特許庁

Then, the rinse liquid is supplied on the substrate 100 by with the rinse liquid discharging nozzle 12, while moving the developing solution discharging nozzle 11 together with the rinse liquid discharging nozzle 16 from the position in one side out of the substrate 100 to the position in the other side out of the substrate 100, passing over the substrate 100.例文帳に追加

その後、現像液吐出ノズル１１をリンス液吐出ノズル１２とともに基板１００外の一方側の位置から基板１００上を通過して基板１００外の他方側の位置へ移動させつつリンス液吐出ノズル１６によりリンス液を基板１００上に供給する。 - 特許庁

The processing apparatus is equipped with a table 4 to hold a substrate on its surface, a vibrator 3 to impart ultrasonic vibration in up and down directions perpendicular to the substrate surface to the substrate held on the table, and a nozzle body to supply a processing solution on the upper surface of the substrate held on the table and ultrasonically vibrating by the vibrator.例文帳に追加

上面に基板が保持されるテーブル４と、テーブルに保持された基板にその板面と直交する上下方向に超音波振動を付与する振動子３と、テーブルに保持され振動子によって超音波振動する基板の上面に処理液を供給するノズル体を具備する。 - 特許庁

The functional element substrate is manufactured by putting the droplets 43 of the solution, which contains the functional material, on the substrate 14 by injection, by volatilizing the volatile constituent in this droplet 43, and while making the solvent absorb in the substrate 14, by making a solid content residual 44 remain on the substrate 14.例文帳に追加

基板１４上に機能性材料を含有する溶液の液滴４３を噴射付与し、該液滴４３中の揮発成分を揮発させ、かつ溶媒を基板１４内に吸収させるとともに固形分を基板１４上に残留４４させることによって機能性素子基板を製造する。 - 特許庁

The coating device is provided with: a coating head for continuously discharging an organic EL solution toward a substrate 9; a head moving mechanism for moving the coating head relatively to the substrate 9 to the main scanning direction and the subscanning direction; a substrate moving mechanism; and a control part for controlling the coating head, the head moving mechanism and the substrate moving mechanism.例文帳に追加

塗布装置は、基板９に向けて有機ＥＬ液を連続的に吐出する塗布ヘッド、塗布ヘッドを基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動するヘッド移動機構および基板移動機構、並びに、これらの構成を制御する制御部を備える。 - 特許庁

To provide a gas/liquid mixing valve that feeds a treating solution containing a dissolved gas in a real-time manner and to provide a substrate treatment apparatus using the same.例文帳に追加

ガスを溶存した処理液をリアルタイムに供給する気液混合用バルブおよびそれを用いた基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In a radiation imaging grid, a gold colloidal solution 30 is dropped and applied, on an X-ray transmissive substrate 21 on which a groove 22 having a high aspect ratio is formed.例文帳に追加

高いアスペクト比を有する溝２２が形成されたＸ線透過性基板２１に、金コロイド溶液３０を滴下して塗布する。 - 特許庁

A film pattern is formed by locating a functional solution on a pattern forming region divided by banks 34 disposed on a substrate 18.例文帳に追加

基板１８上に設けられたバンク３４によって区画されたパターン形成領域に、機能液を配置して膜パターンを形成する。 - 特許庁

This substrate having the formed Cu_2O thin film is so dipped in a cyanide aqueous solution containing crown ether during two minutes as to subject the Cu_2O thin film to a cyanide treatment.例文帳に追加

このＣｕ_2Ｏ薄膜を形成した基板をクラウンエーテルシアン溶液に２分間浸漬してＣｕ_2Ｏ薄膜にシアン処理を施した。 - 特許庁

A third high polymer electrolyte solution 12 is applied onto the substrate 11 and dried to form a second high polymer electrolyte membrane 12b.例文帳に追加

基体１１上に第３の高分子電解質溶液１２を塗布、乾燥させて第２の高分子電解質膜１２ｂを形成する。 - 特許庁

The copolymer (C) forms a reflection-preventing film having low refractive index by applying the solution of the copolymer (C) to a substrate and carrying out ultraviolet curing.例文帳に追加

共重合体（Ｃ）はその溶液を塗布した後、紫外線硬化させることにより低屈折率の反射防止膜を形成する。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution for chemical-mechanical polishing a substrate having less dishing, while working at a high polishing speed.例文帳に追加

本発明は、高速研磨速度でありながらディッシングが少なく、基板を化学的機械的研磨できる金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

The treatment solution is made into an atomized state with average grain size of 1 to 60 μm and jetted against the substrate 1.例文帳に追加

前記処理液を平均粒径１μｍ以上６０μｍ以下である霧状にして基板１に吹き付けることを特徴としている。 - 特許庁

In this hybridization reactor, a biological material immobilized on a substrate 7a is hybridized with a biological material in a solution.例文帳に追加

ハイブリダイゼーション反応装置は、基板７ａに固定された生体物質と、溶液中の生体物質とをハイブリダイゼーション反応させる。 - 特許庁

The contaminating treatment desirably is a treatment, wherein a solution containing the metal impurity is dropped and dried on the stationary semiconductor substrate.例文帳に追加

前記汚染処理は、静置した半導体基板上に金属不純物を含む溶液を滴下し乾燥させる処理であることが望ましい。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE WITH RESIN LAYER, DEVELOPING SOLUTION USED IN SAME METHOD AND LIQUID CRYSTAL ELEMENT FORMED BY SAME METHOD例文帳に追加

樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法及び該方法に用いられる現像液並びに該方法で形成される液晶素子 - 特許庁

First high polymer electrolyte solution 12 is applied onto a substrate 11 and dried to form a first high polymer electrolyte membrane 12a.例文帳に追加

基体１１上に第１の高分子電解質溶液１２を塗布、乾燥させて第１の高分子電解質膜１２ａを形成する。 - 特許庁

To provide a development method and a development apparatus for adequately cleaning developing solution while suppressing deformation of a substrate.例文帳に追加

基板の変形を抑えながら現像液の洗浄を十分に行うことができる現像方法及び現像装置を提供すること。 - 特許庁

Further, a method of reducing the number of defects on a substrate after a plurality of CMP treatments using the process solution is disclosed.例文帳に追加

さらに、本発明のプロセス溶液を用いて、複数のCMP処理後の基材上にある欠陥の数を低減する方法が開示される。 - 特許庁

To decrease the quantity of solution to be discharged in a thin film dissolving and removing device by discharging a solvent on unwanted films on a substrate.例文帳に追加

溶剤を基板上の不要な膜に吐出して該膜を溶解除去する装置において、吐出する溶剤の量を低減させる。 - 特許庁