「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

After an adhesive coating film 3 made of a polybutadiene resin having a functional group is formed on a semiconductor substrate 1 on which a TaN layer 2, etc., is formed, a polybenzoxazole resin film 4 is formed on the coating film 3 by applying a polybenzoxazole precursor solution to the film 3, and heat-treating the solution after the solution is pre-baked and dried.例文帳に追加

ＴaＮ層２などを成膜した半導体基板１上に、官能基を有するポリブタジエン樹脂からなる接着性コーティング膜３を形成し、その上にポリベンゾオキサゾール前駆体溶液を塗布し、プリベークして乾燥し、さらに加熱処理を加えて、ポリベンゾオキサゾール樹脂膜４を形成する。 - 特許庁

Almost spherical metal nanoparticles 1 subjected to chemical synthesis are dispersed into a solvent, so as to prepare a nanoparticle-dispersed solution 10, and the solution 10 is applied to the surface of a substrate 2 in which longitudinal nanoholes 3 are formed on the surface, defoaming is performed, and the nanoparticle-dispersed solution 10 is poured into the nanoholes 3.例文帳に追加

化学合成されたほぼ球形の金属ナノ粒子１を溶媒に分散させてナノ粒子分散溶液１０を作成し、表面に縦長のナノホール３が形成された基体２表面に塗布、脱泡してナノホール３中にナノ粒子分散溶液１０を注入する。 - 特許庁

The solution applicator 10 to apply the solution to the coating scheduled area S on the substrate 16 with the inkjet type method is provided with a control device 32 to control the application of the solution to the coating scheduled area S based on quality information of the coating scheduled area S.例文帳に追加

基板１６上の塗布予定領域Ｓに溶液をインクジェット方式によって塗布する溶液塗布装置１０において、塗布予定領域Ｓの良否情報に基づいて、塗布予定領域Ｓに対する溶液の塗布を制御する制御装置３２を備えたもの。 - 特許庁

To provide a waste solution collecting device which can suitably collect and discard a waste solution after being processed regardless of an automatic or manual operating state of an apparatus for chemically processing an object such as a substrate using a plurality of sorts of processing solutions, a waste solution collection control method, and a developing device using the waste solution collecting device.例文帳に追加

複数種類の処理液を用いて基板等の対象物を化学処理する装置において、当該装置の自動、手動の運転状態にかかわらず、処理廃液の回収又は廃棄を適切に行うことができる処理廃液回収装置及びその回収制御方法、並びに、該処理廃液回収装置を適用した現像装置を提供する。 - 特許庁

This method comprises the steps of embedding a conductive metallic material into fine recesses formed in a substrate, such as a semiconductor wafer (step 1), polishing the surface of the metallic material by a mechanical and chemical operation using a working solution (including a polishing solution, a chemical solution and a cleaning solution) from the outermost layer of the buried metal (step 2), whereby an interconnection structure is prepared.例文帳に追加

半導体ウエハ等の基材に設けた微細な凹みに導電性の金属材料を埋込み（工程１）、その後埋込み金属の最外層側から、金属材料表面を作業液（研摩液や薬液、洗浄液を含む）を用いて機械的・化学的作用によって研摩する（工程２）ことによって配線構造を製造する。 - 特許庁

A supply amount control unit 81 controls a mass flow controller 74 so that the developing solution is supplied to the developing solution discharging nozzle 30 with a specified flow rate, wherein the width of the developing solution discharged out of the slit 31 becomes equal to the width of the substrate W immediately below the developing solution discharging nozzle 30 moved by the nozzle driving unit 21.例文帳に追加

そして送給量制御部８１は、スリット３１から吐出される現像液の幅がノズル駆動部２１によって移動される現像液吐出ノズル３０の直下における基板Ｗの幅と等しくなる特定流量にて現像液を現像液吐出ノズル３０に送給するようにマスフロコントローラ７４を制御する。 - 特許庁

A cationic polymer containing solution, a fine particle dispersion and a rigid film agent solution are mixed, and dispersed to prepare a dispersion, and a low polymerization degree polyvinyl alcohol aqueous solution and a high polymerization polyvinyl alcohol aqueous solution are added in the above order in the dispersion to form a coating fluid, and the coating fluid thus prepared is applied on a substrate to manufacture an ink-jet recording paper.例文帳に追加

カチオン性ポリマー含有溶液と微粒子分散液および硬膜剤溶液を混合した後、分散して得られる分散液に、低重合度ポリビニルアルコール水溶液および高重合度ポリビニルアルコール水溶液をこの順に添加して得られる塗布液を支持体上に塗布して得られることを特徴とするインクジェット記録用紙。 - 特許庁

The temperature of the developing solution is set to be different from an ambient temperature, when a substrate S is dipped into a developing solution kept in a container 2A for developing, whereby a control system can be simplified, and a development control can be carried out efficiently.例文帳に追加

基材Ｓを溶液２Ａ内の現像液に浸漬して現像を行うに当たり、現像液温度と雰囲気温度とを異ならせることで、制御系が簡素化され、効率の良い制御が可能となる。 - 特許庁

In a method for handling the fine particles, the fine particles mixed with a solution are spread on the substrate, ultrasonic waves are applied to the fine particles, the fine particles and the solution are conveyed, mixed, flocculated, and concentrated or separated.例文帳に追加

本発明の微粒子のハンドリング方法は、溶液と混合された微粒子を基板上に展開し、これに超音波を印加し、微粒子と溶液を搬送、混合、凝集、濃縮又は分離することを特徴とする。 - 特許庁

Thus, even if a small amount of the washing solution is sprayed, the washing solution is always filled between the spraying port 22 and glass substrate G to effectively apply the washing effect by ultrasonic wave.例文帳に追加

これにより、少ない量の洗浄液を噴射した場合であっても、常に噴射口２２とガラス基板Ｇとの間に洗浄液が満たされるので、超音波による洗浄効果を有効に作用させることができる。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning apparatus in which concentration change of an aqueous solution of hydrogen peroxide and chelating agents as a cleaning fluid can be minimized and, as a result, the material cost of the aqueous solution of hydrogen peroxide and chelating agents used can be reduced.例文帳に追加

洗浄液としてのキレート過水液の濃度変化を抑制することが可能であり、その結果、使用するキレート過水液の材料費を低減することが可能な基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁

The flow passage 3 has a pair of inflow openings 4, 4, for example, at the cover part of a glass or silicon substrate for injecting a solution to be mixed, and an outflow opening 5 for discharging the mixed solution.例文帳に追加

この流路３は、例えばガラスまたはシリコン基板の蓋部分に混合する溶液を注入するための、一対の流入口４、４と、混合された溶液を吐出するための流出口５とを有する。 - 特許庁

To prevent short circuit, disconnection, etc. caused by the variations in the thickness of circuit patterns, that are repeatedly laminated on a substrate by discharging a solution for conductive patterns and a solution for insulating patterns from a liquid discharge head.例文帳に追加

液体吐出ヘッドから導電パターン用溶液や絶縁パターン用溶液を吐出することによって基材上に繰り返し積層される回路パターンの、厚さのばらつきに起因するショートや断線等を防ぐ。 - 特許庁

A rinsing process with a chelate aqueous solution is prepared after an HPM treating process is carried out, so that the speed of removing heavy metal particles from the surface of the substrate is accelerated by the metal sealing mechanism of a chelating agent contained in the chelate aqueous solution.例文帳に追加

ＨＰＭ処理工程の後に、キレート水によるリンス工程を設けることにより、キレート水に含まれるキレート剤の金属封鎖機構によって基板表面からの重金属の除去速度を速める。 - 特許庁

To provide a method for correcting a letterpress plate for printing an alignment layer solution, with which a defective pattern section of a printing plate for printing the alignment layer solution is corrected for the purpose of uniformly printing an alignment layer on a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板に配向膜を均一に印刷することができるように配向膜溶液印刷用版のパターン欠陥部を修正する配向膜溶液印刷用凸版の修正方法を提供する。 - 特許庁

A discharge amount of a developer solution discharged to an upper part (a) (mountain side) of a slope of a glass substrate 1 is controlled to be 10 to 50% based on 100% discharge amount of the developer solution discharged to a lower part (b) (valley side) of the slope.例文帳に追加

ガラス基板１の傾斜上部（山側）ａ側に吐出する現像液の吐出量を、傾斜下部（谷側）ｂ側に吐出する現像液の吐出量１００％に対して１０〜５０％とする。 - 特許庁

To remove foreign substances derived from the glass substrate and deposited on the surface of the tool for heat treatment at the time of heat treatment, the tool for heat treatment is immersed alternately in an acidic solution and an alkaline solution at least one time.例文帳に追加

熱処理時に熱処理用治具の表面に付着したガラス基板に起因する異物を除去するにあたり、熱処理用治具を酸性溶液及びアルカリ性溶液で交互に少なくとも１回以上浸漬する。 - 特許庁

This configuration allows the highly-concentrated hydrophobizing gas to be fed to the substrate, and also allows deterioration of the chemical solution to be suppressed because the stored chemical solution does not make contact with the carrier gas when treatment is not performed.例文帳に追加

この構成によって基板に高濃度の疎水化ガスを供給することができ、処理を行わないときには貯留された薬液がキャリアガスに接触することがないので、薬液の劣化が抑えられる。 - 特許庁

The reforming treatment solution containing the coupling agent increases affinity between the substrate for the fuel cell diffusion layer and the water repellent solution, and prevents or suppresses drop in water repellency in the fuel cell diffusion layer.例文帳に追加

カップリング剤を含有する改質処理液は、燃料電池拡散層用基材と撥水処理液との間の親和性を向上させ、燃料電池拡散層における撥水性の低下を防止または抑制する。 - 特許庁

By applying a voltage to the pair of electrodes 20a and 20b, oxygen is generated in the plating solution 5 through electrolysis of water contained in the plating solution 5, and the plating film is formed on the substrate P.例文帳に追加

そして、一対の電極２０ａ，２０ｂに電圧を印加し、めっき液５中に含有された水を電気分解することでめっき液中に酸素を発生させるとともに、基材Ｐにめっき膜を形成する。 - 特許庁

The temperature of the processing solution is ≤18°C during the ultrasonic washing, so particles sticking on the substrate are removed with a physical force resulting from a cavitation phenomenon of the gas dissolved in the processing solution.例文帳に追加

前述の超音波洗浄においては、処理溶液の温度が１８℃以下であるため、処理溶液中の溶存ガスのキャビテーション現象に起因する物理力によって、基板に付着したパーティクルが除去される。 - 特許庁

There is at least one means that sprays the aqueous solution at a high pressure and the spraying means is arranged in such a manner that the streamline of the aqueous solution sprayed by the means is approximately orthogonal to the axial direction of the substrate.例文帳に追加

前記高圧で水溶液を噴射する手段が少なくとも１つ存在し、これにより噴射される前記水溶液の流線が前記支持体軸方向に対し略直交するよう配置される。 - 特許庁

The electronic substrate 20A is immersed in moisture-proof solution 51 with which a diluent material is mixed, the moisture-proof solution 51 flows in from the outer periphery of the gap space part 43 and the through hole 22, and film coating is performed by heating and drying.例文帳に追加

電子基板２０Ａは希釈材を混合した防湿材溶液５１に浸漬され、間隙空間部４３の外周と貫通孔２２から防湿材溶液５１が流入し、加熱乾燥によって塗膜が行われる。 - 特許庁

Thereafter, the developing solution discharge nozzle 11 moves at a constant scanning speed V1 passing through the substrate edge point 23, stops discharging a developing solution at a discharge stop position P3, and finishes its scanning operation at a scanning stop position P4.例文帳に追加

その後、現像液吐出ノズル１１は一定の走査速度Ｖ１で移動し基板端縁位置Ｐ２３を通過し、吐出終了位置Ｐ３で現像液の吐出を終了し、走査停止位置Ｐ４で走査を終了する。 - 特許庁

At the time of etching a film formed on a lower substrate and composed of an aluminum oxide or aluminum silicate, an aqueous solution containing a fluorine compound, organic acid, hydrogen peroxide solution, and organic alkali is used as the etchant.例文帳に追加

下層基板上に形成された酸化アルミニウム、あるいは、珪酸アルミニウムからなる膜をエッチングする際に、エッチング液として、フッ素化合物、有機酸、過酸化水素水及び有機アルカリを含む水溶液を用いる。 - 特許庁

The metal supply part MS1 supplies a metal chemically reacting with the polishing solution SLp to the polishing solution SLp supplied to the polishing cloth CL in the outside of a region where the substrate SB contacts the polishing cloth CL.例文帳に追加

金属供給部ＭＳ１は、研磨布ＣＬに供給された研磨液ＳＬｐに、研磨液ＳＬｐと化学反応する金属を、基板ＳＢと研磨布ＣＬとが接触する領域の外部で供給する。 - 特許庁

An aqueous solution containing one or more acetylenic diol type surfactants which are used to improve the wettability of a substrate surface by lowering the contact angle of the aqueous developer solution is provided.例文帳に追加

水性現像溶液の接触角を低下させることにより基材表面の濡れ性を改良するために用いられる１又はそれよりも多くのアセチレンジオール型界面活性剤を含有する処理溶液を提供する。 - 特許庁

Thereby, the protective layer 17 protects the electrode layer and the adhesion layer from the alkaline solution, so that there can be prevented such a phenomenon that the electrode layer and the adhesion layer are corroded by the alkaline solution and the semiconductor layer 21 is peeled off from the support substrate.例文帳に追加

これにより、保護膜１７がアルカリ性溶液から電極層や接着層を保護するため、これらがアルカリ性溶液により浸食されて半導体層２１が支持基板から剥がれる現象を防止できる。 - 特許庁

To provide a method of surface treating a substrate which can remove organic residues, such as a release solution and a resist residue, etc. effectively without giving a damage to a compound semiconductor exposed after resist lift-off by the release solution.例文帳に追加

剥離液によるレジストリフトオフ後に露出した化合物半導体にダメージを与えることなく、剥離液やレジスト残渣等の有機残留物を効果的に除去できる基板表面処理方法を提供する。 - 特許庁

In this manner, lead of a constituent element of the water solution of lead nitrate reacts with sulfur of a constituent of the water solution of sodium sulfide to form a compound of lead sulfide on the surface of the substrate.例文帳に追加

これにより、前記硝酸鉛水溶液の構成元素である鉛と、前記硫化ナトリウム水溶液の構成元素である硫黄との化合物である硫化鉛が前記基板の表面に合成されて形成される。 - 特許庁

The X-ray transmissive substrate 21 is heated by a laser on an underside of a portion where the gold colloidal solution 30 is applied, so that the gold colloidal solution 30 inside the groove 22 is desiccated so that only gold colloidal particles remain inside the groove 22.例文帳に追加

Ｘ線透過性基板２１の金コロイド溶液３０が塗布された部分の下面側をレーザにより加熱し、金コロイド溶液３０を乾燥させ、溝２２内に金コロイド粒子のみを残留させる。 - 特許庁

After the silicon substrate is rinsed with an extrapure water for 5 minutes, the silicon substrate 1 is immersed in a perchloric acid water solution of 72.4 vol% concentration heated at 203°C for 37 minutes, to form a silicon oxide film 5 on the surface of the silicon substrate 1.例文帳に追加

シリコン基板１を超純水で５分間リンス（洗浄）した後、このシリコン基板１を、２０３℃に加熱した濃度７２．４vol.％の過塩素酸水溶液８に３７分間浸漬し、シリコン基板１の表面にシリコン酸化膜５を形成する。 - 特許庁

A substrate is dispersed in a solution containing a functional group exposed to the surface of a substrate and an organic compound having a functional group that is capable of organochemically reacting, and then a microwave is irradiated, thus forming the organic functional thin film on the substrate.例文帳に追加

基板表面上に露出している官能基と、有機化学的に反応可能な官能基を有する有機化合物を含む溶液に前記基板を浸漬し、マイクロ波を照射することにより、前記基板上に有機機能性薄膜を形成する。 - 特許庁

A liquid droplet of a solution containing a functional material (organic EL material) is injected and given on the rectangular substrate 14 to manufacture the functional element substrate (organic EL substrate) on which the group of functional elements (group of organic EL elements) is formed like a matrix.例文帳に追加

矩形状の基板１４上に、機能性材料（有機ＥＬ材料）を含有する溶液の液滴を噴射、付与し、機能性素子群（有機ＥＬ素子群）がマトリックス状に形成された機能性素子基板（有機ＥＬ基板）を製造する。 - 特許庁

While applying a voltage between the silicon substrate 1 and a counter electrode 5 in the processing bath 2, the oxidizing solution 3, such as nitric acid, is made to react with the silicon substrate 1 so that a silicon dioxide film 15 is formed on the surface of the silicon substrate 1.例文帳に追加

処理槽２内に設置した、シリコン基板１と対向電極５との間で電圧を印加した状態で、シリコン基板１に硝酸等の酸化性溶液３を作用させて、前記シリコン１の表面に二酸化シリコン膜１５を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for the optical waveguide having an adhesive layer on the substrate comprises applying the adhesive layer material solution containing an organic aluminum compound dissolved in a solvent of a boiling point ≥150°C on the substrate and drying the coating.例文帳に追加

基板上に接着層を有する光導波路用基板の製造法であって、基板に、沸点１５０℃以上の溶媒に溶解した有機アルミニウム化合物を含む接着層材料溶液を塗布し、乾燥することを特徴とする方法。 - 特許庁

To provide an apparatus capable of uniformly treating a substrate without treatment unevenness and causing no damage on a coating deposited on the substrate in the case a substrate is washed with a treatment solution containing fine particles of ice.例文帳に追加

氷の微粒子を含む処理液を用いて基板の洗浄処理を行う場合において、処理むらを生じることなく均一な基板処理が可能であり、基板上に形成された被膜にダメージを与えることもない装置を提供する。 - 特許庁

This method for forming the air permeable film consists in forming the air permeable film on the substrate surface by simultaneously spraying a hydrophilic organic solvent solution of linear polyurethane and water to the substrate surface and depositing and solidifying the polyurethane resin on the substrate surface.例文帳に追加

線状ポリウレタンの親水性有機溶剤溶液と水とを同時に基体表面に噴射し、基体表面においてポリウレタン樹脂を析出凝固させ、基体表面に通気性被膜を形成することを特徴とする通気性被膜の形成方法。 - 特許庁

The method for forming the organic molecular film on a substrate is characterized by immersing the substrate into a solution containing an organic compound having a functional group capable of organic chemically causing a reaction with a functional group exposed to the surface of the substrate and irradiating microwave thereto.例文帳に追加

基板表面上に露出している官能基と、有機化学的に反応可能な官能基を有する有機化合物を含む溶液に前記基板を浸漬し、マイクロ波を照射することにより、前記基板上に有機分子膜を形成する。 - 特許庁

The method for electroless plating has a process step of bringing a substrate W into contact with the inside of an electroless plating solution 50 and forming the plating film on the surface of the substrate W and a process step of rubbing the surface of the plating film formed on the surface of the substrate W with a scrubbing member 56.例文帳に追加

基板Ｗを無電解めっき液５０中に接触させて該基板Ｗの表面にめっき膜を形成する工程と、基板Ｗの表面に形成されるめっき膜の表面をスクラブ部材５６で擦る工程とを有する。 - 特許庁

This method for producing a langasite-based single crystal substrate comprises a step for polishing at least either one main face of a raw material substrate and a step for carrying out wet etching of main face of the polished substrate in a solution containing H3PO4, HNO3 and CH3COOH.例文帳に追加

ランガサイト系単結晶基板の製造方法は、原料基板の少なくとも一方の主面を研磨する工程と、この研磨した基板の主面をＨ_3ＰＯ_4、ＨＮＯ_3およびＣＨ_3ＣＯＯＨを含む溶液で湿式エッチングする工程とを備える。 - 特許庁

The surface W1 to be plated is plated by interposing the plating solution between the surface-to-be-plated W1 of the substrate W mounted to face downward and the anode arranged below the substrate W and applying voltage between the substrate W and the anode 20.例文帳に追加

下向きにした基板Ｗの被めっき面Ｗ１と、基板Ｗの下方に設置したアノード２０との間にめっき液Ｑを介在した状態で基板Ｗとアノード２０間に電圧を印加することで、被めっき面Ｗ１にめっきを行う。 - 特許庁

Next, the surface layer of the substrate is pressed against the fixed abrasive grain polishing pad, at a portion where the planarizing solution exists and at least one of the fixed abrasive grain polishing pad or the substrate moves relative to the other, to eliminate material from the surface of the substrate.例文帳に追加

次に、基板の表面層は、平坦化溶液の存在するところで固定砥粒パッドに対して押圧され、固定砥粒パッドまたは基板のうち少なくとも一方は他方に相対して移動し、基板の表面から材料を除去する。 - 特許庁

This method for production of a physiologically active substance-immobilized substrate includes steps of applying, to a metal substrate having a layer for immobilizing a physiologically active substrate, a solution containing a physiologically active substance capable of forming a covalent bond with a molecule constituting the layer for immobilizing a physiologically active substance, and then drying the solution.例文帳に追加

生理活性物質を固定化するための層を有する金属基板に、該生理活性物質を固定するための層を構成する分子と共有結合を形成することができる生理活性物質を含む溶液を塗布する工程、及びその後に乾燥する工程を含むことを特徴とする、生理活性物質固定基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film of a low molecular weight compound at a predetermined position on a substrate in the method for forming the thin film on the substrate by discharging a solution in which a thin film forming material is dissolved in a solvent, arranging a plurality of droplets of the solution on the substrate and evaporating the solvent from each of the droplets.例文帳に追加

薄膜形成材料が溶媒に溶解している溶液を吐出することにより、前記溶液の液滴を基板上に複数個配置し、各液滴から溶媒を蒸発させることにより前記基板上に薄膜を形成する方法において、基板上の所定位置に低分子化合物の薄膜を形成できるようにする。 - 特許庁