「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

The organic dye film is formed by applying a solution of the organic dye on the substrate, and the oxide film is formed by vapor deposition on the organic dye film.例文帳に追加

基板に、有機色素の溶液を塗布して有機色素膜を形成し、有機色素膜の上に蒸着により酸化物膜を形成する。 - 特許庁

A cleaning nozzle 102 is made to scan at a certain speed along the liquid level of a developing solution 107 on a semiconductor substrate 106 (work).例文帳に追加

洗浄用ノズル１０２を、半導体基板１０６（＝被処理基板）上の現像液１０７の液面に沿って、一定の速度でスキャン（＝走査）させる。 - 特許庁

This ink-jet recording medium has a coating layer formed by coating the aqueous solution on a substrate.例文帳に追加

そして、本発明のインクジェット記録用媒体は、支持体上に、上記本発明の水性組成物を塗工してなる塗工層が設けられている。 - 特許庁

A photosensitive polyimide solution is applied on a substrate 1 and after its solvent is evaporated by heating, the coating is etched to a desired shape by photolithography.例文帳に追加

基板１上に感光性ポリイミド溶液を塗布し、加熱して溶媒を揮発させるた後に、所望の形状にフォトリソによりエッチングを行う。 - 特許庁

Mixed solution of a soluble fluorine resin and an ethylene compound substance is applied to be moisture-proof treated on the end face of the glass substrate and the birefringent substance film.例文帳に追加

ガラス基板と複屈折性物質フィルムの端面に可溶性フッ素樹脂とエチレン系化合物の混合溶液を塗布して防湿処理する。 - 特許庁

A pattern is formed by coating the photosensitive composition on a substrate, subjecting the composition to image-wise exposure, treating the same with an aqueous alkaline solution, and then firing.例文帳に追加

この感光性組成物を基材上に塗布し、像様露光し、アルカリ水溶液で処理し、焼成することによりパターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a coater in which a coating pattern of a solution applied from nozzles onto a substrate can be controlled with good accuracy.例文帳に追加

この発明はヘッドのノズルから基板に塗布される溶液の塗布パターンを精度よく制御できるようにした塗布装置を提供することにある。 - 特許庁

If necessary, the substrate is immersed into a substitution solution containing a metal potentially nobler in electrical conductivity than a metal included in the conducting material.例文帳に追加

必要に応じて、導電化材料に含まれる金属より導電性が高く電位的に貴な金属を含む置換溶液に基体を浸漬する。 - 特許庁

To provide a production method for an SiC single crystal suitable as a substrate material for electronic and optical devices, by a solution growth method.例文帳に追加

電子デバイス、光学デバイス用基板材料として好適な炭化珪素単結晶の溶液成長法による製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize an electroplating apparatus which can deposit a plating having a uniform film thickness on a substrate to be plated by using a smaller amount of plating solution.例文帳に追加

より少ないメッキ液の使用量で、被メッキ材に対して均一な膜厚のメッキを形成させることができる電解メッキ装置を実現する。 - 特許庁

Also, it is not necessary to separately remove the sensitized solution of the substrate edge posterior to the execution of the evaporation process, and it is possible to largely improve productivity.例文帳に追加

また、蒸着工程実施後に別途に基板縁部の感光液を除去させる必要がないので、生産性を大きく向上させうる。 - 特許庁

To provide a lithographic device in which exposure is performed by projection through aqueous solution less than pH 7 in contact with a substrate to be projected.例文帳に追加

露光すべき基板と接触したｐＨ７未満の水溶液を通した投射によって露光が実行されるリソグラフィック装置が提供される。 - 特許庁

To provide a development processing method for enabling a high quality substrate to be obtained by uniformizing a development processing and reducing any residual of a developing solution.例文帳に追加

現像処理を均一化し、現像液の残渣の低減せしめて高品質な基板を得ることを可能とする現像処理方法を提供する。 - 特許庁

A nanowire solution, which is obtained by dispersing the nanowires into a solvent having a refractive index lower than that of the nanowires 12, is applied to the surface of the substrate 12 (A).例文帳に追加

ナノワイヤ１２よりも低い屈折率を持つ溶媒中にナノワイヤを分散してなるナノワイヤ溶液を、基板１２の表面に塗布する（Ａ）。 - 特許庁

This biosensor comprises a substrate with a surface modified with a compound, having the maximum solution adsorption in 450 nm or longer and can be adsorbed by metals.例文帳に追加

溶液吸収極大が450nm以上であり、かつ金属に吸着できる化合物で表面が修飾されている基板から成るバイオセンサー。 - 特許庁

While the substrate 43 is being conveyed almost horizontally, the polyurethane resin solution 45 flows so as to allow a portion which is large in thickness to become smaller.例文帳に追加

基材４３が略水平に搬送される間にポリウレタン樹脂溶液４５の厚さの大きな部分が小さくなるように流動する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for forming a silicon nitride film having a small etching grade against an HF system solution without raising a film forming temperature.例文帳に追加

ＨＦ系溶液に対するエッチングレートが小さいシリコン窒化膜を、成膜温度を上げることなく形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

An alkaline solution is used as an etchant to selectively remove the crystal reversal region 32 by etching, and divide the substrate 3.例文帳に追加

エッチャントとしてアルカリ性水溶液を用いることにより、結晶反転領域３２が選択的にエッチング除去され、基板３が分割される。 - 特許庁

To provide a one-package substrate solution for assaying enzyme activities, stable over a long period by improving the solubility of 3,3',5,5'- tetramethylbenzidine.例文帳に追加

３，３'，５，５'−テトラメチルベンジジンの溶解性を向上させ、一液性でかつ長期間に渡り安定な酵素活性測定用の基質溶液の提供。 - 特許庁

The first ozone solution easily erodes the resin substrate, and easily forms a modifying layer even when organic stain is deposited on its surface.例文帳に追加

第１のオゾン溶液は樹脂基板を浸食し易いため、表面に有機物汚れが付着していても改質層を容易に形成する。 - 特許庁

The germanium film is formed by applying a solution of the germanium polymer onto a substrate surface, heating and then subjecting the coating film to treatment with heat and/or light.例文帳に追加

また、このゲルマニウムポリマーの溶液を基体表面上に塗布し、加熱し次いで熱および／または光で処理してゲルマニウム膜を形成する。 - 特許庁

To recover/remove metal ions contained in a processing solution by the use of an oxidation-reduction reaction so as to prevent them from affecting a substrate adversely.例文帳に追加

酸化還元反応を利用することにより、処理液中の金属イオンを回収・除去して基板への悪影響を防止することができる。 - 特許庁

The DNA solution is deposited over the electrodes and dried, and then the deposition is removed from the substrate, except in a region between the electrodes.例文帳に追加

このＤＮＡ溶液を電極が覆われるように付着させ、乾燥後、付着物を基板から除去する（但し、電極間の領域を除く）。 - 特許庁

A pump 5, for feeding a sample solution which is a measuring object to a flow channel 3, is disposed at a start edge of the flow channel 3 formed on a substrate 2.例文帳に追加

基板２に形成された流路３の始端部に、測定対象の試料溶液を流路３に送液するためのポンプ５を設ける。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus which uniformize the flow of the treatment solution and allows the uniform treatment on substrates on the bottom surface of a treatment tank.例文帳に追加

処理槽底面の被処理基板上で処理液の流れが均一になり、均一な処理が可能になる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The ferroelectric thin film is formed by applying a material prepared by adding water into a sol gel solution containing a ferroelectric material and silicate, applying on a substrate, then, drying and firing.例文帳に追加

強誘電体材料およびシリケートを含むゾルゲル溶液に水を添加したものを基板上に塗布したのち、乾燥・焼成する。 - 特許庁

A high resistance element 324 of electric conductivity smaller than the electric conductivity of the plating solution 45 is arranged between the substrate W and the anode 48.例文帳に追加

めっき液４５の電気伝導率よりも小さい電気伝導率の高抵抗要素３２４を基板Ｗとアノード４８との間に配置する。 - 特許庁

Since a spin coating method is not employed, the resist solution can be reduced and the wasteful part such as the flange part or the like in the periphery of the substrate can be omitted.例文帳に追加

スピンコート法によらないためレジスト溶液が少量で済み、基材の外周におけるつば部等の無駄な部分を省略できる。 - 特許庁

The dye-sensitized solar cell is provided with a first substrate 3, a second substrate 5 arranged in parallel with the first substrate 3, an electrode chamber 7 formed between the first substrate 3 and the second substrate 5, and an electrolyte layer 9 consisting of a liquid electrolyte (that is, liquid electrolytic solution adding organic solvent in ionic liquid).例文帳に追加

色素増感型太陽電池１は、第１基板３と、第１基板３と平行に配置された第２基板５と、第１基板３と第２基板５との間に形成された電極室７と、電極室７内に充填された液体電解液（即ちイオン液体に有機溶媒を加えた液体電解液）からなる電解質層９とを備えている。 - 特許庁

The oxide coating film is formed on a metallic titanium substrate by reforming the oxide coating film on a metallic titanium substrate by anodizing the metal titanium substrate or a metallic titanium substrate obtained by burning the metallic titanium substrate having an oxide coating film on the surface in vacuum in an electrolyte-containing solution less than 10°C.例文帳に追加

金属チタン基体又は表面に酸化被膜を有する金属チタン基体を真空中で焼成して得た金属チタン基体に、１０℃未満の電解質含有溶液中で陽極酸化することにより該金属チタン基体表面に酸化被膜を再形成することを特徴とする金属チタン基体上への酸化被膜の形成方法。 - 特許庁

The cleaning method of semiconductor substrate includes supplying deionized water on the surface of the semiconductor substrate while rotating the semiconductor substrate to form a covering layer of the deionized water on the whole surface, supplying an aqueous solution of hydrofluoric acid while applying ultrasonic wave on the surface of the semiconductor substrate simultaneously, and performing cleaning of semiconductor substrate surface while preventing the attachment of particle.例文帳に追加

半導体基板を回転させながら上記半導体基板の表面に純水を供給して全面に純水の被覆層を形成し、同時に上記半導体基板の表面に超音波を印加しながらフッ化水素酸水溶液を供給して、パーティクルの付着を防止しつつ半導体基板表面の洗浄を行う。 - 特許庁

The method of producing alkaline accumulators includes a filling cycle composed of an immersion process of immersing a porous sintered substrate in a aqueous solution mainly containing nitrate, an intermediate drying process of heating and drying the porous substrate immersed in this solution mainly containing nitrate, an alkaline immersing process of immersing the dried substrate in an alkaline solution, and a washing process for removing alkali.例文帳に追加

本発明のアルカリ蓄電池の製造方法は、多孔性焼結基板を硝酸塩を主体とする水溶液に浸漬する浸漬工程と、この硝酸塩を主体とする水溶液に浸漬された多孔性焼結基板を加熱して乾燥する中間乾燥工程と、中間乾燥された多孔性焼結基板をアルカリ溶液中に浸漬するアルカリ浸漬工程と、アルカリ分を除去する水洗工程とからなる充填サイクルを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing the ZnO nanowire by using ultrasonic energy comprises: a first step of forming a Zn layer on the surface of a substrate; a second step of patterning the Zn layer; and a third step of putting the resulting substrate in a mixed solution of a Zn-containing solution with a Zn ionization solution and forming the ZnO nanowire on the Zn layer by using an ultrasonic generator.例文帳に追加

基板の表面にＺｎ層を形成する第１段階と、Ｚｎ層をパターニングする第２段階と、基板をＺｎを含む溶液とＺｎをイオン化する溶液との混合溶液に入れ、超音波発生器を使用し、Ｚｎ層上にＺｎＯナノワイヤを形成する第３段階とを含むことを特徴とする超音波エネルギーを利用したＺｎＯナノワイヤの製造方法である。 - 特許庁

The developing method (substrate processing method) for developing a resist layer 101 disposed on a substrate 100 includes a solution layer formation step of supplying a developer onto the resist layer 101 and forming a solution layer 102 on the resist layer 101 using a surface tension of the developer, and a processing step of advancing development of the resist layer 101 by the solution layer 102.例文帳に追加

この現像方法（基板処理方法）は、基板１００上に配置されたレジスト層１０１を現像する現像方法であって、レジスト層１０１上に現像液を供給し、現像液の表面張力を利用してレジスト層１０１上に液層１０２を形成する液層形成工程と、液層１０２によるレジスト層１０１の現像を進行させる処理工程と、を備える。 - 特許庁

This substrate processing system is provided with coating equipment 3 having a pin 14 vertically operating in such a state that a substrate W is placed for transferring a substrate W coated with a coating solution and a conveyance device 5 having a hand part 31 approaching and leaving the coating equipment 3 for conveying the substrate W.例文帳に追加

塗布液を塗布した基板Ｗを渡すために当該基板Ｗを載せた状態で上下動作するピン１４を有している塗布装置３と、前記基板Ｗを搬出するために塗布装置３に対して接近離反移動するハンド部３１を有している搬出装置５とを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a thin film includes: a step of placing a substrate 20 in a raw material solution which is a material of a thin film formed on a first main surface 20a of the substrate 20; and a step of forming a thin film on the first main surface 20a of the substrate 20 by lighting the substrate 20 from the first main surface 20a side.例文帳に追加

薄膜製造方法であって、基板２０の第１主面２０ａ上に形成させる薄膜の原料溶液中に、基板を配置する配置工程と、第１主面２０ａ側から光を照射することにより、基板２０の第１主面２０ａ上に薄膜を形成する形成工程とを有する。 - 特許庁

The glass substrate for the FPD, on whose substrate a prescribed pattern is formed, is manufactured by forming a coating layer 2 on a part of the surface of a glass substrate 1, then treating the coated glass substrate 1 with an etching solution containing hydrofluoric acid so as to etch the glass surface except the part where the coating layer has been formed, and removing the coating layer.例文帳に追加

ガラス基板１の表面の一部に被覆層２を形成し、フッ酸を含有するエッチング液で処理することにより、被覆層が形成された部分以外のガラスの表面をエッチングし、その後被覆層を除去することにより、基板表面が所定の形状にパターニングされたＦＰＤ用ガラス基板を製造する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for controlling the pH of an aqueous solution capable of simply and precisely controlling the pH and oxidation and reduction potential(ORP) of washing water in order to obtain higher washing effect in washing water of wet washing in a process of manufacturing for a semiconductor substrate, a liquid crystal substrate, a magnetic substrate or a superconductive substrate.例文帳に追加

半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水においてより高い洗浄効果を得るために、洗浄水のｐＨと酸化還元電位（ＯＲＰ）をより簡便かつ精密に制御できる水溶液のｐＨ制御の方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

In the inspection method of the substrate for the electrooptical device for detecting the substrate used in the electrooptical device, the substrate 10 is immersed in a solution prepared by dissolving a gas in a solvent and the flaw 15 is detected by observing the occurrence of the gas bubbles 16 from the surface of the substrate 10.例文帳に追加

電気光学装置に用いられる基板の欠陥を検出する電気光学装置用基板の検査方法であって、溶媒にガスを溶解させた溶液に基板１０を浸し、基板１０の表面から気泡１６の発生状態を観察することにより欠陥１５を検出することを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing the thin film comprises the steps of: introducing hydrogen into a silicon substrate; heating the silicon substrate so that the surface temperature of the silicon substrate becomes 350°C to 500°C; spraying a solution containing the raw material of the thin film onto the surface of the silicon substrate of 350°C to 500°C.例文帳に追加

シリコン基板に水素を導入する工程と、シリコン基板の表面温度が３５０℃以上５００℃以下となるようにシリコン基板を加熱する工程と、３５０℃以上５００℃以下のシリコン基板の表面に薄膜の原料を含む溶液を噴霧する工程とを含む薄膜の製造方法である。 - 特許庁

In the etching method and apparatus, which immerses a substrate into a chemical to dissolve unwanted thin film and ejecting a cleaning solution from a nozzle above a liquid surface of the chemical, when the substrate is moved up to clean the substrate, prior to dried and deposition of particles on the surface of the substrate, thus reducing particle deposition.例文帳に追加

不要薄膜を溶解する薬液に基板を浸漬させた後、基板を上昇させる時に薬液の液面上部のノズルから洗浄液を吐出することにより、パーティクルが基板表面に乾燥固着する前に洗浄することでパーティクル付着を低減するエッチング方法及びエッチング装置。 - 特許庁

In a substrate treatment apparatus, provided with a substrate heat-treating unit group comprising a hot plate for heating a substrate supported over the upper surface thereof, an agent solution treating section, and a substrate transfer robot, a treatment chamber for the hot plate, is isolated from a receiving unit AS by a bottom plate 71a on it.例文帳に追加

基板Ｗを上面に支持して加熱するホットプレートＨＰを備えた基板熱処理ユニット群１１０と、薬液処理部２と、基板搬送ロボット３とを備えた基板処理装置において、 ホットプレートＨＰ６の処理室５０は、その上の底板７１ａにより、収納ユニットＡＳと隔絶されている。 - 特許庁

The method of manufacturing the thin film comprises processes of: introducing hydrogen into a silicon substrate; heating the silicon substrate so as to keep the surface temperature of the silicon substrate in a temperature range of 350 to 500°C; and spraying a solution containing material of the thin film on the surface of the silicon substrate kept at a temperature of 350 to 500°C.例文帳に追加

シリコン基板に水素を導入する工程と、シリコン基板の表面温度が３５０℃以上５００℃以下となるようにシリコン基板を加熱する工程と、３５０℃以上５００℃以下のシリコン基板の表面に薄膜の原料を含む溶液を噴霧する工程とを含む薄膜の製造方法である。 - 特許庁

In the substrate plating apparatus, in which a substrate 2 to be plated and an anode electrode 3 are arranged facing each other in a plating tank 1 storing a plating solution, a porous plate to increase the electric resistance between the substrate 2 and the anode electrode 3 is arranged between the substrate 2 and the anode electrode 3.例文帳に追加

メッキ液を収容したメッキ槽１内にメッキを施す被メッキ基板２と陽極電極３を対向して配置した構成の基板メッキ装置において、被メッキ基板２と陽極電極３との間に該被メッキ基板２と陽極電極３の間の電気抵抗を増大させる多孔質板を配置した。 - 特許庁

In this coating method, the resist solution is atomized by a spraying method or an ink jet method to be bonded to the surface of the substrate 10 and the resist film on the surface of the substrate is leveled by the heat treatment of the substrate to obtain the resist film 13 having a uniform film thickness.例文帳に追加

この塗布方法は、噴霧法またはインクジェット法によりレジスト溶液を微粒子化して基材１０の表面に付着させてから、基材を熱処理することで基材の表面上のレジスト膜をレベリングし、均一な膜厚のレジスト膜１３を得る。 - 特許庁