「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a plating apparatus which can remove any gas present between a substrate and a plating solution within a short period of time, and a plating process therefor.例文帳に追加

短時間で基板とめっき液との間の気体を排除することができるめっき装置およびめっき方法を提供する。 - 特許庁

The treatment solution is made into an atomized state with average grain size of 1 to 60 μm and jetted against the substrate 1.例文帳に追加

前記処理液を平均粒径１μｍ以上６０μｍ以下である霧状にして基板１に吹き付けることを特徴としている。 - 特許庁

Therefore, metal ions contained in the processing solution can be recovered/removed and prevented from having an adverse effect on the substrate.例文帳に追加

したがって、処理液に含まれている金属イオンを回収・除去でき、金属イオンに起因する基板への悪影響を防止できる。 - 特許庁

To provide an etching solution for producing a photomask comprising a glass substrate of quartz glass or the like used in the production of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の製造に使用する石英ガラス等のガラス基板からなるフォトマスクを製造するために使用するエッチング液。 - 特許庁

A defective substrate for a color filter is brought into contact with an aqueous solution, containing a water-soluble organic amine compound and an inorganic alkali metal compound.例文帳に追加

水溶性有機アミン化合物と無機アルカリ金属化合物を含有する水溶液にカラーフィルターの不良基板を接触させる。 - 特許庁

The poly(fluoroalkyl ether) is dissolved in the supercritical or the subcritical fluid and this solution is spouted out of a fine pore to a substrate.例文帳に追加

ポリ（フルオロアルキルエーテル）を超臨界または亜臨界流体に溶解させ、微小な孔から基体に向けて吹き出すことにより行う。 - 特許庁

The substrate convertible to the D-amylose is D-psicose, and the enzymic reaction product is a mixed solution of the D-psicose and the D-amylose.例文帳に追加

Ｄ−アロースに変換可能な基質がＤ−プシコースであり、酵素反応産物がＤ−プシコースとＤ−アロースの混合溶液である。 - 特許庁

A titanium tetrachloride aqueous solution having 0.1 to 17 wt.% titanium content is applied in a film state on the surface of a substrate having acid resistance.例文帳に追加

Ｔｉ分が０．１〜１７重量％の四塩化チタン水溶液を耐酸性を有する基材の表面に膜状に塗布する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition developable with an aqueous alkali solution and excellent in adhesion to a substrate and developability.例文帳に追加

アルカリ水溶液での現像が可能、かつ基材との密着性、現像性に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A coating film composed of a urethane resin having water absorption properties is formed on a substrate and is coated with a coating solution for providing hydrophilicity.例文帳に追加

基材上に吸水性を有するウレタン樹脂よりなる被膜を形成し、これに親水性を付与するための塗布液を塗布する。 - 特許庁

A solution is achieved by the latent catalyst prepared by holding an acidic compound promoting the curing of a thermosetting compound on a porous substrate.例文帳に追加

熱硬化性化合物の硬化を促進する酸性化合物を多孔性基材に保持してなる潜在性触媒により達成される。 - 特許庁

The coloring matters to be mixed to the organic solution are changed, so that the multiwavelength and multifunctional thin film is formed on the same substrate.例文帳に追加

また、有機溶液に混合する色素を変えることにより、同一基板上に多波長、多機能の薄膜を形成することができる。 - 特許庁

To prevent sulfur residue and particles from remaining on the surface of a substrate after treatment with a mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水との混合液による処理後の基板の表面に硫黄残渣およびパーティクルが残ることを防止する。 - 特許庁

After that, ultraviolet rays are irradiated directed to the through-hole 2 in an HF solution to isolate the AlN layer 3 from the substrate 1.例文帳に追加

その後、ＨＦ溶液中において、貫通穴２に向けて紫外線を照射することにより、ＡｌＮ層３を基板１から分離する。 - 特許庁

The monomer is polymerized by irradiating the monomer with the anisotropic light after coating a solution comprising the monomer and a solvent having low boiling point to a substrate.例文帳に追加

また、モノマーの低沸点溶媒からなる溶液を基板に塗布した後、異方的な光を照射してモノマーを重合させる。 - 特許庁

In the method for the formation of the perovskite type or Bi sheet perovskite oxide thin film, the source solution is applied to a substrate and then baked.例文帳に追加

この原料溶液を基板に塗布した後、焼成するペロブスカイト型又はＢｉ層状ペロブスカイト型酸化物薄膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a processing apparatus and a method of processing in which metal contamination of a substrate is prevented when a pressurized processing solution is supplied.例文帳に追加

加圧された処理液を供給する際に，基板の金属汚染を防止することができる処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁

A coated film 13 is formed by applying a cholesteric liquid crystal solution on a glass substrate 11 having an aligning property by using a spinner or the like.例文帳に追加

配向能を有するガラス基板１１上に、コレステリック液晶溶液をスピンナー等を用いて塗布し、塗布膜１３を形成する。 - 特許庁

Further, a method of reducing the number of certain defects on a substrate after a plurality of CMP treatments using the process solution of the invention is disclosed.例文帳に追加

さらに、本発明のプロセス溶液を用いて、複数のCMP処理後の基材上にある欠陥の数を低減する方法が開示される。 - 特許庁

A space 99 formed of the substrate W and an anode 98 disposed close to and substantially parallel to the substrate W is filled with plating solution containing metal ion and additives, and the concentration of the additive in the plating solution in the plating space 99 is changed during the plating operation.例文帳に追加

基板Ｗと該基板Ｗに対して略平行に近接配置されたアノード９８で構成されるめっき空間９９に金属イオンおよび添加剤を含有するめっき液を満たし、めっき処理中の該めっき空間９９内のめっき液添加剤濃度を変化させる。 - 特許庁

Laser ablation is selectively applied to the underlying insulating substrate through the cover layer, and then the cover layer is treated with water, a dilute alkaline solution, or a dilute acid solution to remove the cover layer and to reveal one or more circuitry features on the insulating substrate, which are smaller than the ones obtained when the cover layer is not used.例文帳に追加

カバー層を介して下位の絶縁性基板にレーザアブレーションが選択的に行われ、次いで、水、希アルカリ溶液または希酸溶液で処理されて、カバー層が除去されて、カバー層が用いられない場合より小さい絶縁性基板上の１つ以上の回路構造機構が露呈される。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, a substrate processing method, a program, and a storage medium for recovering an extended amount of discharged solution when recovering and reusing the discharged solution discharged from a processing unit, and thereby reducing the amount of purified water to be used to lower the cost.例文帳に追加

処理部から排出される排液を回収して再利用するにあたりより多くの量の排液を回収することができ、このため純水の使用量を低減することができるのでコストを低減することができる基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する。 - 特許庁

By adjusting the position of the head 61 in the direction crossing the end fringe of the substrate 5, the cleaning width of the coating solution is made to be larger than the width of the upheaval part of the coating solution formed in the end fringe part of the substrate 5.例文帳に追加

そして、この塗布液除去ヘッド６１の位置を基板５の端縁と交差する方向に調整することにより、塗布液除去ヘッド６１による塗布液の洗浄幅が基板５の端縁部に形成される塗布液の隆起部の幅より大きくなるように調整する。 - 特許庁

Next, the resin substrate 1 is immersed into copper sulfate water solution as a absorption treating liquid 3, the potassium ion and copper ion are replaced , after an appropriate time, the resin substrate 1 is immersed into sodium borohydride water solution as a reduction availability liquid 4, and the copper ion is fixed as a metal copper.例文帳に追加

次に、樹脂基材１を吸着処理液３としての硫酸銅水溶液中に浸漬し、カリウムイオンと銅イオンとを置換し、しかる後に、樹脂基材１を還元性液４としての水素化ホウ素ナトリウム水溶液に浸漬し、銅イオンを金属銅として定着させる。 - 特許庁

The nozzle 65 and the transparent substrate 2 are relatively moved, the solution in a tank 66 is supplied to the nozzle 65, drops of the solution are continuously jetted from a jetting port 65a, and while the drops are heated, they reach at the surrounded regions of the heated transparent substrate 2.例文帳に追加

そして、ノズル６５と透明基板２とが相対的に移動され、タンク６６内の溶液がノズル６５に供給され、その溶液の液滴が噴出口６５ａから連続的に噴出されつつ、加熱された透明基板２の囲繞領域にその液滴が乾燥されつつ到達する。 - 特許庁

The method for producing a highly oriented carbon nanotube includes a step of preparing a catalyst solution by dissolving a catalyst metal in a solvent; a step of coating the catalyst solution on the substrate by an ink jet method, and a step of removing the solvent by performing heat treatment to the substrate is selected.例文帳に追加

触媒金属を溶媒に溶解させて触媒溶液を調整する工程と、触媒溶液をインクジェット法によって基板に塗布する工程と、基板を熱処理して溶媒を除去する工程と、を備えることを特徴とする高配向カーボンナノチューブの製造方法を選択する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the substrate for the lithographic printing plate for obtaining the substrate for the lithographic printing plate by at least applying an electrochemical roughened surface treatment on an aluminum plate in an acidic water solution, the acidic water solution contains 0.1-3.0 mass% Cu.例文帳に追加

アルミニウム板に、少なくとも、酸性水溶液中で電気化学的粗面化処理を施して平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法であって、 前記酸性水溶液が、０．１〜３．０質量％のＣｕを含有する、平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

An electrolytic machining liquid of the present invention functions to planarize the surface of a substrate through subjecting at least either of a barrier layer formed on the substrate or a wiring layer mainly composed of copper to electrolytic polishing, and such an electrolytic machining liquid comprises either of alkaline solution or fluorine series solution and inhibitor.例文帳に追加

本発明による電解加工液は、基板に形成されたバリア層又は銅を主成分とする配線層の少なくとも１層を電解研磨して基板表面を平坦化するための電解加工液であって、アルカリ溶液又は弗素系溶液のいずれか１つとインヒビタを含む。 - 特許庁

After fixing the reducing agent 54 on the glass substrate 50, the whole of the substrate is immersed in a plating catalyst metal solution 55, and thus a plating catalyst metal 56 contained in a plating catalyst metal solution 55 is reduced and deposited in the region where the reducing agent 54 is fixed (Fig.e).例文帳に追加

そして、還元剤５４をガラス基板５０に定着させた後、基板全体をメッキ触媒金属溶液５５に浸漬させることにより、還元剤５４が定着した領域にメッキ触媒金属溶液５５に含有されるメッキ触媒金属５６を還元析出させる（図１（ｅ））。 - 特許庁

A glass substrate 1 consisting of aluminosilicate-based glass material or the like is subjected to precision polishing treatment in a polishing stage 2 and the resultant glass substrate is washed by using an acid aqueous solution consisting of hydrofluoric acid and the like and an alkaline aqueous solution consisting of sodium hydroxide and the like in a successive first washing stage 3.例文帳に追加

研磨工程２でアルミノシリケート系ガラス材等からなるガラス基板１に精密研磨処理を施し、続く第１の洗浄工程３ではフッ酸等の酸性水溶液及び水酸化ナトリウム等のアルカリ性水溶液を使用してガラス基板を洗浄する。 - 特許庁

The developing solution discharge nozzle 11 that moves to a deceleration start point 21 discharging a developing solution onto a substrate 100 from a slit-shaped discharge opening 15 starts decelerating from the deceleration start point 21, and reaches a low scanning speed V1 at a position P22 before a substrate edge point 23.例文帳に追加

スリット状吐出口１５から現像液を基板１００上に吐出しながら減速開始位置Ｐ２１まで移動した現像液吐出ノズル１１は減速開始位置Ｐ２１から減速し始め、基板端縁位置Ｐ２３より手前の位置Ｐ２２で低速の走査速度Ｖ１となる。 - 特許庁

A metal fine particle dispersed solution 3 prepared by dispersing the metal fine particles in a volatile solvent is applied on a required part of the substrate 10 by an inkjet method and the applied metal fine particle dispersed solution 3a is heated to evaporate the solvent to deposit a metal 3b on the substrate 10.例文帳に追加

揮発性を有する溶媒に金属の微粒子を分散させた金属微粒子分散溶液３をインクジェット法により下地１０の所要の部分に塗布し、この塗布された金属微粒子分散溶液３ａを加熱して溶媒を蒸発させ、下地１０上に金属３ｂを析出させる。 - 特許庁

When a prescribed solution 3 atomized by an atomization means 9 reaches one surface part 2A of a substrate 2 which is being heated to a predetermined temperature, a thin film deposition raw material comprised in the solution is thermally decomposed to deposit a thin film on the surface part 2A of the substrate 2.例文帳に追加

噴霧手段９によって噴霧された所定の溶液３が基板２の一表面部２Ａに達すると、基板２が予め定める温度に加熱されているので、溶液に含まれる薄膜形成素材が熱分解して基板２の一表面部２Ａに薄膜が形成される。 - 特許庁

While the leading end of the resist discharge nozzle 1 is arranged in the vicinity of the surface of the substrate 4, resist solution 14 is discharged from the leading end at a low discharge rate of 0.5 cc/sec, and the discharged resist solution 14 is fed onto the surface of the substrate 4 via the guide bar 13.例文帳に追加

レジスト吐出ノズル１の先端部を基板４表面の近傍に配置して、該先端部からレジスト溶液１４を０．５ｃｃ／ｓｅｃ以下の低い吐出レートで吐出し、この吐出されたレジスト溶液１４は伝播棒１３を介して基板４表面上に供給される。 - 特許庁

The control unit 60 of a chemical solution application apparatus 1 relatively moves an application head 31 and a substrate sheet 90, while it applies a control signal to the laminated piezoelectric element of the application head 31 to jet a chemical solution from the nozzle of the application head 31 to the substrate sheet 90 to thereby practice an application treatment.例文帳に追加

薬液塗布装置１の制御部６０は、塗布ヘッド３１と基材シート９０とを相対的に移動させつつ、塗布ヘッド３１の積層圧電素子に制御信号を印加して塗布ヘッド３１のノズルから基材シート９０に薬液を吐出させることによって、塗布処理を実行させる。 - 特許庁

In the method for touching up a mask for exposure with a metal image formed on a transparent supporting substrate without substantially incorporating an organic binder, a silver-containing agent solution and a reducing agent solution are supplied to the top of the substrate or to a defective part of the metal image to form a metal film.例文帳に追加

透明支持基材上に有機バインダを実質的に含まずに金属画像を形成した露光用マスクにおいて、その基材上あるいは金属画像欠損部に含銀剤溶液と還元剤溶液を供給し、金属膜を形成することを特徴とする露光用マスクの加筆方法。 - 特許庁

To provide a label which has a specific coating layer, which will be dissolved or swollen in an alkaline water solution, formed on a seal surface of a label base material and to provide a method of peeling the label off a glass substrate by bringing the label adhered to the glass substrate into contact with an alkaline water solution.例文帳に追加

ラベル基材のシール面にアルカリ水溶液で溶解ないし膨潤する特定のコーティング層を形成したラベル、ならびに、使用後に、ガラス基板に接着したラベルをアルカリ水溶液と接触させることにより、ガラス基板からラベルを剥離する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a slit coat-type application method which enables the even application of a coating solution onto the surface of a substrate having a predetermined shape of recess and preventing the drying mark and shrink mark of the coating solution and a preferable electronic device substrate used for the slit coat-type application method.例文帳に追加

所定形状の凹部を有する基板の表面に塗布溶液を均一に塗布することができ、塗布溶液の乾燥むらやひけを防止することができるスリットコート式塗布方法、及びこのスリットコート式塗布方法に用いて好適な電子デバイス用基板を提供する。 - 特許庁

The Al-containing nitride D caused to deposit on the surface 2A of the susceptor 2 on which a substrate S is set so as to form the III nitride film on the substrate S is removed by dissolving the nitride D in a prescribed alkaline solution, by dipping the nitride D in the solution for a prescribed period of time together with the susceptor 2 containing the nitride D.例文帳に追加

III族窒化物膜を形成すべき基板Ｓが設置されたサセプタ２の表面２Ａ上に堆積されたＡｌ含有窒化物Ｄを、このＡｌ含有窒化物を含むサセプタ２ごと所定のアルカリ溶液に所定時間浸漬させることによって、溶解除去する。 - 特許庁

The glass master disk 10 for the information recording medium wherein a silica glass film 2 is formed on a glass substrate 1 is obtained by applying a solution containing an alkoxy silane on the glass substrate 1 having a flattened surface and then heating the solution to perform hydrolysis reaction of the alkoxy silane.例文帳に追加

平坦化された表面を有するガラス基板１上に、アルコキシシランを含有する溶液を塗布した後、加熱してアルコキシシランの加水分解反応を行うことによって、ガラス基板１上にシリカガラス膜２が形成された情報記録媒体用ガラス原盤１０を得る。 - 特許庁

The silicon film is formed on a substrate by first preparing a solution composition containing cyclopentasilane and a free radical initiator, occasionally subjecting this solution composition to ultraviolet irradiation, subsequently applying it onto the substrate to form a coating film and finally heating this coating film to generate a silicon film.例文帳に追加

シクロペンタシランおよびラジカル開始剤を含有する溶液組成物を調製し、この溶液組成物を、場合により紫外線照射に付したのち、支持体上に塗布して塗膜を形成し、次いでこの塗膜を加熱してシリコン膜を生成せしめることによる、支持体上にシリコン膜を形成する。 - 特許庁

When washing the surface of a glass substrate G held in a vertical attitude by scanning the surface with a washing head 20, a washing solution holding frame 50 is attached to the tip end part of the washing head 20, and the washing solution sprayed from a spraying port 22 is held between the spraying port 22 and glass substrate G.例文帳に追加

垂直な姿勢で保持されたガラス基板Ｇの表面を洗浄ヘッド２０で走査して洗浄する場合において、洗浄ヘッド２０の先端部に洗浄液保持枠５０を取り付け、噴射口２２から噴射される洗浄液を噴射口２２とガラス基板Ｇとの間で保持する。 - 特許庁

Further, in other persimmon tannin color development acceleration method, the persimmon tannin is coated on the substrate, then the basic water-soluble compound or its aqueous solution is coated on the persimmon tannin coated layer or the substrate is coated with the basic water-soluble compound or its aqueous solution, then the coated parts are treated with persimmon tannin juice.例文帳に追加

また、本発明の柿渋の発色促進方法は、柿渋を被塗装物に塗布した後、その上から塩基性の水溶性化合物の水溶液を塗布するか、被塗装物に塩基性の水溶性化合物の水溶液を塗布した後、その上から柿渋を塗布する。 - 特許庁

After an adhesive coating film 3 made of a polybutadiene resin having a functional group is formed on a semiconductor substrate 1 on which a TaN layer 2, etc., is formed, a polybenzoxazole resin film 4 is formed on the coating film 3 by applying a polybenzoxazole precursor solution to the film 3, and heat-treating the solution after the solution is pre-baked and dried.例文帳に追加

ＴaＮ層２などを成膜した半導体基板１上に、官能基を有するポリブタジエン樹脂からなる接着性コーティング膜３を形成し、その上にポリベンゾオキサゾール前駆体溶液を塗布し、プリベークして乾燥し、さらに加熱処理を加えて、ポリベンゾオキサゾール樹脂膜４を形成する。 - 特許庁

In a manufacturing method of the recording material wherein a solution containing a diazonium salt compound and a coupler solution containing a coupler developing color in reaction with the diazonium salt compound are applied on a substrate, the coupler solution is obtained by dissolving the coupler in an ionic liquid.例文帳に追加

ジアゾニウム塩化合物含有液と該ジアゾニウム塩化合物と反応して発色するカプラーを含有するカプラ−液を支持体上に塗布する記録材料の製造方法であって、該カプラー液を、カプラーをイオン性液体に溶解して得ることを特徴とする記録材料の製造方法。 - 特許庁