「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing an oxide superconductive thin film, in which, when a coating film of a MOD solution is subjected to calcination heat treatment to form a thick calcined film, reduced calcination period to improve its productivity, reduced thermal consumption, and reduced thermal history for a substrate allow the oxide superconductive thin film having a sufficiently high Ic to be formed in subsequent burning treatment.例文帳に追加

ＭＯＤ溶液の塗膜を仮焼熱処理して厚い仮焼膜を作製する際に、時間を短縮して生産性を向上させると共に熱消費量を低減し、さらに基板に対する熱履歴を抑制することにより、その後の本焼熱処理において充分に高いＩｃを有する酸化物超電導薄膜を作製することができる酸化物超電導薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of patterning a dielectric film includes a step of forming a first dielectric film on a silicon substrate, a step of forming a second dielectric film on the first dielectric film, a step of partially exposing the first dielectric film by partially etching the second dielectric film with use of an etching paste, and a step of etching the exposed first dielectric film using an etching solution.例文帳に追加

シリコン基板上に、第１の誘電体膜を形成する工程と、該第１の誘電体膜上に、第２の誘電体膜を形成する工程と、エッチングペーストを用いて、第２の誘電体膜を部分的にエッチングすることにより、第１の誘電体膜を部分的に露出させる工程と、露出した第１の誘電体膜を、エッチング液を用いてエッチングする工程とを含む誘電体膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

In the method of forming the YbTbBiFe-based magnetic garnet film, the garnet film can be grown on a garnet substrate by a liquid phase epitaxial growth method by using a solution containing PbO, Bi_2O_3, B_2O_3, Yb_2O_3, Tb_2O_3, and Fe_2O_3.例文帳に追加

ＰｂＯ、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３及びＦｅ_２Ｏ_３を含む融液を用いて、ガーネット基板上に液相エピタキシャル成長法によって磁性ガーネット膜を育成する方法であって、前記ガーネット基板の格子定数は、１．２４９０〜１．２５１５ｎｍであり、かつ、融液中のモル比は、下記の４つの要件を満たすことを特徴とするＹｂＴｂＢｉＦｅ系磁性ガーネット膜の製造方法などによって提供。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device having an AlGaN layer and an AlGaN oxide film formed on a surface of the AlGaN layer comprises an oxidation step of directing ultraviolet light on the AlGaN layer while applying voltage between the AlGaN layer and a cathode 44 so as to make the AlGaN layer become positive with a substrate 40 having the AlGaN layer and the cathode 44 being soaked in an alkali solution 48.例文帳に追加

ＡｌＧａＮ層と、ＡｌＧａＮ層の表面に形成されたＡｌＧａＮ酸化膜とを備えている半導体装置の製造方法であって、アルカリ溶液４８中にＡｌＧａＮ層を有する基板４０と陰極４４とを浸した状態で、ＡｌＧａＮ層と陰極４４との間にＡｌＧａＮ層がプラスとなる電圧を印加するとともに、ＡｌＧａＮ層に紫外線を照射する酸化ステップを有している。 - 特許庁

This manufacturing method of the electroluminescent element has an organic EL layer composed of one layer or a plurality of organic functional layers, and has a process to form at least one organic functional layer by coating a solution containing an organic functional material on a substrate, and a process to swell the organic functional layer by a solvent soluble to the organic functional layer, and to heat for annealing treatment.例文帳に追加

一層又は複数の有機機能層からなる有機ＥＬ層を有するエレクトロルミネセンス素子の製造方法であって、少なくとも一の有機機能層を、有機機能性材料を含む溶液を基板上に塗布することで形成する工程と、前記有機機能層に可溶な溶媒により該有機機能層を膨潤させるとともに加熱するアニール処理工程とを有する有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法。 - 特許庁

Its manufacturing method comprises a step of forming the silicon oxide film on one or both sides of the original resin transparent substrate while giving treatment thereto with the flames of fuel gas containing a silicon-containing compound and oxygen, and a step of forming the conductive layer on the surface of the silicon oxide film while applying conductive highpolymer solution containing the π conjugated conductive highpolymer, the polyanion and solvent.例文帳に追加

本発明の透明導電体の製造方法は、樹脂製の透明基板原板の片面または両面に、ケイ素含有化合物および酸素を含む燃料ガスの火炎による処理を施して酸化ケイ素膜を形成させる工程と、前記酸化ケイ素膜の表面に、π共役系導電性高分子とポリアニオンと溶媒とを含有する導電性高分子溶液を塗布して導電層を形成する工程とを有する。 - 特許庁

On the element substrate 10 of the electrooptical device 1, an insulating layer of a nonlinear element 43 is a first anodic oxide film 46 formed in an aqueous electrolyte which is a solution of citric acid, and the dielectric layer of the hold capacitor 9a is a second anodic oxide film 49 formed in an organic electrolyte prepared by dissolving salicylate in a mixed solvent of ethylene glycol and water and low in dielectric constant.例文帳に追加

電気光学装置１の素子基板１０において、非線形素子４３の絶縁層は、クエン酸の水溶液からなる水系電解液中で形成した第１の陽極酸化膜４６であり、保持容量９ａの誘電体層は、サリチル酸塩をエチレングリコール−水との混合溶媒に溶解させた有機系電解液中で形成した第２の陽極酸化膜４９であり、誘電率が低い。 - 特許庁

A photosensitive planographic printing plate with a photosensitive layer comprising a photopolymerization type photosensitive composition containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a polymer binder on an aluminum substrate is imagewise exposed and developed with a developing solution containing (1) an inorganic alkali agent, (2) a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group and (3) an amphoteric surfactant.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と、光重合開始剤と、高分子結合剤とを含有する光重合型感光性組成物からなる感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光した後、（１）無機のアルカリ剤と、（２）ポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤と、（３）両性界面活性剤とを含有する現像液で現像することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for the lithographic printing plate comprising a surface-roughening processing in which an aluminum alloy sheet is electrolytically surface-roughened by using AC in an acidic solution and an anodizing treatment process characterized by using an AC wave shape with a time of 1.5-6 msec from 0 to the peak in the electrolitically surface-roughening process is provided.例文帳に追加

酸性溶液中で交流電流を使用してアルミニウム合金板を電解粗面化処理する粗面化処理工程および陽極酸化処理工程を含む平版印刷版用支持体の製造方法であって、前記電解粗面化処理において、０からピークまでに達する時間が１．５〜６ｍｓｅｃの交流電流波形を使用することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法である。 - 特許庁

The method for processing the lithographic printing plate material is characterized in that, after the lithographic printing plate material comprising at least two image layers each containing an alkali-soluble resin layered on an aluminum substrate is imagewisely exposed to IR rays, the plate material is developed with a developer solution containing at least one kind of amine compounds having three carboxyl groups or ethylenediamine compounds having four carboxyl groups.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に、それぞれアルカリ可溶性樹脂を含有する少なくとも２層以上の画像層を積層してなる平版印刷版材料を、赤外光にて画像露光後、３個のカルボキシル基含有アミン化合物または４個のカルボキシル基含有エチレンジアミン化合物の少なくとも一種を含有する現像液で現像処理することを特徴とする平版印刷版材料の処理方法。 - 特許庁

In the method and device for determining the quantity of the enzyme, a reaction liquid is produced by adding the enzyme to a solution of the substrate converted into an optically measurable substance by enzyme activity of the enzyme, an inhibitor suppressing the enzyme activity of the enzyme is added to the reaction liquid, and one or more optical measurement is carried out in a state suppressing the enzyme activity of the enzyme.例文帳に追加

酵素の定量法であって、酵素の酵素活性により光学的に測定可能な物質に変換される基質の溶液に酵素を添加して反応液を生成した後、該酵素の酵素活性を抑制する阻害剤を反応液に添加して該酵素の酵素活性を抑制した状態で１回以上光学的な測定を行う方法及びそのための装置により前記課題を解決する。 - 特許庁

A photosensitive planographic printing plate with a photosensitive layer comprising a photopolymerization type photosensitive composition containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a polymer binder on an aluminum substrate is imagewise exposed and developed with a developing solution containing (1) an inorganic alkali agent, (2) a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group and (3) a polymer having carboxyl groups.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と、光重合開始剤と、高分子結合剤とを含有する光重合型感光性組成物からなる感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光した後、（１）無機のアルカリ剤と、（２）ポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤と、（３）カルボキシル基を有するポリマーとを含有する現像液で現像することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic thin-film element configured, by interposing an organic thin film between a pair of thin-film electrodes, at least one of which is a transparent electrode, includes a step of forming the transparent electrode by spraying a stock solution containing a transparent electrode forming material on a substrate and a step of forming the organic thin film on the transparent electrode.例文帳に追加

少なくとも一の電極が透明電極である一対の薄膜電極間に有機薄膜を含んで構成される有機薄膜素子の製造方法であって、基材上に透明電極形成材料を含む原料液を噴霧することにより透明電極を形成する工程と、前記透明電極上に有機薄膜を形成する工程と、を含む有機薄膜素子の製造方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁

A resist film 11 having ≤250 nm thickness and comprising a chemical amplification type positive resist material comprising a base polymer having solubility in an alkaline developing solution varied by the action of an acid and an acid generator in which at least one electron withdrawing group has been introduced into the meta-positions of an aromatic ring constituting a counter anion and which generates the acid when irradiated with energy beams is formed on a semiconductor substrate 10.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ性現像液に対する溶解性が変化するベースポリマーと、カウンターアニオンを構成する芳香環のメタ位に少なくとも１つの電子吸引性基が導入されておりエネルギービームが照射されると酸を発生する酸発生剤とを有するポジ型の化学増幅型レジスト材料よりなり、２５０ｎｍ以下の膜厚を持つレジスト膜１１を半導体基板１０の上に形成する。 - 特許庁

A hard coat layer is formed on a transparent plastic film substrate with a polymer, based on a polyfunctional monomer containing a (meth) acryloyloxy group, surface treatment is carried out and then a low refractive index layer is formed with a coating solution containing a copolymer of an organosilicon compound of formula (1) or its polymer and an organosilicon compound of formula (2) or its polymer as the principal component.例文帳に追加

透明プラスチックフィルム基材上に、（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合体を用いてハードコート層を形成し、表面処理を行い、化学式（１）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体と、化学式（２）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体との共重合体を主成分とするコーティング溶液を用いて低屈折率層を形成すること。 - 特許庁

The method for manufacturing a retardation film comprises a process for obtaining a polymer film by dissolving a resin composition containing a polyvinyl acetal resin as an essential component into a solvent comprising at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone, casting the prepared solution into the surface of the substrate to be a sheet shape, and vaporizing the solvent and a process for stretching the polymer film.例文帳に追加

トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも１種類を含む溶剤に、ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る工程、ならびに該高分子フィルムを延伸する工程を含む、位相差フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a polishing solution for polishing hard barrier layers and layer insulation films while the surface of cupper or a cupper alloy in a recess is protected during polishing to obtain a polished superior-flatness clean substrate surface, in the manufacturing of an electronic apparatus such as a semiconductor device, and to provide a high reliability chemical/mechanical polishing method superior in microprocessing, thinning, and dimension accuracy.例文帳に追加

半導体デバイスなど電子機器の製造において、硬いバリア層や層間絶縁膜を研磨する際に、凹部の銅或いは銅合金表面を研磨中に保護することにより、研磨後に平坦性に優れた清浄な基体表面が得られる研磨液、及び前記研磨液を用いて生産性が高く、微細化、薄膜化、寸法精度に優れ、信頼性の高い化学機械研磨を行う研磨方法を提供する。 - 特許庁

With the thin film EL element which has at least a laminated structure with a light-emitting layer and transparent electrode layer after an electrode layer having a pattern is formed on a substrate having electric insulation and then, a dielectric layer is formed into a multi-layer state by repeating a solution-coating burning method, a buffer layer is placed between the multi- layer dielectric layer and the electrode layer.例文帳に追加

電気絶縁性を有する基板上にパターンを有する電極層が形成され、さらに誘電体層が溶液塗布焼成法を複数回繰り返すことにより多層状に形成された後、発光層及び透明電極層が積層された構造を少なくとも有する薄膜ＥＬ素子であって、前記多層状誘電体層と前記電極層との間にバッファ層を備えた構造とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing the wiring board, the oxidized film on the outermost surface of the tantalum nitride layer provided on the substrate is etched and, at the same time, the azole compound is stuck to the surface of the tantalum nitride layer by treating the oxidized film with a mixed aqueous solution of an acidic etchant and the azole compound.例文帳に追加

アゾール化合物と酸性溶液とを混合したエッチング剤兼防錆剤、基体上に窒化タンタル層、不可避的窒化タンタル酸化物層及びアゾール化合物からなる防錆層を順次有する配線用基板、及び基体上の窒化タンタル最表面の酸化膜を酸性エッチング液とアゾール化合物の混合水溶液で処理して、酸化膜のエッチングと同時にアゾール化合物を表面に付着させる配線用基板の製造方法。 - 特許庁

A negative pattern of carbon nanotubes is formed by introducing double bond-containing functional groups participating in radical polymerization into surfaces of carbon nanotubes, dispersing the carbon nanotubes with a photo-initiator in an organic solvent, applying the dispersion liquid on a substrate to form a coating, exposing the coating to UV rays through a photomask to induce radical polymerization of the carbon nanotubes in an exposed part, and removing an unexposed part with a developer solution.例文帳に追加

炭素ナノチューブの表面に、ラジカル重合への参加が可能な二重結合を有する作用基を導入し、前記炭素ナノチューブを光開始剤と共に有機溶媒に分散させて基材上にコーティングし、その後フォトマスクに介してＵＶに露光させて露光部で炭素ナノチューブのラジカル重合を誘発した後、非露光部を現像液で取り除くことにより、炭素ナノチューブのネガティブパターンを形成する。 - 特許庁

In a semiconductor substrate after STI formation as element isolation, a channel dope step is performed on the memory cell of a memory region before gate oxidation, and wet etching is performed for adjusting an STI step using a hydrofluoric acid containing solution in a state with a resist after a predetermined impurity is completely injected, so that a difference between the STI protruding amounts of the memory region and the logic region becomes approximately equal.例文帳に追加

素子分離としてのＳＴＩ形成後の半導体基板において、メモリ領域のメモリセル部に対するチャネルドープ工程をゲート酸化前に行い、所定の不純物注入完了後にレジスト付きの状態にてフッ酸含有の溶液によりＳＴＩ段差を調整するためウエットエッチングを行い、メモリ領域とロジック領域のＳＴＩ突き出し量の差が同程度になるようにした。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of silicon carbide single crystal having high quality at a high growing speed and stably using a raw material that is comparatively easily available for realizing the mass production, in manufacturing of silicon carbide single crystal by a liquid phase growth method in which the SiC single crystal is grown on a seed crystal substrate from a solution that is obtained by dissolving SiC in a solvent of a molten Si alloy.例文帳に追加

融解したＳｉ合金の溶媒中にＳｉＣが溶解した溶液から、種結晶基板上にＳｉＣ単結晶を成長させる液相成長法による炭化珪素単結晶の製造において、量産化を実現するため、比較的容易に入手できる原料を用いて、良質の炭化珪素単結晶を高い成長速度で安定して製造できる方法を提供する。 - 特許庁

A substrate 101 formed with a movable part electrode 104, a supporting part 107 and a movable part 108 and a counter electrode made of platinum are immersed in electrodeposition solution containing sulfonium ions to be cationic species (INSULEED of Nippon Paint Co., Ltd, for instance), negative voltage is impressed on the movable part electrode 104, the supporting part 107 and the movable part 108, and positive voltage is impressed on the counter electrode.例文帳に追加

カチオン種であるスルフォニウムイオンを含有する電着液（例えば、日本ペイント（株）、ＩＮＳＵＬＥＥＤ）に、上述した可動部電極１０４，支持部１０７，及び可動部１０８が形成された基板１０１と白金からなる対向電極とを浸漬し、可動部電極１０４，支持部１０７，及び可動部１０８に負電圧を印加するとともに、上記対向電極に正電圧を印加する。 - 特許庁

The method for forming a siloxane polymer coating film includes: a first step of applying a coating liquid composition for the formation of a siloxane polymer coating film containing a silanol group on a substrate and dehydrating and polymerizing the silanol groups with each other to form a siloxane polymer coating film; and then a second step of immersing the siloxane polymer coating film in an acid solution to promote dehydration polymerization of silanol groups remaining in the siloxane polymer coating film.例文帳に追加

基板上に、シラノール基を含有するシロキサンポリマ皮膜形成用塗液組成物を塗布し、シラノール基同士を脱水重合させることによってシロキサンポリマ皮膜を形成する第１の工程を行なった後に、シロキサンポリマ皮膜を酸溶液に浸漬することによってシロキサンポリマ皮膜中に残留したシラノール基の脱水重合反応を促進する第２の工程を行なうことを特徴とするシロキサンポリマ皮膜形成方法である。 - 特許庁

To provide a photocrosslinkable resin composition hardly receiving influence of polymerization impediment due to oxygen even while a resin layer surface is uncovered after film-thinning an photocrosslinkable resin layer in a method of manufacturing a circuit board for forming the photocrosslinkable resin layer on a substrate putting a conductive layer on the surface, and performing exposure of a circuit pattern and development treatment after performing film-thinning treatment of the photocrosslinkable resin layer with aqueous alkali solution.例文帳に追加

表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor layer includes the processes of: fabricating a precursor layer by coating a surface of a substrate with a solution for semiconductor layer formation including a metal element, a chalcogen element-containing organic compound, a first Lewis-base organic compound, and a second Lewis-base organic compound having a different structure from the first Lewis-base organic compound; and fabricating the semiconductor layer 3 by heat-treating the precursor layer.例文帳に追加

半導体層の製造方法は、金属元素と、カルコゲン元素含有有機化合物と、第１のルイス塩基性有機化合物と、前記第１のルイス塩基性有機化合物とは異なる構造の第２のルイス塩基性有機化合物と、を具備する半導体層形成用溶液を基板の表面に塗布して前駆体層を作製する工程と、前記前駆体層を熱処理して半導体層３を作製する工程と、を具備する。 - 特許庁

The production method includes (a) a step using raw material lecithin as a substrate and a water-insoluble surfactant matrix material having a particle size of 0.01 mm or more, and (b) a step for enzymatic treatment of a mixture of the water insoluble surfactant-matrix material with the raw material lecithin, and phospholipase D, racemic acid or isometrically pure amino acid, or amine and a salt, in a pH-buffer aqueous solution.例文帳に追加

本発明の製造方法は、（ａ）基質としての原材料のレシチンと、粒子サイズが０．０１ｍｍ以上の非水溶性の界面活性剤マトリックス材料とを用いるステップと、（ｂ）前記の非水溶性の界面活性剤−マトリックス材料と原材料のレシチンとの混合物と、ホスホリパーゼＤ、ラセミ酸または異性体的に純粋なアミノ酸、またはアミンと塩とを、ｐＨ−バッファ水溶液内で、酵素処理するステップとを有する。 - 特許庁

In the method for producing a polyimide film composition, a polyimide precursor solution is applied to the surface of a substrate and dried or half-cured to form a polyimide precursor resin layer, a metallic layer is formed on the surface of the polyimide precursor resin layer and the polyimide precursor resin layer is heat-cured after or during the formation of the metallic layer to form a polyimide resin layer.例文帳に追加

基体表面にポリイミド前駆体溶液を塗布して乾燥もしくは半硬化してポリイミド前駆体樹脂層を形成し、ポリイミド前駆体樹脂層表面に金属層を形成した後或いは形成途中に、ポリイミド前駆体樹脂層を加熱硬化してポリイミド樹脂層を形成するポリイミド被膜組成物の製造方法、並びに、それにより得られるポリイミド被膜組成物、無端ベルト、定着ベルト、及び、電子写真感光体である。 - 特許庁

To provide a substrate for an LED light emitting device suitable as a high power LED which has a small difference in a coefficient of linear thermal expansion as compared with III-V group semiconductor crystal, which constitutes an LED, is excellent in thermal conductivity, and further is superior in chemical resistance against an acid and alkali solution which are used in manufacturing of the LED light emitting device.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、ＬＥＤを構成するIII−Ｖ族半導体結晶と線熱膨張率の差が小さく、かつ熱伝導性に優れ、高出力ＬＥＤ用として好適なＬＥＤ発光素子用基板を提供することであり、更に、ＬＥＤ発光素子製造時に使用される酸及びアルカリ溶液に対する、耐薬品性に優れた、高出力ＬＥＤ用として好適なＬＥＤ発光素子用基板を提供することである。 - 特許庁

In this method of manufacturing the luminescent display element, a substrate provided with a first electrode is dipped in an aqueous solution of material forming the luminescent layer with a functional group which can be charged to positive or negative polarity, an electron injection transport layer and the forming material is laminated on the first electrode by migration electrodeposition to form the luminescent layer, electron injection transport layer or hole injection transport layer.例文帳に追加

第１電極を備えた基板を、正又は負の極性に帯電しうる官能基を有する発光層、電子注入輸送層又は正孔注入輸送層の形成用材料の水溶液中に浸漬し、泳動電着により形成用材料を第１電極上に積層することで発光層、電子注入輸送層又は正孔注入輸送層を形成することを特徴とする発光表示素子の製造方法により上記の課題を解決する。 - 特許庁

The multilayered antireflection film has an optical interference layer laminated on a transparent substrate and includes at least one layer formed by applying and drying a solution prepared by dissolving benzoyl substituted poly(p-phenylene) and/or benzoyl substituted poly(p/m-phenylene) in a solvent containing at least one solvent selected from the group comprising N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and halogenated hydrocarbons as a high refractive index layer.例文帳に追加

透明基材上に光学干渉層が積層されてなる多層反射防止膜において、ベンゾイル置換ポリ（ｐ−フェニレン）、及び／又はベンゾイル置換ポリ（ｐ／ｍ−フェニレン）を、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド及びハロゲン化炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種の溶剤を含有する溶剤に溶解させて得られる溶液を塗布、乾燥してなる層を、高屈折率層として少なくとも一層を含有することを特徴とする多層反射防止膜。 - 特許庁

To enhance photoelectric conversion efficiency and reliability by making an electrolyte layer thin and uniform, enhancing conversion efficiency and reliability, and further, by enlarging a volume of electrolyte, since a thickness of the electrolyte layer hitherto decided by gaps between two substrates is decided by a thickness of a permeating layer retaining electrolyte solution independent of the gaps, by integrally laminating each layer on a sheet of conductive first substrate.例文帳に追加

１枚の導電性の第１の基板上に各層を一体的に積層することにより、従来２枚の基板間の隙間で決定されていた電解質層の厚みが、その隙間に依存せずに電解質の溶液を保持した浸透層の厚みで決まるので、電解質層を薄くかつ均一化して、変換効率及び信頼性を高め、さらに電解質の体積を大きくするによって、光電変換効率及び信頼性を高めること。 - 特許庁

To enhance photoelectric conversion efficiency and reliability by making an electrolyte layer thin and uniform, enhancing conversion efficiency and reliability, and further, by enlarging a volume of electrolyte, since a thickness of the electrolyte layer hitherto decided by gaps between two substrates is decided by a thickness of a permeating layer retaining electrolyte solution independent of the gaps, by integrally laminating each layer on a sheet of insulating first substrate.例文帳に追加

１枚の絶縁性の第１の基板上に各層を一体的に積層することにより、従来２枚の基板間の隙間で決定されていた電解質層の厚みが、その隙間に依存せずに電解質の溶液を保持した浸透層の厚みで決まるので、電解質層を薄くかつ均一化して、変換効率及び信頼性を高め、さらに電解質の体積を大きくするによって、光電変換効率及び信頼性を高めること。 - 特許庁

A photosensitive planographic printing plate obtained by coating the top of an aluminum substrate with a photosensitive composition containing a high molecular compound having a urea bond in a side chain and a positive working photosensitive compound is imagewise exposed and developed with a developing solution of pH 9.0-13.5 containing at least one nonreducing sugar and at least one base to produce the objective planographic printing plate.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に側鎖に尿素結合を有する高分子化合物とポジ型に作用する感光性化合物とを含む感光性組成物を塗布してなる感光性平版印刷版を画像露光した後、非還元糖から選ばれる少なくとも一種の糖類及び少なくとも一種の塩基を含有し、ｐＨが９.０〜１３.５の範囲である現像液により現像することを特徴とする、平版印刷版の作成方法。 - 特許庁

In the method of manufacturing the wiring board, the oxidized film on the outermost surface of the tantalum nitride layer provided on the substrate is etched and, at the same time, the imidazole-alcohol compound is stuck to the surface of the tantalum nitride layer by treating the oxidized film with a mixed solution of an alkaline etchant and a specific imidazole-alcohol compound.例文帳に追加

イミダゾールアルコール化合物とアルカリ性溶液とを混合したエッチング剤兼防錆剤、基体上に窒化タンタル層、不可避的窒化タンタル酸化物層及びイミダゾールアルコール化合物からなる防錆層を順次有する配線用基板、及び基体上の窒化タンタル最表面の酸化膜をアルカリ性エッチング液と特定イミダゾールアルコール化合物の混合溶液で処理して、酸化膜をエッチングと同時にイミダゾールアルコール化合物を表面に付着させる配線用基板の製造方法。 - 特許庁

The liquid composition which is used for cleaning a substrate having a surface region having a contact angle to a waterdrop of ≥60°comprises a phosphonic acid chelating agent having two or more phosphonic acid groups in the molecule and a polyoxyalkylene alkyl ether type nonionic surface active agent and is adjusted in such a manner that the contact angle of a droplet of the liquid composition or its diluted aqueous solution to the above surface region comes to ≤50°.例文帳に追加

水滴の接触角が６０度以上である表面領域を有する基板の洗浄に用いられる液体組成物において、一分子中に２つ以上のホスホン酸基を有するホスホン酸系キレート剤と、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル型の非イオン界面活性剤とを含有させ、当該液体組成物あるいはその希釈水溶液の液滴の前記表面領域に対する接触角が５０度以下となるように調製する。 - 特許庁

To provide a catalyst solution for electroless plating with which electroless plating can selectively and uniformly be applied onto a wiring conductor of low resistance metal formed on the surface of an insulative substance such as glass ceramics, the adsorption of palladium onto the insulated substrate is prevented, and the swelling precipitation of of the electroless plating from the wiring conductor is suppressed to remarkably improve its electrical reliability, and which uses no lead harmful to the human body.例文帳に追加

ガラスセラミックス等の絶縁基体の表面に形成された低抵抗金属の配線導体上に選択的かつ均一に無電解めっきを施すことができ、絶縁基体上へのパラジウムの吸着を有効に防止し、無電解めっきの配線導体からのはみ出し析出を抑制することで、電気的信頼性を大幅に向上させると共に、人体に有害となる鉛を使用しない無電解めっき用触媒液を提供すること。 - 特許庁

A photosensitive planographic printing plate with a photosensitive layer of a photopolymerization type photosensitive composition containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a polymer binder on an aluminum substrate is imagewise exposed and developed with a developing solution of pH 10.0-12.5 having 3-30 mS/cm electric conductivity and containing an inorganic alkali agent and a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group.例文帳に追加

アルミニウム支持体上にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、光重合開始剤、及び、高分子結合剤からなる光重合型感光性組成物の感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光した後、無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤を含有し、ｐＨ１０．０〜１２．５、導電率３〜３０ｍＳ／ｃｍの現像液で現像することを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing the semiconductor substrate includes a step of forming the printed layer by printing a pattern with a coating solution containing copper nano-particles and then a step of forming the pattern of the semiconductor layer by baking the printed layer, wherein the printed layer is baked by exposing the printed layer to the surface-wave plasma generated by an application of a microwave energy under an atmosphere containing oxygen.例文帳に追加

基材上に、銅ナノ粒子を含む塗布液をパターン状に印刷して印刷層を形成した後、この印刷層を焼成処理してパターン状の半導体層を形成する半導体基板の製造方法であって、酸素を含む雰囲気下、マイクロ波エネルギーの印加により発生する表面波プラズマに前記印刷層を晒すことにより、該印刷層の焼成処理を行うことを特徴とする半導体基板の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin film comprises a step of manufacturing a precursor film containing a metal element by the CVD method, a step of dipping the precursor film in an alkaline water solution in a container, a step of sealing the container, and a hydrothermal process step of crystallizing the precursor film in the sealed container by a hydrothermal process to form a metal oxide thin film on a substrate.例文帳に追加

本発明の薄膜作製方法は、基板上に、ＣＶＤ法により金属元素を含有する前駆体膜を作製する前駆体膜作製ステップと、前駆体膜を、容器内において、アルカリ性水溶液に浸漬する浸漬ステップと、容器を密閉する密閉ステップと、密閉された容器内において、水熱処理により前駆体膜を結晶化して、基板上に金属酸化物の薄膜を作製する水熱処理ステップとを含む。 - 特許庁

A material at least having a reactive functional group on one end, and an alkoxysily group on the other end, wherein the reactive functional group and the alkoxysily group are connected directly or indirectly with a hydrocarbon radical, and a silanol condensation catalyst are mixed and dissolved with an organic solvent, by which the chemisorption solution used for the method of forming the reactive monomolecular film bound covalently on the arbitrary substrate surface is provided.例文帳に追加

少なくとも一端に反応性の官能基を持ち他端にアルコキシシリル基を持ち、前記反応性の官能基と前記アルコキシシリルキ基が直接又は間接に炭化水素基で接続されている物質とシラノール縮合触媒とを有機溶剤で混合溶解させることにより、任意の基材表面に共有結合した反応性の単分子膜を形成する方法に用いる化学吸着溶液を製造提供する - 特許庁

The method includes: a step (a) of applying a first functional layer forming coating solution containing at least a synthetic resin on a transparent substrate 110 having a mesh-shaped electromagnetic wave shielding layer 120; and a step (b) of forming a first functional layer 130b by laminating a smoothing sheet 180 on a coating layer 130a obtained by the step (a) and then hardening the synthetic resin.例文帳に追加

メッシュ状の電磁波シールド層１２０を有する透明基材１１０上に、少なくとも合成樹脂を含む第１の機能性層形成用塗工液を塗工する工程（ａ）と、 前記工程（ａ）により得られた塗工層１３０ａ上に平滑化シート１８０を積層した後、前記合成樹脂を硬化させることにより、第１の機能性層１３０ｂを形成する工程（ｂ）とを有することを特徴とするディスプレイ用フィルタの製造方法。 - 特許庁

The method for producing an electrophotographic photoreceptor with an electric charge generating layer and an electric charge transferring layer on a substrate has a step for forming the electric charge transferring layer by applying and drying a solution containing an electric charge transferring material, a resin binder, dimethoxymethane and an aromatic hydrocarbon solvent having ≥130°C boiling point.例文帳に追加

支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層を有する電子写真感光体の製造方法において、該電荷輸送層を電荷輸送材料、バインダー樹脂、ジメトキシメタン及び１３０℃以上の沸点を有する芳香族炭化水素系溶媒を含有する溶液を塗布し、乾燥することによって形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法及び該電子写真感光体の製造方法によって得られた電子写真感光体。 - 特許庁

To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.例文帳に追加

本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁

This silver halide photographic sensitive material, having at least one antistatic layer containing hydrophilic colloid and an electrically conductive composition prepared by mixing and heat-treating fine particles of a polymer having a functional group and a water-soluble polymer on the substrate and a hydrophilic colloidal layer on the antisatic layer, is processed with a fixing solution which does not substantially contain boron compounds using an automatic processing machines.例文帳に追加

支持体上に、官能基を有するポリマー微粒子と水溶性ポリマーとを混合後、加熱処理して製造した導電性組成物と親水性コロイドを含有する帯電防止層を少なくとも１層有し、該帯電防止層の上に親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料を、自動現像機を用いて、実質的にホウ素化合物を含有しない定着液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁