「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索

A substrate with a seed layer comprising a compound containing zinc and oxygen on the surface thereof is immersed in advance in an aqueous solution containing zinc ions as a zinc source and metal ions different from zinc ions as a dopant source respectively and adjusted to pH of ≥6, whereby a dopant-containing zinc oxide functional film is self-organizingly deposited on the substrate.例文帳に追加

亜鉛源として亜鉛イオンと、ドーパント源として亜鉛イオンとは異なる種類の金属イオンとをそれぞれ含みかつｐＨが６以上に調整された水溶液に予め亜鉛と酸素を含有する化合物からなるシード層が表面に存在する基材を浸漬することによって、基材上にドーパントを含んだ酸化亜鉛機能膜を自己組織的に析出させる。 - 特許庁

When washing the metal impurities mixed in a porous metal substrate used for a core material of electrode plate of an alkaline storage battery, in advance of washing, a lead is welded to the surface of a large plate of the porous metal substrate, and a plurality of large plates welded with the lead are laminated and immersed in a solution prepared for washing of the metal impurities.例文帳に追加

アルカリ蓄電池の極板の芯材として用いられる多孔質金属基板に混入した金属不純物を洗浄するに際し、その洗浄に先立って多孔質金属基板の大板の表面にリードを溶着するとともに、そのリードの溶着された大板を複数積層して、金属不純物の洗浄に供される溶液に浸し込むようにした。 - 特許庁

The laminated optical communication module is manufactured by laminating at least a first substrate and second substrate in tight contact with each other to form a cavity communicatively connected at least at one end to an external optical path within the substrates, expelling moisture out of the cavity after a plating solution is packed into the cavity, packing a UV curing resin into the cavity and curing the resin by UV rays.例文帳に追加

少なくとも第一の基板と第二の基板とを密着積層することにより基板内部に少なくとも一端が外部光路に連通する空洞を形成し、前記空洞にメッキ液を充填した後空洞から水分を追い出し、該空洞に紫外線硬化性樹脂を充填し紫外線により硬化することにより、積層型光通信モジュールを製造する。 - 特許庁

The method for forming the microparticle pattern includes patternwise exposing a substrate 1 having a layer 5 formed on an uppermost surface thereof and containing a silane coupling agent having a thiol, amino, hydroxyl, carboxyl or sulfo group protected by a photodegradable protective group, and immersing the substrate in a colloidal solution in which metal atom-containing microparticles are dispersed to selectively deposit metal atom-containing microparticles 3 on an exposed portion 4.例文帳に追加

光分解性保護基で保護されたチオール基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはスルホ基を有するシランカップリング剤を含有する層５が最上面に形成された基板１をパターン状に露光した後、該基板を金属原子含有微粒子が分散されたコロイド溶液に浸漬し、金属原子含有微粒子３を露光部４に選択的に付着させる微粒子パターン形成方法。 - 特許庁

The method for producing the fine structure comprises obtaining the fine structure having micropores on its surface by subjecting an aluminum member comprising an aluminum substrate and an anodic oxidation film existing on the surface of the aluminum substrate and having micropores to at least a film stripping treatment comprising stripping the film by using an acidic aqueous solution containing a barium compound and an anodic oxidation treatment in this order.例文帳に追加

アルミニウム基板と、前記アルミニウム基板の表面に存在する、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜とを有するアルミニウム部材に、少なくとも、バリウム化合物を含有する酸性水溶液を用いて脱膜させる、脱膜処理と、陽極酸化処理とをこの順に施して、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法。 - 特許庁

In a thermal recording body having a thermal recording layer provided on a substrate and containing a colorless or light-colored dye precursor and an organic developer as main constituents, the substrate contains a bulky pulp which is obtained by mercerizing a raw pulp with an alkaline water solution of 9-50 wt.% and then treating it with hot water or a polyvalent alcohol.例文帳に追加

支持体上に無色又は淡色の染料前駆体と有機顕色剤とを主成分として含有する感熱記録層を設けた感熱記録体において、該支持体が、原料パルプを９重量％以上５０重量％以下のアルカリ水溶液でマーセル化した後、温水処理または多価アルコール処理されて得られる嵩高パルプを含有することを特徴とする感熱記録体。 - 特許庁

The substrate processor has: a conveying roller 202 having a substrate supporter for supporting a semiconductor wafer 201 in a state that its surface is perpendicular to a vertical direction, and a relative movement mechanism for moving the supported semiconductor wafer 201 ahead relative to a nozzle unit 11; the nozzle unit 11 for charging a chemical solution onto a surface of the semiconductor wafer 201 moving relatively from above.例文帳に追加

半導体ウェハ２０１を表面が上下方向と直交する状態で支持する基板支持部及び支持された半導体ウェハ２０１をノズルユニット１１に対して前方に相対移動させる相対移動機構を有する搬送用ローラ２０２と、相対移動される半導体ウェハ２０１の表面に上方から薬液を吐出するノズルユニット１１とを有する。 - 特許庁

The projection type oxide film structure is manufactured in such a way that a metal oxide precursor such as a titanium alkoxide solution is filled in micropores of an anodic oxide film obtained by anodic treatment of aluminum or the like, the anodic oxide film is laminated on the substrate so that the micropores are faced to the substrate, they are heated and baked, and the anodic oxide film is removed.例文帳に追加

この凸型酸化膜構造体は、アルミニウムなどを陽極酸化処理して得られた陽極酸化被膜の微細孔中にチタンアルコキシド溶液などの金属酸化物前駆体を充填し、この陽極酸化被膜を基板にその微細孔が基板に向くように重ね合わせ、ついでこれらを加熱、焼成したのち、陽極酸化被膜を除去する方法で製造される。 - 特許庁

The inkjet recording sheet has at least two ink absorbing layers on a substrate, and the outermost ink absorbing layer located most apart from the substrate is formed by using a coating solution containing a silica dispersion which is dispersed solely by a high-pressure type homogenizer, or dispersed primarily by a medium type pulverizer and then secondarily by the high-pressure type homogenizer.例文帳に追加

支持体上に少なくとも２層のインク吸収層を有し、支持体から最も離れた位置にある最表層インク吸収層が、高圧式ホモジナイザー単独で分散されたシリカ分散液、またはメディア型粉砕機で一次分散され、次いで高圧式ホモジナイザーで二次分散されたシリカ分散液を含有する塗布液を用いて形成されたことを特徴とするインクジェット記録用紙。 - 特許庁

The manufacturing method of a PNA chip, using a ZIP code system comprises (a) a process of fixing the PNA ZIP code probe onto the substrate modified with amine group, by dropping an immobilized sample containing dimethyl sulfoxide (DMSO), PNA ZIP code probe, and epoxy compound, and (b) a process of cleaning with SDS solution, the substrate on which the PNA ZIP code probe has been immobilized and then drying it.例文帳に追加

（ａ）アミン基により改質された基板の上にジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ＰＮＡジップコードプローブ及びエポキシ化合物を含む固定化試料を滴下してＰＮＡジップコードプローブを固定する段階と、（ｂ）前記ＰＮＡジップコードプローブが固定された基板をＳＤＳ溶液により洗浄した後に乾燥する段階と、を含むジップコード方式を用いたＰＮＡチップの製作方法を提供する。 - 特許庁

A method for forming a film on the stainless steel substrate includes: dipping the stainless steel substrate in an aqueous solution or an aqueous dispersion of at least one metal salt chosen from the group consisting of an alkali metal salt of silicic acid and an alkali metal salt of metaboric acid and applying electricity so as to form a film; and subsequently conducting electrodeposition of an anionic electrodeposition paint (B) on the film to form the coating film.例文帳に追加

珪酸のアルカリ金属塩とメタほう酸のアルカリ金属塩から選ばれる少なくとも１種の金属塩の水溶液又は水分散液（Ａ）の浴に浸漬し通電処理を行って皮膜を形成した後、次いで、該皮膜上に下記のアニオン電着塗料（Ｂ）を電着塗装して塗膜を形成することを特徴とするステンレス鋼素地上の皮膜形成方法。 - 特許庁

The optical waveguide element 6 comprises a substrate 7 consisting of a lithium tantalate single crystal or lithium niobate-lithium tantalate solid solution single crystal (with ≤10% percentage of niobium atoms to the total atoms of niobium and tantalum) and an optical waveguide 8 consisting of a bulk type lithium niobate single crystal directly bonded to the joining face 7d of the substrate 7.例文帳に追加

光導波路素子６は、タンタル酸リチウム単結晶またはニオブ酸リチウム−タンタル酸リチウム固溶体単結晶（ニオブとタンタルとの原子数の合計に対するニオブの原子数の百分率比が１０％以下である）からなる基板７と、基板７の接合面７ｄに直接接合されているバルク状のニオブ酸リチウム単結晶からなる光導波路８とを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a substrate with the liquid crystal alignment layer has a stage for applying a solution containing an alignment layer material having a photosensitive group to a substrate surface and a baking stage of executing the photoalignment treatment to align the alignment layer material molecules in a specific direction by irradiating the unbaked coating film with polarized UV rays and baking and curing the coating film after the photoalignment treatment.例文帳に追加

感光性基を有する配向膜材料を含む溶液を基板面に塗布する工程と、未焼成の塗膜に偏光紫外線を照射して配向膜材料分子を特定方向に配向させる光配向処理と、光配向処理後に塗膜を焼成し硬化させる焼成工程とを備えることを特徴とする液晶配向膜付き基板の製造方法。 - 特許庁

The electroless copper plating method comprising (1) making palladium or palladium-tin catalyst adhered on the resin substrate, and (2) treating the resin substrate adhered by the catalyst with the electroless copper plating solution which includes no formaldehyde but copper ions and a reducing agent, is characterized by not giving the catalyst an accelerating treatment after the catalyst adhesion treatment.例文帳に追加

本発明として、１）樹脂基体上にパラジウムまたはパラジウム−すず触媒を付着させ、２）該触媒が付着した樹脂基体を、銅イオンおよび還元剤を含み、ホルムアルデヒドを含まない無電解銅めっき液で処理する無電解銅めっき方法であって、該触媒付着処理の後に、触媒のアクセレレーティング処理を行わないことを特徴とする前記無電解銅めっき方法が開示される。 - 特許庁

To satisfy magnetic characteristics, film thickness, adhesion, uniformity, smoothness, etc. required for a soft magnetic backing layer of a vertical magnetic recording medium to be a hard disk by forming a soft magnetic plating film by an electroless plating method after applying etching processing to a glass substrate by using an etching solution capable of uniformly applying suitable roughness to the surface of the glass substrate without generating defects.例文帳に追加

表面に適度な粗さを均一に欠陥なく付与することが可能なエッチング液を用いてガラス基板にエッチング処理を施した後に無電解めっき法により軟磁性めっき膜を形成することにより、ハードディスクとしての垂直磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層に要求される磁気特性、膜厚、密着性、均一性、平滑性などを満足させる。 - 特許庁

The electrolyte gel 81 retains an electrolytic solution in a gel substrate, and as the gel substrate, a material which is mainly constituted of a thermoplastic resin, mainly constituted of a thermosetting resin, mainly constituted of a copolymer obtained by a polymerization of at least two kinds of compounds, or mainly constituted of the compound having a siloxane bond is preferable.例文帳に追加

電解質ゲル８１は、ゲル基材中に電解質溶液を保持しており、ゲル基材としては、主として熱可塑性樹脂で構成されるもの、主として熱硬化性樹脂で構成されるもの、主として、少なくとも２種の化合物を重合させることにより得られる共重合体で構成されるもの、あるいは、主として、シロキサン結合を有する化合物で構成されるものが好ましい。 - 特許庁

In particular, such substrate is impregnated or coated with a mixture of a peroxo-containing ceramic precursor and a colloidal conductive ultramicroparticle solution, and the ceramic precursor is crystallized to obtain an insulation structure in which the substrate has a volume resistivity of 10^8 to 10^12 Ωcm and the formed surface resistance layer has a surface resistivity of 10^7 to 10^11 Ω/square.例文帳に追加

即ち、基板にペルオキソ基を持つセラミックス前駆体とコロイド状の導電性超微粒子溶液の混合物を含浸または塗布し、前記セラミックス前駆体を結晶化させて、前記基板の体積比抵抗が１０^８〜１０^１２Ω・ｃｍであると共に表面比抵抗が１０^７〜１０^１１Ω／□である表面抵抗層を形成したことを特徴とする絶縁構造体である。 - 特許庁

The method for producing the polyurethane film comprises a step of coating a substrate with a polyurethane solution, a step of dipping the substrate in a coagulation bath containing at least one non-solvent and coagulating the polyurethane film in which the pores are distributed from the surface to the interior and a step of removing the residual solvent and the non-solvent in the polyurethane film with a non-polar or a low-polar solvent.例文帳に追加

また、ポリウレタン溶液を基材に塗布する工程、少なくとも１つの非溶剤を含む凝固浴に前記基材を浸漬して、細孔が表面から内部に分布するポリウレタン膜を凝固させる工程、および非極性または低極性溶剤により前記ポリウレタン膜中の残留溶剤および非溶剤を除去する工程、を備えるポリウレタン膜の製造方法である。 - 特許庁

The dye-sensitized solar battery includes a translucent substrate, a first electrode made of a micro metal wiring selectively buried in the translucent substrate, an oxide semiconductor layer formed on the translucent substrate so as to cover the electrode, a second electrode layer formed opposite to the oxide semiconductor layer, and electrolyte solution filled between the oxide semiconductor layer and the second electrode layer.例文帳に追加

本発明に係る色素増感太陽電池は、透光性基板と；前記透光性基板に選択的に埋め込まれた微細金属配線からなる第１の電極と；前記電極を覆うように前記透光性基板上に形成された酸化物半導体層と；前記酸化物半導体層に対向して形成された第２の電極層と；前記酸化物半導体層と前記第２の電極層との間に充填された電解溶液とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The method comprises the steps of: (a) providing a metal substrate, and (b) applying a long-term coating on the metal substrate by bringing the metal substrate into contact with a solution containing one or more hydrolyzed or partially hydrolyzed amino silanes, one or more hydrolyzed or partially hydrolyzed multi-silyl-functional silanes and a solvent and substantially removing the solvent.例文帳に追加

下記の工程：（a）金属基材を用意する工程、および（b）金属基材を、１種類または２種類以上の加水分解された、または少なくとも部分的に加水分解されたアミノシラン、１種類または２種類以上の加水分解された、または部分的に加水分解された多シリル官能シランおよび溶剤を含有する溶液と接触させた後、溶剤をほぼ完全に除去することにより、金属基材に長期コーティングを施す工程を含んで成るように構成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the porous metal structure having a substrate 2 and a porous metal structure layer 31 formed on the surface of the substrate 2 includes: a first spray step of spraying a solution containing a metal ion or metal complex ion to the surface of the substrate 2; and a second spray step of spraying a reducing agent simultaneously with the first spray step, before the first spray step, or after the first spray step.例文帳に追加

基板２と、基板２の表面に形成されている金属多孔質構造体層３１とを備える金属多孔質構造体の製造方法であって、基板２の表面に金属イオンもしくは金属錯体イオンを含む溶液を噴霧する第１のスプレー工程と、第１のスプレー工程と同時に、前記第１のスプレー工程の前に、または前記第１のスプレー工程の後に、還元剤を噴霧する第２のスプレー工程とを備える、金属多孔質構造体３１の製造方法。 - 特許庁

The functional material 10 specifies the recesses 13 of the substrate 11 with the uneven shape on the surface part 11a, and a functional coating film 14 are formed in the recesses by jetting a functional agent-containing solution 14a by an inkjet coating jetting apparatus 25 into the recesses.例文帳に追加

機能性材料１０は、表面部１１ａに凹凸形状を有する基材１１の凹部１３を特定し、該凹部に、インクジェット塗装噴射装置２５により、機能剤含有溶液１４ａを噴射させることによって、機能性塗膜１４が該凹部内に形成されている。 - 特許庁

A method for manufacturing a resin pattern includes at least steps in the following order: (1) applying a photosensitive alkali aqueous solution developing type resin on a substrate; (2) exposing the resin; (3) exposing the resin film after exposure to a high humidity environment; (4) developing and (5) drying the resin.例文帳に追加

少なくとも（１）基板上に感光性アルカリ水溶液現像型樹脂を塗布する工程、（２）露光する工程、（３）露光後の樹脂皮膜を高湿度雰囲気下に曝す現像前処理工程、（４）現像工程、（５）乾燥工程をこの順に有する樹脂パターンの製造方法。 - 特許庁

The film is formed by electrifying the light-transmitting pattern region of the photomask substrate, electrifying the mist of a photocatalyst solution into the opposite polarity, making the mist fly to the photomask, vaporizing the solvent in the mist during flying, and depositing the photocatalyst fine particles on the light-transmitting pattern region.例文帳に追加

フォトマスク基板の光透過パターン領域を帯電させ、光触媒溶液のミストを逆極性に帯電させて前記フォトマスクに向けて飛翔させ、ミスト中の溶媒を飛翔中に蒸発させて前記光透過パターン領域に光触媒微粒子を付着させて成膜する。 - 特許庁

When forming the thin titanium oxide film form, a mixed-solution in which anatase titanium oxide particles with primary particle diameters of 1-200 nm are dispersed in an aqueous medium of pH 0.5 to 3.0 containing titanium hydroxide and/or titanium hydroxide precursor is applied to the conductive substrate and dried at 0-300 °C.例文帳に追加

酸化チタン薄膜を形成させる際には、水酸化チタン及び／または水酸化チタン前躯体を含むｐＨ０．５〜３．０の水系媒体に、一次粒子径１〜２００ｎｍのアナターゼ型酸化チタン粒子が分散された混合液を、導電性基板に塗布し０〜３００℃で乾燥させる。 - 特許庁

To provide an appropriate solution to use stress generated by a backside layer not only for controlling a bow but for improving the quality of a SiGe epitaxial layer, in particular a reduction in cross-hatching and surface roughness of the SiGe layer deposited on a Si substrate.例文帳に追加

バウの制御のためだけでなく、ＳｉＧｅエピタキシャル層の品質を改善するために、特にＳｉ基板上に堆積されたＳｉＧｅ層のクロスハッチ及び表面ラフネスを低減するために、背面層によって形成された応力を用いる適切な解決策を提供すること。 - 特許庁

In the membrane part 3, thereafter, etching holes 7 are formed in parts corresponding respectively to the respective opposite end parts of the one diagonal line DG and the other diagonal line, and an alkaline solution is introduced through the etching holes 7 to form a recess 12 in the main surface of the silicon substrate 1.例文帳に追加

その後、メンブレン部３において上記１つの対角線ＤＧおよびもう１つの対角線それぞれの両端部に対応する各部位にエッチングホール７を形成し、エッチングホール７を通してアルカリ系溶液を導入してシリコン基板１の主表面に凹所１２を形成する。 - 特許庁

Thereafter, the suspension substrate 1 is soaked in a dopant aqueous solution under soaking conditions of 100-200°C, 2-15 MPa and 30 minutes to 24 hours so that a dopant impregnates into the semiconductor layer 10 from its surface to a depth of at least 0.2 μm.例文帳に追加

その後、この半導電性層１０に、ドーピング剤が、半導電性層１０の表面から少なくとも０．２μｍの深さまで浸透されるように、回路付サスペンション基板１を、ドーピング剤水溶液に、１００〜２００℃、２〜１５ＭＰａ、３０分〜２４時間の浸漬条件で、浸漬する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition useful for forming a patterned resin film which has high transparency, a low dielectric constant, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, and excellent adhesiveness with a substrate and which is obtained by developing with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a sample clean-up device for mass spectrometer in which salts of low molecular weight can be removed from a biological sample of high molecular weight, e.g. protein, using a stream line flow in a substrate and a sample solution can be replaced by a solvent suitable for mass spectrometer.例文帳に追加

基板内において流線形フローを用いて蛋白質などの高分子量の生体試料から低分子量の塩類を除去可能であり、試料の溶媒を質量分析機に好適な溶媒に交換可能な質量分析機のための試料クリーンアップ装置を提供する。 - 特許庁

A method for forming an organic thin film transistor is characterized in that a channel layer is formed in a range from 3 μm to 200 μm from the end part of an organic semiconductor film that is deposited by supplying and coating a coating solution comprising an organic semiconductor material onto a substrate to dry it.例文帳に追加

有機半導体材料を含む塗布液を基板の上に供給、塗布して、乾燥させることにより成膜される有機半導体膜の端部より３μｍ以上、２００μｍ以下の範囲にチャネル層を形成することを特徴とする有機薄膜トランジスタの形成方法。 - 特許庁

When subjecting a metallic body 8 to be coated containing magnesium to substrate treatment, the metallic body 8 to be coated is dipped into a fluorine compound-containing treating solution 3 to which a surface tension reducing agent such as ethanol is added to deposit a chemical conversion film of magnesium fluoride on the surface of the metallic body 8 to be coated.例文帳に追加

マグネシウムを含有する金属被塗装体８を下地処理するに際し、前記金属被塗装体８を、エタノールなどの表面張力低下剤を添加したフッ素化合物含有処理液３に浸漬し、金属被塗装体８の表面にフッ化マグネシウムの化成膜を生成させる。 - 特許庁

The 3-dimensional porous structure is prepared by casting an organic solvent solution of a polymer on a substrate surface; evaporating this organic solvent and at the same time condensing the moisture in the atmosphere into dews; and arranging the condensed water droplets three-dimensionally into a multilayer and then evaporating the condensed water droplets.例文帳に追加

基板表面にポリマーの有機溶媒溶液をキャストし、この有機溶媒を蒸散させると同時に雰囲気中の水分を結露させ、さらに結露した水滴を３次元的に多層に配置させた後に結露した水滴を蒸発させて３次元多孔質構造体とする。 - 特許庁

This method is a method for the hydrolysis with the lipase, in which the hydrolysis is performed in an aqueous solution by making the lipase derived from a microorganism act as a substrate, wherein one organic solvent or more selected from the group consisting of dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, 1,4-dioxane, and dimethoxyethane is/are added to the reaction system.例文帳に追加

水系で基質に微生物由来のリパーゼを作用させて加水分解反応を行うにあたり、反応系にジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、1,4 −ジオキサンおよびジメトキシエタンの中から選ばれた少なくとも１種の有機溶媒を添加することを特徴とするリパーゼによる加水分解方法。 - 特許庁

The sheet-like cosmetic for skin moisturization is prepared by impregnating a sheet-like substrate with a composition comprising (A) a colloidal solution of platinum, (B) at least one member selected from extracts of chamomilla, grapefruit, eucalyptus, and prunus, (C) an inorganic powder and/or an organic powder, and (D) water.例文帳に追加

（Ａ）白金コロイド液、（Ｂ）カモミラ、グレープフルーツ、ユーカリおよびサクラから選ばれる植物抽出物のうち少なくとも１種、（Ｃ）無機粉体および／又は有機粉体、並びに、（Ｄ）水からなる組成物をシート状基材に含浸させてなることを特徴とする皮膚保湿用シート化粧料とする。 - 特許庁

The method for producing the gasket material comprises coating a substrate with a rubber solution compounded with about 5-50 pts.wt., based on 100 pts.wt. of rubber, of the organic bentonite and a blowing agent by screen printing method or a method using a dispenser and expanding the coated rubber by heating.例文帳に追加

このようなガスケット材料の製造は、ゴム100重量部当り約5〜50重量部の有機ベントナイトおよび発泡剤を添加したゴム溶液を基材上にスクリーン印刷法またはディスペンサを用いる方法によって塗布した後、加熱発泡させることによって行われる。 - 特許庁

A solution of a polyvalent metal salt of an unsaturated carboxylic acid compound having a degree of polymerization of <20 is coated on a substrate layer and then the polyvalent metal salt of the unsaturated carboxylic acid compound is irradiated with electron beams in the presence of a solvent to manufacture the gas barrier film.例文帳に追加

基材層に重合度が２０未満の不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩溶液を塗工した後、不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩に溶媒の存在下で電子線を照射することを特徴とするガスバリア性膜の製造方法に関する。 - 特許庁

This reference electrode 10 is equipped with a porous film 16 arranged on the bottom part of the aperture provided in the substrate, an internal electrolyte solution including hydrophilic polymer layer 12 laminated on the porous film, and a conductor electrode 20 connected to a hydrophilic polymer upper layer.例文帳に追加

参照電極１０は、基板内に設けられた透孔内の底部に配置された多孔膜１６と、該多孔膜上に積層された内部電解質溶液含有親水性高分子層１２と、該親水性高分子上層に接続された導体電極２０とを具備する。 - 特許庁

Before developer is discharged onto an exposed resist film formed on a surface of the substrate W from a developer discharge nozzle 28, and the resist film is developed; solution comprising surfactant is discharged onto the resist film from a liquid discharge nozzle 30 as pre-wetting liquid, and a pre-wetting processing is performed.例文帳に追加

現像液吐出ノズル２８から基板Ｗの表面に形成された露光後のレジスト膜上へ現像液を吐出してレジスト膜を現像処理する前に、液体吐出ノズル３０からプリウェット液として界面活性剤を含む溶液をレジスト膜上へ吐出してプリウェット処理する。 - 特許庁

A photosensitive resin solution is applied on a transparent substrate 201 to form a photosensitive resin coating film by drying at a prescribed temperature, it is exposed using a photomask formed with a randomly arranged dot pattern, and is heated to be cured to form a resin film 202 having dotlike gentle unevenness.例文帳に追加

透明基板２０１上に感光性樹脂溶液を塗布し、所定の温度で乾燥し感光性樹脂膜を形成し、ランダムに配置されたドットパターンが形成されたフォトマスクを使って露光し、加熱硬化してドット状のなだらかな凹凸を有する樹脂膜２０２を形成する。 - 特許庁

To provide development processing equipment and a development processing method, in which processing efficiency is improved by enabling continuous processing even when a plurality of kinds of developing solutions are used, development processing is equalized and a substrate having high quality can be obtained by reducing the residue of the developing solution.例文帳に追加

複数種の現像液を用いた場合においても連続的な処理を可能として処理効率を高め、また、現像処理を均一化し、現像液の残渣の低減せしめて高品質な基板を得ることを可能とする現像処理装置および現像処理方法を提供する。 - 特許庁

The method of producing the radiation detector comprises dropping of solution in which the boron nano belts are dispersed on a substrate, drying it to form many nano belts, optionally selecting one of the multitude of nano belts, and then forming the fine electrodes and wiring on both ends of the boron nano belt.例文帳に追加

ボロンナノベルトが分散した溶液を基板上に滴下し、これを乾燥して多数のナノベルトを作成し、この多数のナノベルトの１本を任意に選択した後、ナノベルトの両端に微細な電極と配線を形成することを特徴とする放射線検出器の作製方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution and adhesion and can be developed with an alkaline aqueous solution, to provided a photosensitive resin laminate that uses photosensitive resin composition, and to provide a method for forming a resist pattern on a substrate using the photosensitive resin laminate.例文帳に追加

感度、解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

Next, if the remaining protection resin film 71 is removed and a catalyst dispersion or a catalyst solution is applied to the face 54a, the catalyst is deposited on the position of the naked carrier film 70 of the groove 56a prior to the exposed part of the first substrate 54 so as to form a catalyst carrier film 59 on the groove 56a.例文帳に追加

次に、残留した保護樹脂膜７１を除去し、その面５４ａに触媒分散液又は触媒溶液を塗布すると、触媒は第一基板５４の露出した部分よりも優先的に溝５６ａの担体膜７０に担持されるので、溝５６ａに触媒担持膜５９が形成される。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes at least steps of: forming a photoresist film on a substrate; forming a resist protective film on the photoresist film by using the above resist protective film material; exposing; and developing by use of a developer solution.例文帳に追加

並びに、少なくとも、基板上にフォトレジスト膜を形成する工程と、該フォトレジスト膜の上に、前記レジスト保護膜材料を用いてレジスト保護膜を形成する工程と、露光する工程と、現像液を用いて現像する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁