「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

The method comprises coating, spraying or applying like dying or paper-making a solution produced by uniformly dispersing the carbon-based nano structure onto the surface and the inside of tissue of the substrate material such as paper, fiber or leather to adsorb and infiltrate the carbon-based nano structure thereinto.例文帳に追加

炭素系ナノ構造物を均一に分散させた溶液を塗布、スプレー噴霧、又は染め物や抄紙の要領で使用し、紙、繊維、皮革といった基礎となる素材の表面や組織の内部に炭素系ナノ構造物を吸着・浸透させる。 - 特許庁

The alkali-free glass substrate for the liquid crystal panel includes a Haze value of ≤7.0% after being immersed in a buffered fluoric acid solution comprising 5.3 mass% of hydrofluoric acid (HF), 35.8 mass% of ammonium fluoride (NH_4F) and the balance water for 20 min at 25°C.例文帳に追加

液晶パネル用の無アルカリガラス基板において、フッ酸（ＨＦ）：５．３質量％、フッ化アンモニウム（ＮＨ_４Ｆ）：３５．８質量％、残部：水からなるバッファードフッ酸の溶液中に２５℃、２０分間浸漬した後のヘイズ値が７．０％以下である。 - 特許庁

To provide a development processing method and development processing apparatus for uniformizing development processing, reducing a pattern collapse by developing solution or generation of a development loading effect, and capable of acquiring a high-quality substrate without variations in size in the surface to be processed.例文帳に追加

現像処理を均一化し、現像液によるパターン倒れや現像ローディング効果の発生を低減し、処理面内おける寸法ばらつきのない高品質な基板を得ることが可能な現像処理方法及び現像処理装置を提供する。 - 特許庁

The chemical amplification type resist material 3 containing a base resin, a photo-acid generating agent and a cationic polyelectrolyte is applied on a substrate 1, heat-treated and developed with an aqueous alkali solution to form a positive type resist pattern 5.例文帳に追加

ベース樹脂、光酸発生剤、及びカチオン性高分子電解質を含有してなる化学増幅型レジスト材料３を基板１上に塗布し、熱処理を行った後、アルカリ水溶液により現像を行い、ポジ型のレジストパターン５を形成する。 - 特許庁

The method for selectively removing a high-k material includes a step for providing a high-k material layer 5 on a semiconductor substrate; and a step for immersing the high-k material layer 5 into a solution containing hydrogen fluoride, an organic compound, and an inorganic acid.例文帳に追加

ｈｉｇｈ−ｋ物質の選択的除去方法は、半導体基板の上にｈｉｇｈ−ｋ物質層５を設けるステップと、前記ｈｉｇｈ−ｋ物質層５を、フッ化水素、有機化合物及び無機酸を含む溶液にさらすステップとを含む。 - 特許庁

In this way, while always removing particles effectively by the SC1 solution, they are effectively removed also by volume expansion when the liquid film 11 is frozen, therefore, the particles can be effectively removed from the substrate W.例文帳に追加

このように、パーティクルに対してＳＣ１溶液による除去効果を常に発揮させながら、液膜１１の凍結時の体積膨張による除去効果を重畳して作用させているので、基板Ｗからパーティクルを効果的に除去することができる。 - 特許庁

This substrate treating apparatus 1 comprises: delivering tubes 36a, 36b delivering a liquid containing a sulfuric acid component into the inside of an inner vessel 11; and delivering tubes 55a, 55b delivering hydrogen peroxide solution toward a liquid delivered from the delivering tubes 36a, 36b.例文帳に追加

基板処理装置１は、内槽１１の内部に硫酸成分を含む液体を吐出する吐出管３６ａ，３６ｂと、吐出管３６ａ，３６ｂから吐出される液体に向けて過酸化水素水を吐出する吐出管５５ａ，５５ｂとを備えている。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device, the desired flatness of a silicon surface can be obtained by constantly supplying a high-temperature ammonium fluoride aqueous solution onto a surface of a silicon substrate having at least a silicon surface partially exposed.例文帳に追加

本発明は、少なくともシリコン面が部分的に露出したシリコン基板の表面に、高温のフッ化アンモニア溶液を定常的に供給することで、シリコン面の平坦化を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

A drawing pattern 8 is heat-treated by local high temperature annealing using laser in the same device 1 immediately after carrying out pattern drawing by a solution 6 containing the inorganic material by using a cantilever 2 of a scanning type probe microscope on a substrate 5.例文帳に追加

基板５上に走査型プローブ顕微鏡のカンチレバー２を用いて無機材料を含む溶液６によるパターン描画を行った直後に、同一装置１内においてレーザを用いた局所高温アニールにより描画パターン８を加熱処理する。 - 特許庁

To provide a method for recovering hydrofluoric acid from a hydrofluoric acid waste solution exhausted, e.g., from an etching stage for a glass substrate where scaling is not generated, and refined hydrofluoric acid in which impurities are further reduced can be recovered at a high yield.例文帳に追加

ガラス基板のエッチング工程などから排出されたフッ酸廃液からフッ酸を回収する方法であって、スケーリングの発生がなく、不純物の一層少ない精製フッ酸を高い収率で回収できるフッ酸の回収方法を提供する。 - 特許庁

After exposing and developing are performed on a positive type photosensitive resin layer formed on a substrate to form the rectangular pattern 18, water solution containing non-reactive silicone oil is applied and dewatered, and the rectangular pattern is thermally reflowed by heat treatment to make the microlens.例文帳に追加

基板上に形成されたポジ型感光性樹脂層に露光、現像して矩形パターン１８を形成した後に、非反応性シリコーンオイルを含有する水溶液を塗布、水切りし、熱処理にて該矩形パターンを熱リフローさせマイクロレンズとすること。 - 特許庁

This optical encoder device can be produced with a simple manufacturing work and a small number of process steps due to the excellent performance possessed by the light through beam solution for optically encoded element and the single non- folding common substrate.例文帳に追加

光符号化要素用の光スルービームソリューションは優れた性能を有していると共に、単一の非折り畳み型共通基板により、本発明による光エンコーダデバイスは単純な製造作業とわずかなプロセス段階によって製造することができる。 - 特許庁

This composite polymer is provided by using a composite material obtained by extending a solution of a polymer B having a different molecular structure on a solid polymer A and drying, as a target and forming a structure of condensed fine grains in a high density on a substrate by the radio frequency sputtering.例文帳に追加

固体のポリマーＡの上に、Ａと異なる分子構造を有するポリマーＢ溶液を展開し乾燥させた複合材料をターゲットとして用い、高周波スパッタで基板上に、微細なグレインが高密度に凝縮した構造を形成する。 - 特許庁

An aluminum oxide layer 14 is formed in at least one surface of an aluminum substrate 12 by an anode oxidation method, a solution wherein perhydropolysilazane is dissolved is applied on the aluminum oxide layer 14 and a silica glass layer 16 is formed by heating treatment.例文帳に追加

アルミニウム基板１２の少なくとも一方の面に、陽極酸化法により酸化アルミニウム層１４を形成し、酸化アルミニウム層１４上にパーヒドロポリシラザンが溶解した溶液を塗布し、加熱処理することによりシリカガラス層１６を形成する。 - 特許庁

A composition for the cleaning solution for semiconductor substrate contains one or more kinds selected out from a group comprising a compound, having at least two or more sulfonic acid groups in a single molecule, and phytic acid and condensed phosphate compounds, inorganic acid and water.例文帳に追加

１分子中にスルホン酸基を少なくとも２以上有する化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる、半導体基板浄液組成物。 - 特許庁

To provide control method of oxygenation process for performing oxygenation of a material to be oxidized formed on processed substrate surface using ozone-dissolved sulfuric acid solution, which can determine the presence of the material to be oxidized.例文帳に追加

被処理基板表面に形成された被酸化物に対してオゾンを溶解させた硫酸溶液を用いて酸化を行う酸化工程において、被酸化物の存在の有無を判定することが可能な酸化工程の制御方法を提供する。 - 特許庁

A flow channel substrate 1 is formed by sequentially laminating filmy electrodes 14 and a photosensitive resin layer 12 on a glass support 11, and the photosensitive resin layer 12 is partially removed to form solution tanks 21, 21 and a flow channel 23.例文帳に追加

流路基板１は、ガラス製の支持体１１に、膜状電極１４及び感光性樹脂層１２を順に積層して形成され、感光性樹脂層１２を部分的に除去することで、溶液槽２１，２１及び流路２３が形成されている。 - 特許庁

Printability of the alignment layer can be enhanced and film thickness uniformity of the alignment layer can also be enhanced by applying the polyamic acid type polyimide solution to form the first layer as a connector of the polyimide film layer used as the alignment layer with the LCD substrate.例文帳に追加

第１層目にポリアミック酸タイプのポリイミド溶液を塗布して、配向膜として用いるポリイミド膜の層とＬＣＤ基板のつなぎ役とすることで、配向膜の印刷性を向上させ、配向膜の膜厚均一性も向上させることができる。 - 特許庁

A liquid coating solution comprising about 80.0-99.9 wt.% of a polyimide component and about 0.01-3.0 wt.% of copper nanoparticles is coated and cured on a stainless steel substrate.例文帳に追加

ステンレス鋼基材上に、ポリイミド成分が約８０．０重量％から約９９．９重量％の間からなり、複数の銅ナノ粒子が約０．０１重量％から約３．０重量％の間からなる液体コーティング溶液を塗布、硬化させる。 - 特許庁

In the surface treatment method of the black matrix, the surface of the black matrix is processed with the aqueous solution for black matrix surface treatment before formation of the color filter after the black matrix containing nickel as a component is formed on a substrate.例文帳に追加

また、基板上にニッケルを構成成分として含むブラックマトリックスを形成した後、カラーフィルターを形成する前に、ブラックマトリックスの表面を、上記ブラックマトリックス表面処理用水溶液で処理するブラックマトリックスの表面処理方法である。 - 特許庁

A flow channel substrate 1 is formed by sequentially laminating filmy electrodes and a photosensitive resin layer 12 on a glass support 11, and the photosensitive resin layer 12 is partially removed to form solution tanks 21, 21 and a flow channel 23.例文帳に追加

流路基板１は、ガラス製の支持体１１に、膜状電極及び感光性樹脂層１２を順に積層して形成され、感光性樹脂層１２を部分的に除去することで、溶液槽２１，２１及び流路２３が形成されている。 - 特許庁

In the production method of the polymer molded article of this invention, a substrate which consists of the hydrophobic polymer is dried after its coating with a mixed material solution made by dissolving the hydrophobic polymer and the hydrophilic polymer in an organic solvent.例文帳に追加

本発明の高分子成形品の製造方法は、疎水性高分子からなる基材を、疎水性高分子及び親水性高分子を有機溶媒に溶解させてなる混合材料溶液によってコーティングした後、乾燥させることを特徴とする。 - 特許庁

A plate-shape spring substrate 102 is formed by injection molding of a polyether-ether ketone (PEEK) resin, and by coating a solution in which polypyrrole resin in dedoped state is dispersed on the surface with a binder mixed beforehand, an adhesive layer 103 is formed.例文帳に追加

ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂を射出成形して板状のばね基体１０２を成形し、表面に脱ドープ状態のポリピロール樹脂を分散した溶液に、あらかじめバインダを混合したものを塗布して接着層１０３を形成する。 - 特許庁

After coating this photocuring conductive paste composition on the glass substrate of the plasma display panel, it is exposed in accordance with the prescribed pattern and developed by the alkaline water solution, then fired, thereby, a black electrode circuit of high definition can be formed.例文帳に追加

この光硬化性導電性ペースト組成物をプラズマディスプレイパネルのガラス基板上に塗布した後、所定のパターン通りに露光し、アルカリ水溶液により現像した後、焼成することにより、高精細の黒色電極回路を形成できる。 - 特許庁

Such a water-soluble acrylamide polymer can be produced at a high productivity by supplying a layer of an aqueous acrylamide monomer solution containing a photoinitiator onto a substrate and irradiating the layer with an active energy ray by changing the irradiation conditions.例文帳に追加

このような水溶性アクリルアミド系重合体は、光開始剤を含むアクリルアミド系単量体水溶液を基体上に層状に供給し、これに照射条件を変えて活性エネルギー線を照射することで生産性良く得られる。 - 特許庁

Especially, the substrate 2 is constituted of a conductive material, the dielectric constituting the surface layer is made of a tantalum oxide or an aluminum oxide, and an electrolytic solution is electrolyzed with the low current density to thereby produce ozone with the high efficiency.例文帳に追加

特に、基体２は、導電性材料にて構成すると共に、表面層４を構成する誘電体は、酸化タンタル、又は、酸化アルミニウムにより構成し、低電流密度による電解質溶液の電解処理によって高効率にてオゾンを生成する。 - 特許庁

An organic electronic material containing an acene-based compound represented with formula (1) is dissolved in a mixed solvent of cyclohexane and a solvent capable of dissolving the acene-based compound, and a substrate is coated with the solution to form the crystalline thin film of the organic electronic material.例文帳に追加

式（１）で表されるアセン系化合物を含む有機電子材料を、シクロヘキサンと、アセン系化合物を溶解しうる溶媒との混合溶媒に溶解させ、その溶液を基板に塗布して該有機電子材料の結晶性薄膜を形成する。 - 特許庁

A recording layer containing a dihydropyridine compound, a polymer soluble in an alkaline developing solution and a near IR absorbing dye is disposed on a substrate previously treated with a specified amino compound to obtain the objective positive type photosensitive composition.例文帳に追加

予め、特定のアミノ化合物で処理を施した支持体上に、ジヒドロピリジン化合物と、アルカリ性現像液に可溶性のポリマーと、近赤外線吸収染料を含有する記録層を設ける事を特徴とするポジ型の感光性組成物。 - 特許庁

To provide a developing solution for negative photoresist which removes residue on a substrate, prevents unevenness and enables uniform development even after repeated use in the production of a color filter for a liquid crystal display or the like by a pigment dispersion method.例文帳に追加

液晶ディスプレー用等のカラーフィルタを顔料分散法により製造するに際し、基板上の残さ除去や、ムラ防止を達成できて、しかも繰り返し使用しても均一な現像が可能であるネガ型フォトレジスト用現像液を提供する。 - 特許庁

Then the substrate 101 subjected to the treatment by oxygen plasma is immersed in a hydrochloric acid solution having a pH about 4.8, for example, so that the hydrochloric acid may act on the surfaces of the control electrode 118 and the movable electrode 109.例文帳に追加

次に、この酸素プラズマによる処理がなされた基板１０１が、例えば、ｐＨ４．８程度とされた塩酸溶液に浸漬された状態とし、塩酸が、制御電極１１８及び可動部電極１０９の表面に作用する状態とする。 - 特許庁

To provide the stripping solution composition superior in anticorrosiveness to the Cu circuit forming substrate at the time of resist stripping by incorporating 2-(2-aminoethoxy)-ethanol, N-methyl-2-pyrrolidone and/or 1,3-dimethyl-n-imidazo-lidinone and a specified compound.例文帳に追加

レジスト剥離性と、Ｃｕ配線基板への防食性に優れ、特に０．２〜０．３μｍ程度以下の極微細なＣｕ配線が形成された基板に対して有用なホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたレジスト剥離方法を提供する。 - 特許庁

The stage 7 is also provided with the recollect flow paths (22, 24, and 25) in which the immersion liquid 12 immersed from a clearance between the substrate 5 and the accessory plate 21 flows and a temperature control flow path 26 to be supplied with a temperature control solution which is adjusted at a predetermined temperature.例文帳に追加

ステージ７には、基板５と補助板２１との隙間から浸入した浸液１２が流れる回収流路（２２，２４，２５）と、所定の温度に調整された温調液が供給される温調流路２６と、が形成されている。 - 特許庁

When a feed nozzle with a curved discharge opening is provided, or a means that generates an air flow which move along the surface of the substrate to restrain a developing solution from returning together is provided, the same effect can be obtained.例文帳に追加

また本発明では湾曲した吐出口が形成された供給ノズルを設けた構成、あるいは液の寄り戻しを抑えるために基板表面に沿って気流を形成する手段を設けた構成としても同様の効果が得られる。 - 特許庁

In the finishing method for a tervalent chromate film, a finishing agent composition for a tervalent chromate film in the form of an aqueous solution comprising a tervalent chromium complex, phosphoric acid ions, zinc ions and water is stuck to a tervalent chromate film on a substrate, and next, drying is performed thereto.例文帳に追加

基体上の３価クロメート皮膜に、３価クロム錯体、燐酸イオン、亜鉛イオン及び水を含有し、水溶液の形態にある３価クロメート皮膜用仕上げ剤組成物を付着させ、次で乾燥することを含む、３価クロメート皮膜の仕上方法。 - 特許庁

The coating composition is a coating composition used for forming the electron reduction layer 7 on the surface of the positive electrode substrate 1, comprises an organic solvent solution of a platinum compound, and has at least 10 cP or more of viscosity at 25°C.例文帳に追加

正極基板１の表面に電子還元層７を形成するために使用されるコーティング組成物であって、白金化合物の有機溶媒溶液からなり、２５℃で、少なくとも１０ｃＰ以上の粘度を有していることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a finishing solution for a planographic printing plate using an aluminum plate which imparts high ink receptivity to the image area while improving the ink stain of the non-image area as the substrate and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process.例文帳に追加

本発明の目的は、非画像部のインキ汚れを改善しつつ、同時に画像部に高いインキ受理性を持たせるアルミニウム板を支持体とする銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版の仕上げ液を提供することである。 - 特許庁

This crystallized glass substrate for an information recording medium comprises 35-65 mol% of SiO2, 5-25 mol% of Al2O3, 10-40 mol% of MgO and 5-15 mol% of TiO2, wherein the total of the above components is at least 92 mol% and the main crystals are enstatite and/or its solid solution.例文帳に追加

SiO_2：35−65モル％、Al_2O_3： 5−25モル％、MgO： 10−40モル％、TiO_2： 5−15 モル％を含有し、上記組成の合計が少なくとも92モル％以上であり、主結晶がエンスタタイト及び/又はその固溶体である情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 - 特許庁

A resin solution is applied at a prescribed thickness on a substrate and is subjected to first prebaking at a low temperature of about 40 to 65°C and is then subjected to second prebaking at a high temperature of about 80 to 130°C, by which the drying unevenness of the resin film may be suppressed.例文帳に追加

基板に所定の膜厚で樹脂溶液を塗布し、４０〜６５℃程度の低温で第１のプリベーキングを行った後に、８０〜１３０℃程度の高温で第２のプリベーキングを行うことにより、樹脂膜の乾燥ムラを抑制することができる。 - 特許庁

To provide a two-fluid nozzle capable of improving cleaning effects to a workpiece and reducing damages to the workpiece when atomizing the liquid drops of a cleaning solution, and to provide a substrate cleaning apparatus and method.例文帳に追加

被処理基板に対する洗浄効果を向上させることができるとともに、洗浄液の液滴の噴霧の際における被処理基板に対するダメージを軽減することができる二流体ノズル、基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁

A fluorine-containing nonionic surfactant, ≥1.5×10-5 mol/m2 salt of a polyvalent metal and an anionic surfactant which forms a slightly soluble salt with the polyvalent metal in an aqueous solution are added to a top layer on a substrate on the information recording layer side.例文帳に追加

支持体上の情報記録層側の最上層に、含弗素ノニオン界面活性剤と、１．５×１０^-5モル／m^2以上の多価金属塩と、更に該多価金属と水溶液中で難溶性塩をつくるアニオン界面活性剤を添加する。 - 特許庁

The conductive film is made by applying or impregnating a binder solution 3 in which zinc oxide particles and/or titanium oxide particles are dispersed in an hydrophilic binder on a substrate 1 made of paper or nonwoven fabric and has 10^5 Ω/sq. to 10^12 Ω/sq. of sheet resistance.例文帳に追加

酸化亜鉛粒子及び／又は酸化チタン粒子を親水性バインダーに分散させたバインダー溶液を紙又は不織布からなる基材に塗布又は含浸させてなるシート抵抗が１０^５Ω／□〜１０^１２Ω／□である導電性膜。 - 特許庁

When forming a conductive film by baking a precursor film 4' formed by applying a metal complex solution by an ink jet device onto a substrate 1, the edge of the precursor body 4' is irradiated with 254 nm or smaller ultraviolet rays before the baking.例文帳に追加

基板１上に、金属錯体溶液をインクジェット装置で塗布することで形成された前駆体膜４´をベーキングして導電性膜を形成する際に、前記ベーキング前に、前記前駆体膜４´の端部に２５４ｎｍ以下の紫外線を照射する。 - 特許庁

To obtain a negative type photosensitive composition less liable to contaminate an exhausted developing solution and capable of giving a photoreceptor with an image excellent in peeling resistance to the substrate as well as in reproducibility and to obtain a negative type photosensitive planographic printing plate.例文帳に追加

疲労現像液への汚染性が低く、再現性に優れると共に支持体に対する耐剥離性に優れた画像を有する感光体を得ることができるネガ型感光性組成物及びネガ型感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

The planographic printing plate characterized by containing an oil dispersing solution in at least one of layers in the planographic printing plate using a method of transferring silver complex salt diffusion in which at least a silver halide emulsion layer is provided on an anodically oxidized aluminum substrate.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体上に、少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する銀錯塩拡散転写法を利用する平版印刷版に於いて、少なくとも何れかの層にオイル分散液を含む事を特徴とする平版印刷版。 - 特許庁

The method for diagnosis comprises reacting the sample with a fluorescent synthetic substrate specific for the dipeptidyl peptidase and bestatin which is an aminopeptidase inhibitor in the presence or absence of tynorphin which is a dipeptidyl peptidase inhibitor and assaying the fluorescent intensity of the reaction solution after the reaction.例文帳に追加

ペプチジルペプチダーゼに特異的な蛍光合成基質及びアミノペプチダーゼ阻害剤であるベスタチンに、ペプチジルペプチダーゼ阻害剤であるタイノルフィンの存在あるいは非存在下において、試料を反応させ、反応後の反応液の蛍光強度を測定する。 - 特許庁