「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition which is thoroughly developed, has high sensitivity, high resolution, good adhesion to a substrate and excellent etching resistance, can be developed with a dilute aqueous alkali solution and makes stripped pieces small in stripping with an aqueous alkali solution and to provide a photosensitive resin laminate and a method for producing the same.例文帳に追加

現像残りがなく高感度、高解像度を有し、基板に対する密着性が良好で、かつ耐エッチング性に優れ、さらに希アルカリ水溶液を用いて現像可能で、アルカリ水溶液による剥離において剥離片形状が細片となる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

A conductive film formed on a semiconductor substrate is dissolved in an electrolytic solution by anodically oxidizing the film by arranging counter electrodes against the conductive film at a prescribed interval and, after filling up the space between the film and counter electrode with the electrolytic solution, applying a voltage across the film and electrode by using the electrode as a cathode.例文帳に追加

半導体基板上に形成された導電膜に対して、所定の間隔をおいて対向電極を配置するとともに、該導電膜と対向電極との間を電解液で満たし、導電膜を陽極、対向電極を陰極として電圧を印加することにより、導電膜を陽極酸化して電解液中に溶解させる。 - 特許庁

The apparatus has a treatment vessel 1 containing an acidic aqueous solution containing selenite ions or tellurite ions and sulfite ions, a means of irradiating the vessel 1 with ultraviolet light and a deposition unit for depositing selenium or tellurium on a substrate 2 by irradiating the acidic aqueous solution with the ultraviolet light.例文帳に追加

亜セレン酸イオンまたは亜テルル酸イオンと亜硫酸イオンを含む酸性水溶液を有する処理槽１と、この処理槽１に紫外光を照射する手段と、前記紫外光を前記亜セレン酸イオン又は亜テルル酸イオンと亜硫酸イオンを含む酸性水溶液に照射し、セレンまたはテルルを基板２上に堆積させる堆積装置とを具備する。 - 特許庁

The method for controlling the quality of DNA chips includes a stage for preparing a DNA spotting solution containing a first fluorescent substance that is excited and radiated at a specific wavelength, a stage for sporting the DNA spotting solution to a substrate to manufacture the DNA chips, and a stage for detecting fluorescent signals that are emitted from the DNA spot.例文帳に追加

特定の波長において励起／放出される第１の蛍光物質を含有するＤＮＡスポッティング溶液を調製する段階と、前記ＤＮＡスポッティング溶液を基板にスポッティングしてＤＮＡチップを製造する段階と、前記ＤＮＡスポットから発せられる蛍光シグナルを検出する段階と、を含むＤＮＡチップの品質管理方法。 - 特許庁

In this electrophotographic photoreceptor in which an under- coating layer 2, a charge generation layer 31, a charge transportation layer 32 and a protective layer 4 are laminated to an electroconductive substrate 1 in this order, a solution comprising metal oxide particles supporting titanyl phthalocyanine pigment as a charge generation material on the surface of titanium oxide particles is used as a coating solution of the protective layer.例文帳に追加

導電性支持体１上に下引き層２、電荷発生層３１、電荷輸送層３２、保護層４をこの順に積層した電子写真感光体において、保護層塗工液として、酸化チタンの粒子表面に電荷発生材料であるチタニルフタロシアニン顔料を坦持せしめた金属酸化物粒子を配合したものを用いた。 - 特許庁

The production method comprises heating a coating film that is formed by coating a substrate with a polyamic acid solution composition, wherein the polyamic acid solution composition is prepared by introducing a specific chemical structure within a specific proportional range into a polyamic acid having a chemical structure that comprises a 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid component and/or a pyromellitic acid component and a paraphenylenediamine component.例文帳に追加

３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸成分及び／又はピロメリット酸成分と、パラフェニレンジアミン成分からなる化学構造を有するポリアミック酸に特定割合の範囲内で特定の化学構造を導入したポリアミック酸溶液組成物を基材に塗布して形成された塗膜を加熱処理する製造方法、及び前記ポリアミック酸溶液組成物。 - 特許庁

The medical solution nozzle 142 is located between two holding rollers in the first holding rollers 1A-1C, and is arranged near the upstream-side holding roller positioned at the upstream side in a rotary direction A of the substrate W in the pair of holding rollers.例文帳に追加

薬液ノズル１４２は、第１保持ローラ１Ａ〜１Ｃのうちの２つの保持ローラの間であって、該保持ローラ対のうち基板Ｗの回転方向Ａにおいて上流側に位置する上流側保持ローラの近傍に配置される。 - 特許庁

The fiber reinforced substrate is obtained by impregnating an aromatic liquid crystal polyester solution comprising 100 pts.wt. of a solvent expressed in the following, and 0.5-100 pts.wt. of an aromatic liquid crystal polyester to a reinforcing fiber sheet, and then removing the solvent.例文帳に追加

下記溶媒１００重量部および芳香族液晶ポリエステル０．５〜１００重量部を含有してなる芳香族液晶ポリエステル溶液を、シート状繊維強化材に含浸せしめ、溶媒を除去して得られる繊維強化基板。 - 特許庁

The chemical fluid processing device applies chemical solution treatment on both the upper and lower surfaces of the intermediate product, parallel to a transferring surface upon the transfer process of the intermediate product of printed circuit substrate along a transfer path 10, having a horizontal transfer surface.例文帳に追加

薬液処理装置は、水平な移送面を有した移送経路１０に沿ってプリント配線基板の中間製品を移送する過程にて、前記移送面に平行な前記中間製品の上下両面を薬液処理する。 - 特許庁

A solution of a polyamic acid derived from amic acid forming compounds of p-phenylenediamine and 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid is cast on a smooth substrate, immersed in a 1-6C lower alcohol and the obtained polyamic acid porous membrane is imidated.例文帳に追加

パラフェニレンジアミンと３、３’、４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸のアミド酸形成化合物から由来するポリアミド酸の溶液を平滑な基板上にキャストし炭素数１〜６の低級アルコールに浸漬させ、得られたポリアミド酸多孔膜をイミド化させる。 - 特許庁

The organic solvent gas supplied to the facing member 4 spreads inside the facing member 4 while dispersing, and is uniformly discharged from the entire bottom surface 43 of the facing member 4 toward the rinse solution adhering on the substrate surface Wf.例文帳に追加

対向部材４に供給された有機溶剤ガスは対向部材４の内部を分散しながら広がっていき、対向部材４の底面４３の全体から均一に基板表面Ｗｆに付着するリンス液に向けて吐出される。 - 特許庁

In a substrate cleaning process, clean air the relative humidity and temperature of which are controlled is supplied vertically downward toward the surface of the cleaning solution in the cleaning tank, and air in the draft is discharged in a displacement within a prescribed range.例文帳に追加

基板洗浄装工程では、相対湿度・温度を制御したクリーンエアーを、洗浄槽の洗浄液液面に向けて鉛直方向下向きに供給するとともに、洗浄ドラフト内の空気を所定範囲内の排気量で排気する。 - 特許庁

A method of forming an insulation film for an electronic device is characterized by step (a) of providing a solution of a metal salt onto a substrate and step (b) of converting the metal salt into a metal oxide.例文帳に追加

電子デバイス用の絶縁膜形成方法において、（ａ）金属塩の溶液を基板上に配する工程、（ｂ）該金属塩を金属酸化物に変換する工程からなることを特徴とする電子デバイス用の絶縁膜形成方法。 - 特許庁

To provide an image forming method by which a coating film having good curability in a deep portion without a pattern defect and having high contrast and high image stability can be formed while preventing a developing solution from directly contacting a substrate.例文帳に追加

深部硬化性が良好でパターンの欠損がなく、高いコントラスト性と高い画像安定性を有する塗膜を、現像液が基材に直接触れることなく形成することが可能な画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The thinning processing method for dry film resist includes sticking the dry film resist onto a substrate, rinsing in water, and thinning with an aqueous alkali solution containing 5-20 mass% of an inorganic alkaline compound.例文帳に追加

基板上にドライフィルムレジストを貼り付け、水洗処理を行った後、無機アルカリ性化合物の含有量が５〜２０質量％のアルカリ水溶液によって薄膜化処理することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 - 特許庁

A solid electrolyte 7 and the ceramic substrate 13 of the interconnector 5 are made of a zirconia solid solution having the same composition, and the fuel electrode 11, the air electrode 9, and the via 19 are made of a conductor having the same composition.例文帳に追加

固体電解質体７とインターコネクタ５のセラミック基体１３とは、同一の組成のジルコニア固溶体から形成され、燃料極１１と空気極９とビア１９とは、同一組成の導電体から構成されている。 - 特許庁

In the device for producing the semiconductor thin film, a member for holding the substrate is held in a posture oblique to the surface of the solution.例文帳に追加

半導体材料を含有する溶液に基板を浸漬し、該基板上に半導体薄膜を成長させる半導体薄膜の製造方法において、前記基板を前記溶液表面に対して斜めに保持しつつ、該溶液に出し入れする。 - 特許庁

First, application liquid R obtained by dispersing a hollow structure group consisting of at least one of Si, N, C, O, and H elements into solution as an insulating film forming material is applied to a substrate to form an application film 4.例文帳に追加

先ず、Ｓｉ、Ｎ、Ｃ、Ｏ及びＨの少なくとも１つ以上の元素からなる中空構造体群を絶縁膜形成材料である溶液に分散させて得た塗布液Ｒを基板上に塗布して塗布膜４を形成する。 - 特許庁

The nanobubbles have the negative electric charges, so they are hard to condense and are uniformly dispersed in a solution to be taken as air bubbles in the low-k film even after the substrate is heated, thereby forming uniform and small pores.例文帳に追加

このナノバブルが負電荷を持っているので、凝集しにくく、溶液中に均一に分散し、また基板の加熱後にも気泡として低誘電率膜中に取り込まれるため、均一で小さな気孔を形成することができる。 - 特許庁

To provide a polishing solution for a copper film that achieves not only high polishing speed but also preferred uniform polishing speed inside a surface in addition to contributing to the high quality of LSI and the like using a copper wiring, and to provide a method of polishing a substrate.例文帳に追加

高速研磨速度が可能で、かつ研磨速度の面内均一性が良好で、銅配線を用いたＬＳＩなどの高品質化に寄与することができる銅膜用研磨液及び基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

The porous electrode substrate as the first component is coated with a solution containing the second component or a precursor of the second component to act on each other, and a metal layer or a metal oxide layer is formed to form the composite electrode for a fuel cell.例文帳に追加

第１成分である多孔質電極基体に、第２成分を含む溶液や第２成分の前駆体を含む溶液を被覆し反応させて金属層又は金属酸化物層を形成して燃料電池用複合電極とする。 - 特許庁

In this determination method of a trace element in sapphire, the sapphire substrate sample is decomposed by an acid decomposition method or by an alkali fusion method, and the trace element in acquired solution is measured by flow injection introduction-ICP/mass spectrometry.例文帳に追加

サファイア中微量元素の定量方法は、サファイア基板試料を酸分解法またはアルカリ融解法により分解し、得られた溶液中の微量元素を、フローインジェクション導入−ＩＣＰ／質量分析法によって測定する。 - 特許庁

To provide a method which enables high-speed film formation by casting a solution of a polyimide precursor dissolved in a solvent onto a substrate to improve productivity, and further to enhance productivity of a thinner film formation.例文帳に追加

ポリイミド前駆体の溶媒溶液を支持体上にキャストし、生産性を向上させる目的で高速製膜が可能な製法を提供すること、さらに厚みの薄いフィルムの生産性を向上させることを目的とする。 - 特許庁

The glass substrate is characterized in that a zeta potential of the surface which is measured using an aqueous solution in which Na_2SO_4 is mixed as a buffer agent, and the pH is adjusted to 10 by H_2SO_4 and NaOH shows a lower value than -50 mV.例文帳に追加

Ｎａ_２ＳＯ_４を緩衝剤として混合し、Ｈ_２ＳＯ_４とＮａＯＨにてｐＨが１０に調整された水溶液を用いて測定した表面のゼータ電位が−５０ｍＶより低い値を示すことを特徴とするガラス基板。 - 特許庁

An SiO_2 layer 9 formed on the surface of the SiC substrate 8 due to the irradiation of ultraviolet light is chemically removed in the potassium hydroxide solution, and the SiO_2 layer 9 is also removed by a synthetic quartz surface plate 3a.例文帳に追加

紫外光の照射によってＳｉＣ基板８の表面に形成されたＳｉＯ_２層９を水酸化カリウム溶液によって化学的に除去すると共に、合成石英定盤３ａによってもＳｉＯ_２層９を除去する。 - 特許庁

To provide an etchant with which an etching aqueous solution is prevented from changing in composition and a low reflectivity is effectively obtained inexpensively when pyramidal unevenness is formed on the surface of a silicon substrate for a solar cell by a wet etching process.例文帳に追加

湿式エッチングで太陽電池用シリコン基板の表面にピラミッド状の凹凸を形成するに際し、エッチング水溶液の組成変化を防止し安価かつ効果的に低反射率化することが可能なエッチング液を提供する。 - 特許庁

To provide a processing apparatus and a processing method for a substrate wherein even when uneven brightness or the like occurs on the surface of a resist in scan application of the resist, the uneven brightness or the like can be made flat, and hence the thickness of an applied film of a processing solution such as the resist can also be made uniform.例文帳に追加

レジストのスキャン塗布において、筋ムラ等が発生した場合でもそれを平坦化し、レジスト等の処理液の塗布膜厚を均一にすることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

The sheetlike cosmetic is obtained by impregnating a sheetlike substrate with a water-based formulation liquid as an essential component obtained by formulating (a) an oily solution of coenzyme Q-10 containing a nonionic surfactant and/or an alpha lipoic acid and (b) an antioxidant collagen peptide.例文帳に追加

（ａ）非イオン界面活性剤を含有するコエンザイムQ-10の油性溶液、及び／又はアルファリポ酸に、（ｂ）抗酸化性コラーゲンペプチドを配合した水系配合液を必須成分としてシート基材に含浸してシート状化粧料とする。 - 特許庁

To provide a drying processing method for a probe fixing face capable of preventing a component of a probe solution used for fixing a probe from being left ununiformly on a probe fixing face, when the probe fixing face on a substrate is dried.例文帳に追加

基板上のプローブの固定面を乾燥処理する際に、プローブの固定に用いたプローブ溶液の成分が不均一にプローブ固定面に残存することを防止できるプローブ固定面の乾燥処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a silane compound composition having storage stability for a long period, capable of rapid dissolving to form a stable aqueous solution and having excellent covering ability of the substrate and sustainability of performance at the surface treatment of glass fibers.例文帳に追加

ガラス繊維のシランによる表面処理時、基材の被覆性能と効果の持続性に優れ、すばやく溶け、その水溶液が安定で、組成物としても長期に渡り安定性を有するシラン化合物の組成物を提供する。 - 特許庁

Taking advantage of the fact that the surface of the oxide layer is different from that of an unscanned region in properties, the substrate is immerred into a solution which contains organic molecules, by which an organic monomolecular layer 8 is selectively formed on the unscanned region.例文帳に追加

そして、その酸化層１１表面の性質が未走査領域１０に比して異なることを利用して、有機分子を含む溶液中に浸漬し、選択的に未走査領域１０上に有機単分子層８を形成する。 - 特許庁

The nickel-containing alloy film formed on the substrate containing the iron is dissolved by immersing this film into an aqueous solution containing at least quinoline or quinoline derivative and carboxylic acid containing a hydroxyl group or organic acid having ≥2 carboxylic groups.例文帳に追加

キノリンまたはキノリン誘導体と、水酸基を含むカルボン酸または２個以上のカルボキシル基を有する有機酸とを少なくとも含む水溶液に、鉄を含む基体の上に形成された含ニッケル合金被膜を浸漬させ溶解する。 - 特許庁

Reagent solutions are allowed to flow into a water supplying pipe 14 through reagent solution supplying pipes 28a to 28c which are connected to the water supplying pipe 14 while supplying pure water to a treating tank 12 provided at a substrate treating section through the supplying pipe 14.例文帳に追加

基板処理部である処理槽１２に給水管１４を介して純水を供給しつつ、給水管１４に接合した薬液供給管２８ａ〜２８ｃを介して薬液を給水管１４に合流させるようにした。 - 特許庁

A mixture solution is prepared by dissolving a first resin material and a second resin material having photosensitivity in a common solvent, and applied and preliminarily baked on a substrate 301 on which driving elements and terminals of the driving elements are formed.例文帳に追加

感光性を有する第１の樹脂材料および第２の樹脂材料を共通の溶剤中に溶解した混合溶液を作成し、駆動素子および駆動素子の端子を形成した基板３０１上に、塗布・プリベークする。 - 特許庁

After O_2 ashing treatment is performed to the substrate for 1 minute to remove a resist, remaining resist is removed by washing with a mixture of sulfuric acid and water and then an oxidized thin film 28 is removed by etching with 1% hydrofluoric acid aqueous solution for 2 minutes.例文帳に追加

この基板に対してＯ_２アッシング処理を１分間行ってレジストを除去した後、キャロス洗浄により残っているレジストを除去し、１％フッ酸水溶液で２分間エッチングして酸化薄膜２８を除去する。 - 特許庁

(1) This enzymatic reaction of a hydrolase is regulated by impressing an electric voltage on a reaction solution containing the hydrolase and its substrate.例文帳に追加

(2)酵素反応と同時に酵素反応で生じた反応生成物を基質と分離し、且つ当該反応生成物を正電荷を有する生成物と負電荷を有する生成物とに分離し取得するための装置およびその方法の提供。 - 特許庁

This is a lithium secondary battery which is equipped with an electrode body 1 comprising that respective positive and negative electrode plates 2, 3 are wound or laminated via a separator 4 wherein an electrode active substance is formed on the surface of a current collecting substrate, and in which a nonaqueous electrolytic solution is used.例文帳に追加

集電基板表面に電極活物質を形成してなる正負各電極板２・３をセパレータ４を介して捲回若しくは積層してなる電極体１を備え、非水電解液を用いたリチウム二次電池である。 - 特許庁

On a substrate, solution containing fine particles is ejected with an action force by mechanical displacement to form a rectangular pattern or to form an electrode pattern by combining the rectangular patterns wherein the corner part of the pattern is covered with a dot pattern.例文帳に追加

基板上において、機械的変位による作用力で微粒子含有溶液を噴射させて、矩形パターンもしくは矩形パターンの組み合わせにより構成される電極パターンのコーナー部をドットパターンにより被覆するように打ち込む。 - 特許庁

To provide a reactant for filling a trench which is used for filling silicon oxide in the trench formed in a substrate, with a long pot life for an appropriate solution, high filling capability for the trench, high HF resistance and high crack resistance.例文帳に追加

基体に形成されたトレンチ内に酸化シリコンを埋め込むために使用するのに好適な溶液のポットライフが長く、トレンチへの埋め込み性が高く、HF耐性、クラック耐性を有するトレンチ埋め込み用反応物を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which, in determining the positions of a gene and a specific base sequence on a DNA, a large amount of a DNA solution is not required, the DNA is extended in a straight line state at a specific position on a substrate and fixed.例文帳に追加

ＤＮＡ上の遺伝子や特定塩基配列の位置を決定するにあたり、大量のＤＮＡ溶液を要せず、ＤＮＡを基板上の特定位置に直線状に引き伸ばして固定する方法を提供すること。 - 特許庁

There is provided at a central axis of a cylindrical heating apparatus 1 for substrate treating solution a lamp heater insertion section 10 comprising a PFA protective film 11, which insertion section is excellent in optical transparency and in anti-drug property and into which insertion section a lamp heater LH is insertable.例文帳に追加

円筒状の基板処理溶液加熱装置１の中心軸部分に、光透過性、耐薬品性に優れたＰＦＡ製の保護膜１１からなり、ランプヒータＬＨが挿脱可能なランプヒータ挿入部１０を設ける。 - 特許庁

This substrate treating device 1 is constituted by docking a cleaning section 2 which cleans the surface of a wafer W with a cleaning solution and a dry-treating section 3 which treats the wafer W in a dry atmosphere (without using any treating liquid) to each other.例文帳に追加

この基板処理装置１は、ウエハＷの表面を洗浄液を用いて洗浄するための洗浄処理部２と、ウエハに対してドライ雰囲気で（処理液を用いないで）処理を行うドライ処理部３とがドッキングされてなる。 - 特許庁

A nozzle 40 where a plurality of spraying holes 39 are arranged in a row to discharge a resist solution as a coating fluid toward the surface of a substrate G held by a holding plate 31 is installed in the lower part of the main body 38 of a coating head 36.例文帳に追加

塗布ヘッド３６の本体３８の下部には、保持板３１より保持された基板Ｇの表面に向けて塗布液としてのレジスト液を吐出する複数の吐出孔３９が列設されたノズル４０が設けられている。 - 特許庁

To obtain a method for forming a pattern, which surely forms a pattern having a stencil shape by a simple method, without being effected due to exposure systems, a high-step substrate, or a resist solution, which is used for the method.例文帳に追加

基板上に、ステンシル形状を有するパターンを、露光方式や高段差基板による影響を受けずに、簡単な方法によって、確実に形成するパターン形成法及びその方法に使用するレジスト溶液を提供すること。 - 特許庁

To suppress decrease of an active site due to heat in a catalyst particle made by making a substrate particle comprising one kind of fine particles or two or more kinds of solid solution fine particles having a nano-meter order primary particle size carry a noble metal on the surface thereof.例文帳に追加

ナノメートルオーダの一次粒子径を持つ一種の単体微粒子または二種以上の固溶体微粒子である基粒子の表面に貴金属を担持してなる触媒粒子において、熱による活性点の減少を抑制する。 - 特許庁