「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

A hydrophilic resin film 12 is formed on the surface of a substrate 11 of each of optical parts such as a filter and a mirror by dipping or another method using a solution prepared by dispersing metal oxide particles in a hydrophilic resin such as a polyacrylic acid.例文帳に追加

フィルター、ミラー等の光学部品の基材１１の表面に、ポリアクリル酸等の親水性樹脂に金属酸化物粒子を分散させた溶液を用いたディップ法等によって親水性樹脂膜１２を成膜する。 - 特許庁

The diamond coating structure is manufactured by growing the nanodiamond particles as the nucleus after sticking dispersion solution based on the nonodiamond particles whose primary particle diameters are 1-20 nm to the porous substrate.例文帳に追加

本発明のダイヤモンド被覆構造体は、一次粒子径が１〜２０ｎｍのナノダイヤモンド粒子を主体とする分散溶液を多孔性基材に付着させた後、ナノダイヤモンド粒子を核として成長させて製造できる。 - 特許庁

When development is performed by using alkaline developing solution after exposure to light, a region which is exposed to light with the pattern 3b having L/S equal to or rougher than the resolution limit is formed in a shape having a comb tooth type section by narrow trenches 5 with depth not getting to the substrate 1.例文帳に追加

露光後、アルカリ性現像液で現像すると、解像限界以下のＬ／Ｓのパターン３ｂにより露光された領域は、基板１に達しない深さの狭い溝５によって断面櫛歯状に形成される。 - 特許庁

The hybridization reactor is equipped with a container 11 having positioning members 14 for positioning the substrate and with an agitating mechanism 26 for shaking the container 11 to agitate the reaction solution 8 in the container 11.例文帳に追加

このハイブリダイゼーション反応装置は、基板を位置決めする位置決め部１４を有する容器１１と、容器１１内の反応溶液８を撹拌できるように、容器１１を揺する撹拌機構２６とを備える。 - 特許庁

To provide an inexpensive fluid measuring substrate having a simple structure, capable of introducing a directly sampled measuring object solution, an analyzer equipped therewith, and an analysis method that uses the analyzer.例文帳に追加

採取した測定対象溶液を直接導入でき、構造が簡易で安価な流体測定基板、これを備える分析装置及びその分析装置を使用した分析方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An end of a probe substrate formed out of a material transparent with respect to the excitation light is coated with a substance from which a substance or metal of a large refractive index insolubilized in a developing solution separates out when it is irradiated with active light.例文帳に追加

励起光に対して透明な材料で構成したプローブ基体先端に、活性光線を照射すると現像液に不溶化する屈折率の大きい物質又は金属が析出する物質をコーティングする。 - 特許庁

To provide a method of suppressing a generation of striation without any need of adding a new component to a dropping polymer solution when a thin film is formed on a substrate by a spin coat method, furthermore with a simple operation.例文帳に追加

スピンコート法により基板上に薄膜を形成するに際し、滴下する高分子溶液に新たな成分を添加する必要がなく、しかも簡易な操作でストリエーションの発生を抑制する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a PZT thin film capable of making sufficient ionization of Ti on the surface of the substrate in a mixed alkaline aqueous solution in the beginning of hydrothermal synthesis, and to provide a PZT structure obtained by the method.例文帳に追加

水熱合成を始める際の混合アルカリ水溶液中におけるＴｉのイオン化を充分に行なうことができるＰＺＴ薄膜の製法およびそれにより得られたＰＺＴ構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for accurately adjusting the phase contrast of a phase shift mask by appropriately selecting materials used for the phase shift mask (a transparent substrate and a phase shifter film) and an etching solution.例文帳に追加

位相シフトマスクに使用される材料（透明基板及び位相シフタ膜）及びエッチング薬液を適宜選定することにより、位相シフトマスクの位相差を精度良く調整する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This plating method comprises making superfine particles 50 of a metal oxide having photo-electrochemical reactivity carried on the surface to be treated of a substrate W, and while making the surface contact with a plating solution 34, irradiating the surface with light.例文帳に追加

光電気化学反応性を有する金属酸化物超微粒子５０を基板Ｗの被処理面に担持させ、該被処理面にめっき液３４を接触させつつ、被処理面に向けて光を照射する。 - 特許庁

This storage solution for nitrifying bacteria immobilized on sodium alginate, a cellulose membrane or the like comprises a substrate such as ammonium ion or nitrite ion, essential nutrients, and oxalacetic acid.例文帳に追加

アルギン酸ナトリウム、セルロース膜などを用いて固定化された硝化細菌に対して、アンモニウムイオン、亜硝酸イオンなどの基質、および、必須栄養素、並びにオキサル酢酸を含有したホウ酸緩衝液から成る保存液。 - 特許庁

The recording medium for ink jet has an ink receiving layer formed by applying a coating solution containing a non-water dispersion formed by dispersing at least a water-swollen resin on a substrate and drying it.例文帳に追加

支持体上に、少なくとも水膨潤性樹脂を有機溶剤中に分散した非水ディスバージョンを含む塗液を塗布、乾燥して形成したインク受容層を有するインクジェット用記録媒体を提供する。 - 特許庁

After acid cleaning with a solution containing sulfuric acid and before and/or during washing (rinsing), the photomask surface of the photomask having the light blocking film pattern formed on the light-transmissive substrate on the photomask surface is electrostatically charged to the negative potential.例文帳に追加

透光性基板上に遮光性膜パターンを形成したフォトマスクを硫酸を含む溶液で酸洗浄後、水洗（リンス）を行う前及び／又は水洗（リンス）中に、フォトマスク表面を負の電荷に帯電させる。 - 特許庁

The photoelectric conversion element (dye-sensitized solar cell) 1 is formed by making a porous oxide semiconductor layer 5 constituting an action electrode substrate 8 carry dye stuff, and by making it contain the electrolytic solution as the electrolyte layer 6.例文帳に追加

そして、作用極基板８を構成する多孔質酸化物半導体層５に色素を担持させるとともに、電解質６として電解液を含ませることにより光電変換素子（色素増感太陽電池）１とする。 - 特許庁

A TiN film 102 of normal temperature formation whose etching resistance to anisotropic etching solution is more excellent than that of a silicon oxide film or the like is used as an etching mask for performing anisotropic etching for a semiconductor substrate 101.例文帳に追加

半導体基板１０１の異方性エッチングを行う際のエッチングマスクとして、シリコン酸化膜等の膜よりも異方性エッチング液に対するエッチング耐性の優れる常温形成のＴｉＮ膜１０２を用いる。 - 特許庁

After a surface modified layer 21 insoluble in an etching solution E (for example limonene) is formed on the substrate P by ion implantation treatment, an opening portion 21U is formed on the surface modified layer 21 by dry etching treatment.例文帳に追加

イオン注入処理によりエッチング溶液Ｅ（例えばリモネン）に不溶な表面改質層２１を基板Ｐの表面に形成したのち、ドライエッチング処理により表面改質層２１に開口部２１Ｕを形成する。 - 特許庁

A water-resistant coating composition for an inkjet recordable substrate with a pH less than 7 contains an aqueous polyurethane dispersing element (a), and a nitrogen-containing polymer dye-fixing compound solution (b).例文帳に追加

７未満のｐＨを有するインクジェット記録可能基板用の耐水性塗装組成物であって、該塗装組成物は、以下を含有する：（ａ）水性ポリウレタン分散体；および（ｂ）窒素含有高分子染料固定化合物の水溶液。 - 特許庁

After a precipitate obtained by supplying an acid to an ammonia solution of hexavalent molybdenum oxide is dispersed in alcohol, the alcohol containing the precipitate is supplied to a substrate to be dried and baked to form a membrane.例文帳に追加

６価のモリブデン酸化物のアンモニア溶解液に酸を供給して得られる析出物をアルコールに分散させた後、この析出物を含有するアルコールを基板に供給し、乾燥・焼成して薄膜を形成する。 - 特許庁

The glass substrate is manufactured by polishing a glass base material with a polishing agent containing particles of cerium oxide and then cleaning the polished glass base material by using a cleaning chemical solution containing three components of an acid, a reductant, and fluorine ions.例文帳に追加

ガラス基材は、酸化セリウムの粒子を含む研磨剤でガラス素材を研磨した後、酸、還元剤及びフッ素イオンの３成分を含む洗浄薬液を使用し、洗浄することによって製造される。 - 特許庁

The semiconductor interlayer insulating film is obtained by dissolving the siloxane-based resin having a new structure, in an organic solvent and coating the solution on a substrate and then thermally curing the same.例文帳に追加

本発明は、新規構造を有するシロキサン系樹脂を有機溶媒に溶かし、これを基板上にコーティングした後、熱硬化させることにより製造される半導体層間絶縁膜により上記課題を解決する。 - 特許庁

The resist pattern slimming treatment method includes slimming treatment steps S16 to S18 of carrying out slimming treatment on the resist pattern by coating a substrate where the resist pattern is formed with a solution containing acid, and carrying out heat treatment and then developing treatment.例文帳に追加

レジストパターンが形成された基板上に酸を含む溶液を塗布し、次に熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程Ｓ１６〜Ｓ１８を含む。 - 特許庁

The lead acid storage battery is equipped with a positive electrode in which a positive electrode active material containing calcium or calcium and tin are filled in a porous substrate made of Pb-Ca based alloy and a sulfuric acid electrolytic solution containing aluminum ion.例文帳に追加

Ｐｂ−Ｃａ系合金から成る多孔基板に、カルシウム又はカルシウムとスズを含む正極活物質を充填して成る正極とアルミニウムイオンを含む硫酸電解液を具備して成る鉛蓄電池。 - 特許庁

A sol in which a gallium isopropoxide and an indium isopropoxide are dissolved in a mixed solution of 2-methoxyethanol, and monoethanolamine is applied on a substrate, a thin film is obtained by being calcinated at 600-1,200°C in air for 30-90 minutes.例文帳に追加

２‐メトキシエタノールとモノエタノールアミンの混合溶液にガリウムイソプロポキシドとインジウムイソプロポキシドを溶解させたゾルを基板上に塗布し、空気中６００〜１２００℃で３０〜９０分焼成することにより薄膜を得る。 - 特許庁

A thin film having photosensitive groups is formed by bringing a solution containing a silane compound having photosensitive groups into contact with a substrate having a protrusion to chemically adsorb the silane compound having photosensitive groups.例文帳に追加

突起物が形成された基板上に、感光性基を有するシラン系化合物を含む溶液を接触させ、感光基を有するシラン系化合物を化学吸着させることにより感光基を有する薄膜を形成する。 - 特許庁

A polysilazane solution is applied on the surface of the aluminum composite with an acidic oxide film formed on a substrate formed from aluminum or an aluminum alloy, dried and baked to surface-treat the composite.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金からなる基体上に陽極酸化皮膜の形成されたアルミニウム複合品の表面にポリシラザン溶液を塗布し、乾燥し、焼成することにより、該複合品の表面処理を行う。 - 特許庁

To provide a catalyst solution for electroless plating capable of depositing an electroless-plated film having excellent adhesiveness and smoothness by providing high catalyst activity on an inactive substrate, and a method for depositing an electroless-plated film.例文帳に追加

高い触媒活性を不活性基板上に付与し、密着性及び平滑性に優れた無電解めっき皮膜を形成できる無電解めっき用触媒液及び無電解めっき皮膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the pre-moistened wiping material with bactericidal effects, a nonwoven fabric substrate 1 whose surface has concavities and convexities 2, 3 contains a chemical solution containing a poly hexamethylene biguanide-based compound, benzalkonium chloride, propylene glycol and water.例文帳に追加

ポリヘキサメチレンビグアナイド系化合物、塩化ベンザルコニウム、エタノール、プロピレングリコール、及び水を含む薬液を、表面に凹凸２，３を有する不織布基材１に含有させて、抗菌性を有するウェットタイプ拭き取り用品とする。 - 特許庁

In the method of producing a thin film, a solution of a silsesquioxane-containing compound wherein at least two cage-like silsesquioxanes are bound through a binding group is coated on a substrate and then the bound group is subjected to thermal decomposition.例文帳に追加

少なくとも２つのカゴ状シルセスキオキサンが結合基を介して結合した含シルセスキオキサン化合物の溶液を基板上に塗布した後、結合基を熱分解させることを特徴とする薄膜製造方法。 - 特許庁

The surface of a substrate composed of Mg or the alloy thereof is coated with an aqueous solution containing amorphous type titanium peroxide or the same and anatase type titanium oxide, drying is executed at <200°C, and next, a corrosion protective film is deposited thereon.例文帳に追加

Ｍｇ又はその合金からなる基体の表面に、アモルファス型過酸化チタン又はそれとアナターゼ型酸化チタンを含む水溶液を塗布し、２００℃未満の温度で乾燥し、次いで防食被膜を形成する。 - 特許庁

The catalyst bag filter can be manufactured through an immersion process of immersing a filter substrate having voids in a solution containing the catalyst and the PTFE resin in a mass ratio of the resin to the catalyst of 5-30% and a heat treatment process of heat-treating the solution having penetrated into the filter substrate so as to leave at least part of the PTFE resin unbaked.例文帳に追加

このような触媒バグフィルターは、触媒と、前記触媒に対する質量比率が５％以上３０％以下の範囲にあるＰＴＦＥ樹脂とを含む溶液に、空隙を有するフィルター基体を浸漬して、フィルター基体内に溶液を浸透させる浸漬工程と、浸漬工程後に、フィルター基体内に浸透させた溶液を、当該溶液中のポリテトラフルオロエチレン樹脂の少なくとも一部が未焼成となるように熱処理する工程とにより製造できる。 - 特許庁

In this method for detecting a substance to be detected in a sample by a sensor including a substrate 1, and a channel having a source electrode 3 and a drain electrode 4 provided oppositely at a prescribed interval on an insulating thin film 2 formed on the upper surface of the substrate 1, the channel is constituted of ultrafine fibers, and after dropping sample solution onto the channel, a solvent in the sample solution is vaporized.例文帳に追加

基板１と、その基板１の上面に形成した絶縁薄膜２上に、所定の間隔をおいて対向して設けたソース電極３およびドレイン電極４を有するチャネルとを少なくとも備えたセンサーで試料中の被検出物質を検出する方法において、前記チャネルが超微細繊維で構成され、そのチャネル上に前記試料溶液を滴下した後、その試料溶液の溶媒を蒸発させることを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing a metal oxide film includes obtaining a metal oxide film by bringing a metal oxide film forming solution in which a metal salt or a metal complex has been dissolved as a metal source into contact with a substrate surface, wherein when the metal oxide film forming solution is brought into contact with the substrate surface, light is illuminated.例文帳に追加

本発明は、基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記基材表面と上記金属酸化物膜形成用溶液とを接触させる際に、光を照射することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The manufacturing method of a metallic material layer has a process for forming a resist layer on a substrate, a process for forming a resist pattern by patterning the resist layer, a process for disposing an organic metallic solution on the substrate and on the resist pattern, a solvent removal process for removing solvent of the organic metallic solution, and a lift-off process for removing the resist pattern after the solvent removal process.例文帳に追加

本発明の一つの側面は、基板上にレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層をパターニングすることによってレジストパターンを形成する工程と、前記基板上及び前記レジストパターン上に有機金属溶液を配置する工程と、前記有機金属溶液の溶媒を除去する溶媒除去工程と、前記溶媒除去工程の後に前記レジストパターンを除去するリフトオフ工程とを有する金属材料層の製造方法にある。 - 特許庁

This nucleic acid microarray is made by immobilizing single- stranded nucleic acid probes through covalent bonds onto a substrate and simultaneously introducing functional groups negatively chargeable on undergoing dissociation in an aqueous solution or functional groups negatively chargeable on undergoing hydrolysis onto the surface of the region not immobilized with the nucleic acid probe on the substrate.例文帳に追加

支持体上に一本鎖核酸プローブ共有結合で固定化すると同時に、該支持体上の核酸プローブが固定化されていない領域表面に水溶液中で解離して負に帯電することが可能な官能基または加水分解して負に帯電することが可能な官能基を導入する。 - 特許庁

This is a formation method of a conductive film to form the conductive film by a spray thermal decomposition method on the surface of a substrate 18, and sprays particulates of a material solution on the surface of the heated substrate in a film-forming device using an atmospheric gas of which the oxygen concentration is 2 vol% or less.例文帳に追加

導電性膜の形成方法は、基板１８の表面に導電性膜をスプレー熱分解法によって形成する導電性膜の形成方法であって、酸素濃度が２体積％以下である雰囲気ガスを用いた成膜装置内において加熱された基板１８の表面に原料溶液の微粒子をスプレーする。 - 特許庁

The electroplating apparatus 50 is provided in which a semiconductor substrate 1 connected to a cathode electrode 15 and an anode electrode 2 are dipped opposite to each other in a plating solution 4 in a plating tank 9, and electroplating is applied to the semiconductor substrate 1 by applying electric current between the anode electrode 2 and the cathode electrode 15.例文帳に追加

本発明に係る電解メッキ装置５０は、メッキ処理槽９内のメッキ液４に、カソード電極１５に接続された半導体基板１とアノード電極２とを対向させて浸漬し、アノード電極２とカソード電極１５とを通電させることにより半導体基板１に電解メッキを行う。 - 特許庁

In a method for removing the oxide-semiconductor electrode material, an anode electrode 1 composed of an oxide-semiconductor electrode 6, in which a pigment is sucked on the surface of the transparent conductive glass substrate 5, is dipped in a basic solution 22, and the electrode 6 is removed from the substrate 5.例文帳に追加

本発明の酸化物半導体電極材料の除去方法は、透明導電性ガラス基板５の表面に色素を吸着した酸化物半導体電極６からなるアノード電極１を塩基性溶液２２に浸漬し、透明導電性ガラス基板５から酸化物半導体電極６を除去することを特徴とする。 - 特許庁

The heating drier device for coating film formation is used to dry the polyimide solution 200 coated on a glass substrate 100 to form a polyimide film as an oriented film on the glass substrate 100, and comprises a hot plate 2 as a heating source and a plurality of proximity pins 10A attached on the upper surface side of the hot plate 2.例文帳に追加

塗布膜形成用加熱乾燥装置は、配向膜としてのポリイミド膜をガラス基板１００上に形成するためにガラス基板１００上に塗布されたポリイミド溶液２００を乾燥させるためのものであり、加熱源としてのホットプレート２と、ホットプレート２の上面側に取付けられた複数のプロキミシティピン１０とを備える。 - 特許庁

In the method for forming a multilayer resist pattern having two kinds of depth by successively forming a first photoresist 101, a transparent film 102 and a second photoresist 103 on a substrate 100, the transparent film 102 is formed by spraying a solution on the substrate where the first photoresist 101 is deposited and heated at a specified temperature.例文帳に追加

基盤１００上に第１のフォトレジスト１０１、透明膜１０２、第２のフォトレジスト１０３の順に成膜し、２種類の深さを形成する多層レジストパターン形成方法において、透明膜１０２は、第１のフォトレジスト１０１が形成され、所定温度で加熱されている基盤１００上に溶液を噴霧して成膜される。 - 特許庁

To provide a thin film formation method for forming an even and thin film by drying a chemical solution applied to a substrate by exposing the substrate to a prescribed temperature atmosphere before the particulates of thin film materials are agglomerated and to provide a pattern formation method and a pattern formation apparatus.例文帳に追加

基板に塗布された薬液中に分散している薄膜材料の微粒子が凝集する前に、該基板を所定の温度雰囲気中に曝して薬液を乾燥し、均一な薄膜を形成しようとする薄膜形成方法及びパターン形成方法並びにパターン形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for hydrolyzing a substrate using hydrolase, with which the active state of hydrolase is retained from the start point to the end point of hydrolysis reaction between the substrate and the hydrolase by effectively using the activation function of the hydrolase in water formed by electrolysis and the hydrolysis reaction is promoted without using a buffer solution in a reaction system.例文帳に追加

電解生成水の加水分解酵素の活性化機能を有効に利用して、基質と加水分解酵素との加水分解反応の開始時点から終了時点までの間、加水分解酵素の活性状態を保持して、反応系に緩衝液を使用することなく、加水分解反応を促進すること。 - 特許庁

The polishing method for polishing a film to be polished is performed by moving a polishing plate and a substrate relatively in the state where the substrate having the film to be polished is pressed to a polishing cloth, while using and supplying the polishing solution for metal which contains a benzene ring compound, an oxidized metal solvent, and water.例文帳に追加

ベンゼン環化合物、酸化金属溶解剤、及び水を含有することを特徴とする金属用研磨液、並びにその金属用研磨液を供給しながら、被研磨膜を有する基板を研磨布に押圧した状態で研磨定盤と基板を相対的に動かすことによって被研磨膜を研磨する研磨方法。 - 特許庁

To provide a coating solution for a low transmission factor antistatic film forming in which a superior permeation color from a black to a blue black system in addition to an electroconductive and a low permeability is obtained, a low transmission factor antistatic film, a manufacturing method of a low transmission factor antistatic substrate, and a display device applied to this substrate.例文帳に追加

導電性と低透過性に加えて黒色から青黒色系の良好な透過色が得られる低透過率帯電防止膜形成用塗液と低透過率帯電防止膜および低透過率帯電防止基材の製造方法とこの基材が適用された表示装置を提供する。 - 特許庁

Precursor solution including halogen alkoxy titanium and halogen alkoxy niobium formed by mixing a titanium compound, a niobium compound, and alcohol is applied on a transparent substrate, which, after heating treatment, is put under annealing treatment in a reduction atmosphere to form a titanium oxide system transparent conductive film wherein niobium is doped, and to manufacture a titanium oxide system transparent conductive substrate.例文帳に追加

チタン化合物、ニオブ化合物およびアルコールを混合して形成されるハロアルコキシチタンおよびハロアルコキシニオブを含む前駆体溶液を、透明基材上に塗布し、加熱処理後、還元雰囲気にてアニール処理し、ニオブがドープされた酸化チタン系透明導電膜を形成して酸化チタン系透明導電性基板を製造する。 - 特許庁

A substrate W where solution containing a silica compound is applied is accommodated into an aging chamber 10, and the mixed gas of ammonia and nitrogen gases and vapor is supplied from a vaporizer 30 to the aging chamber 10 for advancing the crosslinking reaction of the silica compound, thus forming the SOG film on the substrate W.例文帳に追加

シリカ化合物を含む溶液を塗布した基板Ｗをエージングチャンバ１０に収容し、そのエージングチャンバ１０にベーパライザ３０からアンモニアガスと窒素ガスと水蒸気との混合ガスを供給することによってシリカ化合物の架橋反応を進行させ、基板Ｗ上にＳＯＧ膜を成膜する。 - 特許庁