「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

After a protection oxide film 22 is removed by conducting wet-etching, namely HF etching, using hydrofluoric acid or buffer hydrofluoric acid on the protection oxide film formed on a silicon substrate 20, the silicon substrate 20 where the hydrophobic surface is exposed is cleaned with the APM solution.例文帳に追加

シリコン基板２０上に形成されている保護酸化膜２２に対してフッ酸又は緩衝フッ酸を用いたウェットエッチングつまりＨＦエッチングを行なって保護酸化膜２２を除去した後、疎水性表面が露出したシリコン基板２０に対してＡＰＭ溶液を用いて洗浄を行なう。 - 特許庁

An EL substrate 113 of an organic EL display device 1 that is the electrooptic device comprises a plurality of pixel areas 7 with a predetermined solution applied thereto, which is surrounded by a lyophilic sidewall surface 5c of a bank 5 formed on a surface of the EL substrate 113 in a regulated height.例文帳に追加

電気光学装置である有機ＥＬ表示装置１のＥＬ基板１１３の構造は、ＥＬ基板１１３の表面に規定の高さで形成されたバンク５の親液性の側壁面５ｃによって囲まれ、所定の溶液が塗布された複数の画素領域７を有している。 - 特許庁

In this interaction method, solution containing a target bio-molecule is arranged between a bio-molecule micro array having one or more spots where bio-molecules are fixed to the surface of a substrate and a counter electrode, and the bio-molecules fixed to the surface of the substrate are interacted with the target bio-molecule.例文帳に追加

基板表面に生体分子が固定化されたスポットを１つ以上有する生体分子マイクロアレイと対向電極との間にターゲット生体分子を含む溶液を配置し、前記基板表面に固定化された生体分子とターゲット生体分子とを相互作用させる方法。 - 特許庁

When a substrate surface is treated with an aqueous solution or dispersion of the delivery system, the benefit agent is indirectly exposed to and preferably deposited on the substrate surface in such a manner that the benefit agent provides an effect thereof to the surface for a longer period of time than when the amine compound is not present.例文帳に追加

基材表面がこうしたデリバリーシステムの水溶液又は分散液で処理される場合、アミン化合物が存在しない場合より長い期間、有益剤がその効果を表面に提供するような方法で、有益剤は基材表面に間接的に暴露及び好ましくは付着される。 - 特許庁

The atmospheric deposition method of the anti-fouling film includes: a step of providing a substrate; a gasification step of gasifying an anti-fouling coating solution to form a plurality of film coating vapor molecules; and a step of depositing the film coating vapor molecules on a surface of the substrate to form the anti-fouling film.例文帳に追加

この防汚フィルムの常圧蒸着法は、基材を提供するステップと、複数の防汚蒸気分子を形成するように、防汚塗料溶液を気化させる気化ステップと、防汚フィルムを形成するように、これらの防汚蒸気分子を基材の一表面に堆積させるステップと、を備える。 - 特許庁

A ZnO-based crystal layer grown on a substrate of sapphire (Al_2O_3) single crystal includes a solid solution layer having aluminum (Al) solid-dissolved in an interface with the substrate to have a concentration of 8×10^20 pieces/cm^3, and a high-concentration diffusion layer of ≥1×10^19 cm^3 in Al concentration.例文帳に追加

サファイア（Ａｌ_２Ｏ_３）単結晶の基板上に成長したＺｎＯ系結晶層は、基板との界面にアルミニウム（Ａｌ）が８×１０^２０個／ｃｍ^３以上の濃度で固溶した固溶層、及びＡｌの濃度が１×１０^１９ｃｍ^３以上である高濃度拡散層を有している。 - 特許庁

In the forming method of the metal film on the glass substrate, a paste containing metal particulate dispersion solution in which metal particulate is dispersed in an organic solvent and a silane coupling agent is coated on the glass substrate and then baked at the temperatures of 250°C or more and 300°C or less.例文帳に追加

有機溶剤に金属微粒子が分散された金属微粒子分散液及びシランカップリング剤を含むペーストをガラス基板上に塗布し、２５０℃以上３００℃以下の温度で焼成することを特徴とするガラス基板上に金属薄膜を形成する方法である。 - 特許庁

The electron source substrate manufacturing apparatus injects a solution containing a fine metal particle material for forming a conductive thin film between multiple pairs of element electrodes on a substrate with an injection head to form a group of surface conduction type electron emitters by the conductive thin films.例文帳に追加

電子源基板製造装置において、基板上の複数対の各素子電極間に導電性薄膜を形成するための金属微粒子材料を含有する溶液を噴射ヘッドにより噴射付与し、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成する。 - 特許庁

The method for purifying the single crystal silicon member for heat treating the semiconductor substrate includes a step of cleaning the single crystal silicon member having an oxide film by an HF aqueous solution, and further a step of heat treating the semiconductor substrate in a mixed gas atmosphere of an HCl having an HCl gas concentration of 5 to 50 % and an oxygen.例文帳に追加

半導体基板熱処理用単結晶シリコン部材の純化方法は、酸化膜を有する単結晶シリコン部材をＨＦ系水溶液で洗浄する工程と、さらに、ＨＣｌガス濃度が５〜５０％のＨＣｌと酸素の混合ガス雰囲気で熱処理する工程とを有する。 - 特許庁

According to this method, the liquid film Ra or the liquid drops R of rinse solution are blown together to the rear side of the upper and lower surfaces of the substrate G or are gathered against the surface tension of them while mist (m) is generated from the surfaces of the substrate near respective mist suction ports 172 which directly receive the pressure of air.例文帳に追加

そうすると、基板Ｇの上下面においてリンス液の液膜Ｒaや液滴Ｒが表面張力に抗して基板後方へ吹き寄せられ、あるいは寄せ集められ、エアの風圧を直接受ける各ミスト吸い込み口１７２付近の基板表面からはミストｍが発生する。 - 特許庁

The antibacterial adhesive film has an adhesive layer formed on one surface of the substrate layer, and the substrate layer comprises 90-99.3 wt.% of a thermoplastic resin, 0.2-5 wt.% of a ZnO-Al_2O_3-based solid solution, and 0.5-5 pts.wt. of a specific ether compound.例文帳に追加

基材層の片面に粘着層が形成された抗菌性粘着フィルムであり、基材層が熱可塑性樹脂９０〜９９．３重量％、ＺｎＯ・Ａｌ_２Ｏ_３系固溶体０．２〜５重量％及び特定のエーテル化合物０．５〜５重量部を含む抗菌性粘着フィルム。 - 特許庁

After poly-metal structured gate electrodes 7 have been formed on a semiconductor substrate 1, when the semiconductor substrate 1 is cleaned, an aqueous solution, containing hydrochloric acid of 0.1 to 15% by weight, hydrofluoric acid of 0.01 to 0.3% by weight and hydrogen peroxide of 0.1 to 15% by weight, is used as a cleaning liquid.例文帳に追加

半導体基板１上にポリメタル構造のゲート電極７を形成した後、半導体基板１を洗浄する際に、洗浄液として、０．１〜１５重量％の塩酸と、０．０１〜０．３重量％のフッ酸と、０．１〜１５重量％の過酸化水素とを含む水溶液を用いる。 - 特許庁

To provide a transparent conductive substrate having high conductivity, low reflectance, weather resistance, chemical resistance, or the like and a visible light transmission factor of a transparent double layer controlled in a predetermined range, its manufacturing method, a display device using this substrate, a coating solution for forming a transparent conductive layer, and the like.例文帳に追加

良好な導電性、低反射率、耐候性、耐薬品性等を有し、透明２層膜の可視光線透過率が所定範囲に調整された透明導電性基材とその製法、この基材が適用された表示装置及び透明導電層形成用塗液等を提供すること。 - 特許庁

Further, this space has a lamp heater 61 for heating the peripheral part of the target substrate W disposed therein along a circumferential direction of the target substrate W, where a chemical solution fed from the chemical supply part 62 is supplied to a place closer to the peripheral part than a position at which the lamp heater 61 is disposed.例文帳に追加

さらにこの空間には被処理基板Ｗの周縁部を加熱するランプヒーター６１が被処理基板Ｗの周方向に沿って配置されており、薬液供給部６２から供給される薬液はこのランプヒーター６１の配置位置よりも周縁部寄りに供給される。 - 特許庁

A plurality of electron emission elements are arranged in the substrate 1 for forming the electron source, a layer 7 containing SiO_2 as a principle component is formed on the substrate 1, and an etching rate of the SiO_2 layer 2 with a 0.4 wt.% hydrogen fluoride ammonium aqueous solution (NH_4-HF_2) is specified to 150 nm/min or less at room temperature.例文帳に追加

複数の電子放出素子が配される電子源形成用基板であって、基板１上にＳｉＯ_2を主成分とする層７を有し、このＳｉＯ_2層７の室温における０．４ｗｔ％フッ化水素アンモニウム水溶液（ＮＨ_4−ＨＦ_2）でのエッチングレートを１５０ｎｍ／ｍｉｎ以下とする。 - 特許庁

To crystallize a metal oxide at a low temperature of ≤450°C in a method for forming a Pb-base perovskite type metal oxide thin film by applying a raw material solution for forming the metal oxide thin film on a substrate, then heating the substrate to crystallize the metal oxide.例文帳に追加

基板に金属酸化物薄膜形成用原料溶液を塗布した後、加熱することにより該金属酸化物を結晶化させてＰｂ系ペロブスカイト型金属酸化物薄膜を形成する方法において、４５０℃以下の低温で金属酸化物の結晶化を可能とする。 - 特許庁

A Ti/Si alkoxide dispersion formed by dispersing fine powder of titanium oxide in a Si alkoxide solution is sprayed onto a substrate composed of a glass material by spray coating under a specified gas pressure so as to form a film in which fine powder of titanium oxide constitutes a specific insular structure on the surface of the substrate.例文帳に追加

ガラス材料からなる基材に対し、Ｓｉアルコキシド溶液に酸化チタン微粉末を分散してなるＴｉ／Ｓｉアルコキシド分散溶液をスプレーコーティングにより所定のガス圧をもって吹付けることによって、酸化チタン微粉末が基材表面に特異な島状構造をもって膜を形成する。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises steps of: forming a silicon oxide film 3a on the surface of a silicon substrate 1 by processing the surface of a silicon substrate 1 with ozone gas solution; and forming a high-permittivity insulating film 36 on the silicon oxide film 3a.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、シリコン基板１の表面をオゾンガス溶解液で処理することにより、シリコン基板１の表面にシリコン酸化膜３ａを形成する工程と、シリコン酸化膜３ａ上に高誘電率絶縁膜３ｂを形成する工程とを具備する。 - 特許庁

The display device has: the first substrate 1; the first electrode 2 formed on the first substrate; and an electrolyte solution layer 5 formed so as to be in contact with the first electrode and containing an oil-soluble surfactant with a concentration higher than the critical micelle concentration.例文帳に追加

本発明の表示装置は、第１の基板１と、前記第１の基板上に形成された第１の電極２と、前記第１の電極に接触するように形成され、臨界ミセル濃度以上の油溶性界面活性剤を含んだ電解質溶液層５とを有する。 - 特許庁

In this method and apparatus for forming a film, a monomer or oligomer solution is coated on a substrate 14, a gelation initiating agent is added to a monomer or oligomer coating film formed on the substrate 14 to form a wet gel, and the wet gel film is dried in a supercritical medium.例文帳に追加

基材上にモノマーまたはオリゴマーの溶液を塗布し、次いで基材上に形成された上記モノマーまたはオリゴマーの塗布膜にゲル化開始剤を添加させて湿潤ゲルを形成し、当該湿潤ゲル膜を超臨界媒質中で乾燥させる成膜方法と成膜装置である。 - 特許庁

A solution containing an N-hydroxy cyclic imide of higher concentration than its feed concentration is retained in a reaction system, when the organic substrate is continuously oxidized by feeding the organic substrate along with the N-hydroxy cyclic imide, a transition metal compound and an oxygen containing gas into the reaction system.例文帳に追加

有機基質を、Ｎ−ヒドロキシ環状イミド、遷移金属化合物および酸素含有ガスと共に反応系内に供給しながら、連続式反応により酸化するに際し、反応系内にＮ−ヒドロキシ環状イミドをその供給濃度より高い濃度で含む液を存在させる。 - 特許庁

A dispersion solution 150 containing conductive particulates and a dispersion medium is arranged on a substrate, a particulate film containing conductive particulates is formed on the substrate, and thereafter an organic solvent 151 where the conductive particulates are dissolved is arranged on the particulate film and subjected to a thermal treatment at a prescribed temperature.例文帳に追加

導電性微粒子と分散媒とを含む分散液１５０を基体上に配置し、導電性微粒子を含む微粒子膜を基体上に形成し、その後に、導電性微粒子を溶解した有機溶媒１５１を微粒子膜上に配置し、所定の温度の熱処理を行う。 - 特許庁

By executing this solution surface treatment of the substrate, a high-temperature superconductor can be epitaxially grown on the single crystal substrate excellently, and thus the superconductive oxide thin film having a high superconductivity transition temperature can be formed.例文帳に追加

このような基板の溶解性表面処理を行うことにより、ＬａＳｒＡｌＯ_４単結晶基板上に高温超伝導体を良好にエピタキシャル成長させることができ、超伝導転移温度の高い超伝導酸化物薄膜を高歩留まりで作製することができる。 - 特許庁

This manufacturing method of an oxide semiconductor electrode comprising a conductive substrate and an oxide semiconductor layer includes a process for applying a solution containing metal alkoxide and the solid electrolyte melt to the surface of the conductive substrate to form the oxide semiconductor layer by a sol-gel method.例文帳に追加

導電性基板と酸化物半導体層からなる酸化物半導体電極の製造方法において、導電性基板の表面上に、金属アルコキシドと固体電解質溶融体を含む溶液を塗布し、ゾルゲル法により酸化物半導体層を形成する工程を含む。 - 特許庁

A sintering method of metal-nanoparticle has a process of acting a polar solvent solution including a polar solvent or a dissolution aid to a metal-nanoparticle paste including a coated metal-nanoparticle and a disperse solvent on a substrate, and a process of drying the substrate.例文帳に追加

金属ナノ粒子の焼結方法であって、前記方法は、基板上の、被覆された金属ナノ粒子と分散溶媒とを含む金属ナノ粒子ペーストに、極性溶媒または溶解補助剤を含む極性溶媒溶液を作用させる工程および前記基板を乾燥させる工程とを含む。 - 特許庁

The sample wherein the gold-containing plating layer is formed on the substrate containing copper is brought into contact with a first aqueous solution, containing nitric acid and hydrogen peroxide dissolving only the substrate; then the gold-containing plating layer is recovered, and the gold-containing plating layer is analyzed quantitatively.例文帳に追加

銅を含有する基材上に、金含有めっき層が形成された試料を、硝酸と過酸化水素とを含有する第１水溶液と接触させて前記基材のみを溶解した後、前記金含有めっき層を回収し、金含有めっき層を定量分析する。 - 特許庁

The etching apparatus is provided with a case 102, support member in the case, a rotating actuator mounted on the support member, a liquid feeder assembly 106 disposed in the case so as to feed etching solution to the periphery of the substrate on the substrate support member.例文帳に追加

本装置は、容器１０２、容器内に配置されている基板支持体、基板支持体に取付けられている回転アクチュエータ、及び基板支持体上に配置された基板の周縁部分にエッチング液を送給するように容器内に配置されている流体送給アセンブリ１０６を備えている。 - 特許庁

This method of making the dendrimers consists in forming the dotty dendrimers of the nanometer size on the substrate by developing a solution prepared by dissolving the dendrimers in a solvent in a manner as to eliminate electrostatic interaction in the form of a thin film on the substrate, then evaporating the solvent at a high velocity.例文帳に追加

静電的相互作用のないようにデンドリマーが溶媒に溶解された溶液を基板上に薄膜状態に展開させた後、溶媒を高速蒸発させて基板上に分散されたナノメータサイズのドット状のデンドリマーを形成させるデンドリマーナノドットの作製方法。 - 特許庁

In order to manufacture the semiconductor device, titanium or a titanium oxide is formed into an insular shape on an insulator substrate or a substrate formed with an insulation film, in an equivalent thickness of at least 3 nm and at most 8 nm, and then lead titanate or a solid solution containing lead titanate is formed on the titanium or titanium oxide film.例文帳に追加

これを製造するには、絶縁体基板または絶縁膜形成基板上に、チタン又は酸化チタンを換算膜厚３ｎｍ以上８ｎｍ以下に島状になるように形成し、この上にチタン酸鉛又はチタン酸鉛を含有する固溶体を成膜する。 - 特許庁

The glass substrate is needed to have acid resistance represented by an etching rate of at most 45 nm/min upon contact with a 0.1 wt.% hydrofluoric acid aqueous solution at 50°C for the purpose of maintaining the smoothness (an average surface roughness) Ra of the substrate smaller than 0.3 nm in alkali cleaning after acid treatment.例文帳に追加

酸処理後のアルカリ洗浄において基板の平滑性（表面平均粗さ）をＲa＜０．３ｎｍに保つためには、耐酸性の指標として、基板用ガラスの温度50℃における0.1重量％フッ酸水溶液によるエッチングレートが45nm／min以下であることが必要である。 - 特許庁

In a method for forming an organic semiconductor layer on a substrate, a dispersion liquid is generated, the dispersion liquid including a continuous phase where a solution is dissolved with a binder resin, and a dispersing phase where an organic semiconductor material is dispersed, and by applying the dispersion liquid on the substrate 16, a semiconductor layer 12 of an electronic device is formed.例文帳に追加

基板上に有機半導体層を形成する方法であって、溶剤にバインダ樹脂を溶かした連続相と、有機半導体材料を分散させた分散相と、を含む分散液を生成し、その分散液を基板１６に塗布して電子デバイスの半導体層１２を形成する。 - 特許庁

The method of producing a separator is characterized by forming waterdrops at least on one face of a separator substrate, subsequently applying an organic solvent solution of a peeling agent onto the surface of the substrate whereon the waterdrops are formed, thereafter removing the organic solvent and the waterdrops therefrom, and drying and/or curing the peeling agent.例文帳に追加

本発明のセパレータの製造方法は、セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成させた後、該水滴を形成させた面上に剥離剤の有機溶剤溶液を塗布してから、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させることを特徴とする。 - 特許庁

The resin substrate having the resin-metal composite layer is produced by forming a modifying layer having a polar group on the surface of the resin substrate, contacting the modifying layer with a solution of a metal compound to effect the adsorption of the colloid and/or ion of the metal to the polar group and disperse fine metal particles in the modifying layer.例文帳に追加

樹脂基体の表面に極性基をもつ改質層を形成し、改質層に金属化合物溶液を接触させ金属のコロイド及びイオンの少なくとも一方を極性基に吸着させ改質層に金属微粒子を分散させて樹脂−金属コンポジット層を形成する。 - 特許庁

In this case, a developing process is carried out without being affected by a flow of ambient air, so that the substrate can be subjected to a developing process with uniformity through its surface, and moreover a developing solution feeding nozzle or the like and an area for installing it are not required to be provided above the substrate, so that the processing device can be reduced in size.例文帳に追加

この場合、周囲の気流の影響を受けずに現像処理を行えるので面内均一な現像処理をすることができ、かつ基板の上方側に例えば現像液供給ノズルおよびその設置領域を必要としないので装置の小型化を図ることができる。 - 特許庁

Preferably, the cleaning solution is an APM or an APM diluted with deionized water and is supplied to the surface of a polishing pad, moving with respect to the polished surface of the substrate so that the polished surface of the substrate is brought into contact with the APM or the diluted APM.例文帳に追加

好ましくは、洗浄溶液はＡＰＭ又は脱イオン水で希釈されたＡＰＭで、基板の研磨済み表面に対して相対的に移動している研磨パッドの表面に供給され、これにより基板の研磨済み表面がＡＰＭ又は希釈されたＡＰＭと接触する。 - 特許庁

The method of manufacturing titanium oxide nanotube is performed by applying paste containing a titanium oxide fine particles having 5 to 1,000 nm particle diameter on a substrate composed of alumina, titanium metal, stainless steel, polytetrafluoroethylene or the like, and drying and heating the substrate in an alkali aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide or the like.例文帳に追加

粒子径５〜１０００ｎｍの酸化チタン微粒子を含むペーストをアルミナ、金属チタン、ステンレス鋼、ポリテトラフルオロエチレンなどからなる基板上に塗布し、乾燥したのち、この基板を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ水溶液中で加熱する。 - 特許庁

To suppress dissociation of a semiconductor single crystal substrate in a high temp. by aerating this substrate composed of a metal and an element more volatile than the metal in a gas atmosphere composed of an easily volatile element, and contacting and chilling it with a semiconductor growing solution composed of a metal and an easily volatile element.例文帳に追加

液相エピタキシャル成長室内で、ＧａＰ（ガリウム・燐）単結晶基板にエピタキシャル成長層を形成する場合に、ＧａＰ単結晶基板をＰ（燐）からなる気体雰囲気中に曝気させることにより、高温中でのＧａＰ単結晶基板からのＰの解離を抑制させる。 - 特許庁

The manufacturing method for the seed crystal comprises a process in which the substrate is immersed in an aqueous solution comprising water, zeolite materials, and a template component and containing 0.6-4.0 mass% SiO_2 component to crystallize the multilayered seed crystal oriented in a desired direction on the surface of the substrate.例文帳に追加

本種結晶の製造方法は、水とゼオライト原料と構造規定成分とを配合してなり、ＳｉＯ_２成分は０．６〜４．０質量部である水溶液内に、基体を浸漬し、基体表面に対して所定の方向に配向する複層化された種結晶を析出させる工程を備える。 - 特許庁

This coating applicator comprises a table which conveys a substrate W, a head 7 which is disposed on the upper side of the table and is equipped with a slit-like nozzle 14 intersecting with the conveyance direction of the substrate W, and a piezoelectric transducer which is disposed within the head 7 and is driven when energized, to jet the solution from the nozzle 14.例文帳に追加

基板Ｗを搬送するテーブルと、このテーブルの上側に設けられ、基板Ｗの搬送方向と交差するスリット状のノズル１４を備えたヘッド７と、このヘッド７内に設けられ、通電により駆動して上記ノズル１４から溶液を噴射させる圧電振動子とを具備する。 - 特許庁

First and second conductive films 33 and 34 are formed by applying the coating solution of a conductive material by using an ink jet method, and then the sufficient thickness reduction of the substrate (for example, a second substrate 2) and the formation of the conductive films 33 and 34 on the liquid crystal panel 20 can be both compatibly achieved.例文帳に追加

導電材料の塗布溶液をインクジェット法を用いて塗布して第１，第２の導電膜３３，３４を形成することにより、基板（例えば、第２の基板２）の十分な薄型化と液晶表示パネル２０上への各導電膜３３，３４の形成とを両立することができる。 - 特許庁

This method for measuring an electric signal from the biological membrane body is characterized in that a channel is formed in a substrate beneath the biological membrane body placed on an appropriate substrate, filling the channel with electrolytic solution, and acquiring electrical access to the membrane body.例文帳に追加

適当な基体上にある生物学的膜体の下方でチャネルを該基体中に作成し、該チャネルを電解質液で充填し、かつ前記膜体への電気的アクセスを得ることを特徴とする生物学的膜体からの電気信号を測定するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a solar cell capable of manufacturing a solar cell having high generation efficiency with a high yield by forming a uniform texture in a silicon substrate surface by reducing cation concentration in an etching liquid by a texture etching step which uses an alkali solution and using a substrate whose surface is not contaminated.例文帳に追加

アルカリ溶液を用いたテクスチャエッチング工程によってエッチング液中の陽イオン濃度を低下させることで、シリコン基板面内に均一なテクスチャを形成し、表面の汚染も無い基板を用いることで、高い発電効率を有する太陽電池を高い歩留まりで製造することができる。 - 特許庁

A metallic compound solution 13 is stuck to a surface of a base substrate 14 to fix a metallic compound pattern 16 to the surface of the base substrate 14, and then, a reducing agent 17 is used to reduce the metallic compound pattern 16 to produce a solid metallic pattern 18.例文帳に追加

金属化合物溶液１３を基体１４の表面に付着させることにより金属化合物のパターン１６を基体１４表面に固定し、次に還元剤１７を用いて金属化合物パターン１６を還元することにより、固体金属のパターン１８を生成する。 - 特許庁

The tin dioxide film is formed on a substrate by atomizing a mixed solution of a tin compound with a fluorine compound or an antimony compound with ultrasonic vibration or spraying and pyrolyzing the atomized particulate in the vicinity of the previously heated substrate 1 for film forming.例文帳に追加

錫化合物とフッ素化合物またはアンチモン化合物の混合溶液を、超音波振動あるいはスプレー噴射などにより霧化させ、前記霧化微粒子をあらかじめ加熱した膜形成用基板の近傍で熱分解させて基板上に二酸化錫膜を形成させる。 - 特許庁

The electron source substrate manufacturing apparatus injects a solution containing a fine metal particle material for forming a conductive thin film between element electrodes on a substrate with an injection head to form a group of surface conduction type electron emitters.例文帳に追加

電子源基板製造装置において、基板上の複数の各素子電極間に導電性薄膜を形成するための金属微粒子材料を含有する溶液を噴射ヘッドにより噴射付与し、導電性薄膜による表面伝導型電子放出素子群を形成する。 - 特許庁