「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

By bringing a solution for forming a cobalt oxide film 3 containing a source of cobalt, a single crystal forming solvent capable of forming a single crystal of cobalt oxide 2 as a solvent and a solution for forming a cobalt oxide film 3 containing a diketone or a ketoester into contact with a substrate 1 heated to a temperature of cobalt oxide film forming temperature or higher, a cobalt oxide film is formed on the substrate.例文帳に追加

コバルト源を含有し、かつ、溶媒としてコバルト酸化物の単結晶２を形成可能な単結晶形成可能溶媒とジケトン類またはケトエステル類とを含有するコバルト酸化物膜３形成用溶液を、コバルト酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材１に接触させることにより、前記基材上にコバルト酸化物膜を形成する。 - 特許庁

This method is also a method for testing a substance for its ability to inhibit binding between a fibroblast growth factor (FGF) and a heparanase substrate, comprising the steps of interacting in a solution the FGF immobilized on a solid support with the substance and a labeled heparanase substrate, and detecting the presence or absence of a label in the solution remote from the solid support.例文帳に追加

また、線維芽細胞成長因子（FGF）とへパラナーゼ基質との結合を阻害する能力に関して物質を試験する方法であって、固体支持体上に固定化したFGFを物質および標識ヘパラナーゼ基質と溶液中で相互作用させる段階、および固体支持体から離れた溶液中の標識の有無を検出する段階を含む方法も提供する。 - 特許庁

The functional membrane having a component composition that varies in the thickness direction is obtained by sequentially changing a film-forming temperature, either by directly and serially changing the temperature of a solution contacting a substrate or by sequentially moving the substrate vertically in a solution having a temperature gradient wherein the temperature is lower at deeper parts in a furnace, to change the component composition of the growing membrane in its thickness direction.例文帳に追加

基板に接触する溶液の温度を経時的に直接変化させるか、炉内の溶液の深さ方向に溶液温度が低下するようして基板を溶液内に順次昇降させることで、成膜温度を順次変化させることが可能で、育成する膜の厚み方向に成分組成を変化させて、膜の厚み方向に成分組成の変調を有する機能性膜が得られる。 - 特許庁

A method for producing the polybenzoxazole film comprises the step of casting an organic solvent solution of a polybenzoxazole precursor on a substrate and evaporating the solution to dryness to obtain a self-supportive polybenzoxazole precursor film, the step of peeling the polybenzoxazole precursor film off the substrate, and the step of conducting a heat treatment of the polybenzoxazole precursor film under holding it at least unidirectionally.例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール前駆体を有機溶媒に溶解した溶液を支持体上に展開し、これを乾燥して自己支持性のポリベンゾオキサゾール前駆体フィルムを得る工程と、支持体からポリベンゾオキサゾール前駆体フィルムを剥離する工程と、ベンゾオキサゾール前駆体フィルムの少なくとも１方向を保持して熱処理を行う工程とを有する、ポリベンゾオキサゾールを含むフィルムの製造方法とする。 - 特許庁

This method for determining the enzyme comprises (1) adding the enzyme to a solution of the substrate to be converted into the substance capable of being optically determined by the enzymatic activity of the enzyme to produce a reaction solution, (2) subjecting the reaction solution to a preliminary optical determination, determining a time enabling an optical determination on the basis of the determined value, and performing the determination within the determined time.例文帳に追加

酵素の定量法であって、（１）酵素の酵素活性により光学的に測定可能な物質に変換される基質の溶液に酵素を添加して反応液を生成し、（２）予備的な光学的測定を行い、測定値に基づいて光学的な測定を行い得る時間を決定し、当該時間内に測定を行う方法、により前記課題を解決する。 - 特許庁

In the substrate processing device 1, a liquid film of the hydrogen peroxide water solution is formed on a surface of a semiconductor wafer W by immersing the semiconductor wafer W in the hydrogen peroxide water solution 143, and a high-temperature SPM immediately after mixing is brought into contact with the semiconductor wafer W by immersing the semiconductor wafer W with the liquid film of the hydrogen peroxide solution formed on the surface in high-temperature sulfuric acid 103.例文帳に追加

基板処理装置１では、過酸化水素水１４３に半導体ウエハＷを浸漬することにより半導体ウエハＷの表面に過酸化水素水の液膜を形成し、表面に過酸化水素水の液膜が形成された半導体ウエハＷを高温の硫酸１０３に浸漬することにより、混合直後の高温ＳＰＭを半導体ウエハＷに接触させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the optically anisotropic body is characterized, by adding 0.5-3 pts.wt. fluorine type surfactant in the solution of the liquid crystalline compound with respect to 100 pts.wt. liquid crystalline compound in aligning the liquid crystalline compound, by applying the solution of the liquid crystalline compound on a substrate surface subjected to alignment treatment, and subsequently removing the solvent of the solution.例文帳に追加

配向処理が施された基板表面に、液晶性化合物の溶液を塗布後、該溶液の溶剤を除去して液晶性化合物を配向させる際に、該液晶性化合物の溶液中にフッ素系界面活性剤を該液晶性化合物１００重量部に対して０．５〜３重量部添加することを特徴とする光学異方体の製造方法。 - 特許庁

The cell culture substrate is produced by immersing the natural organic polymer in a graft processing liquid comprising a surfactant aqueous solution and a monomer containing fluorine, an aqueous solution containing a phosphoric monoester, methacrylamide and 2-hydroxyethyl methacrylate or an organic solvent solution of a dibasic acid anhydride or epoxy compound and performing graft processing or chemical modification processing in the presence of a polymerization initiator.例文帳に追加

界面活性剤水溶液とフッ素を含むモノマーとからなるグラフト加工液、リン酸モノエステル、メタクリルアミド、及びメタクリル酸２−ヒドロキシルエチルを含む水溶液、又は二塩基酸無水物若しくはエポキシ化合物の有機溶媒溶液中に、上記天然有機高分子を浸漬し、重合開始剤の存在下にグラフト加工或いは化学修飾加工し、細胞培養基材を製造する。 - 特許庁

The polyimide film is produced via: a step of preparing a polyimide precursor solution by mixing an aromatic tetracarboxylic acid dianhydride including 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride and a diamine component including benzimidazole; a step of preparing a self-supporting film by casting the polyimide precursor solution on a substrate and heating the cast polyimide precursor solution; and a step of imidizing the self-supporting film by heating.例文帳に追加

ポリイミドフィルムは、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含む芳香族テトラカルボン酸二無水物とベンゾイミダゾールを含むジアミン成分とを混合しポリイミド前駆体溶液とする工程と、前記ポリイミド前駆体溶液を支持体上に流延し加熱することにより自己支持性フィルムとする工程と、前記自己支持性フィルムを加熱してイミド化する工程により製造される。 - 特許庁

The method of coating a substrate with a single or multi layers using a coating solution containing a one or a plurality of hydroxyl groups-containing polymer as a binder by curtain-coating is characterized in that the coating solution contains no interfacial active agent (surface active agent), and contains a great volume of at least one organic solvent wherein the coating solution exhibits a boiling point of less than 100°C.例文帳に追加

１又は複数のヒドロキシル基含有ポリマーをバインダーとして含むコーティング液を、カーテンコーティング法を用いて塗布することにより、単層又は多層で支持体を被覆する方法により解決され、この場合、該コーティング液は、界面活性剤（表面活性剤）を含有することなく、かつ少なくとも１種の有機溶剤を多量に含有することで、１００℃未満の沸点を示す。 - 特許庁

This method for producing the automotive interior trim, comprising laminating and bonding a porous substrate to a surface layer material through an organic polyisocyanate in the presence of an amine aqueous solution, is characterized in that the organic polyisocyanate is a non-yellowing polyisocyanate and that the amine aqueous solution is the aqueous solution of a primary or secondary amine compound.例文帳に追加

多孔質基材と表層材をアミン水溶液の存在下、有機ポリイソシアネートを介して積層接着して得られる自動車内装材の製造方法において、該有機ポリイソシアネートが無黄変ポリイソシアネートであり、かつ、アミン水溶液が１級及び／又は２級アミン化合物の水溶液であることを特徴とする自動車内装材の製造方法により解決する。 - 特許庁

The method comprises adding an alkali solution to a cathode material being a battery component obtained by dismantling a lithium ion battery to dissolve a cathode substrate to which a cathode active material is firmly adhered to thereby form a slurry containing the cathode active material, adding a surfactant solution to the formed slurry to disperse the cathode active material in the slurry, and separating the cathode active material from the alkali solution.例文帳に追加

リチウムイオン電池を解体して得られる電池解体物の正極材に、アルカリ溶液を添加して正極活物質が固着した正極基板を溶解して、正極活物質を含有するスラリーを生成し、生成したスラリーに界面活性剤溶液を添加してスラリー中の正極活物質を分散させ、正極活物質とアルカリ溶液とを分離することを特徴とする。 - 特許庁

This method for removing iron in the clay mineral using the biochemical percolation comprises a step of preparing a mineral solution containing a raw mineral to be treated and a step of simultaneously treating the biochemical percolation process by the microorganism and the process for adsorbing iron ion in the percolated solution by adding metallic salt reducing bacteria as a microorganism, a substrate and a iron ion adsorbent to the mineral solution.例文帳に追加

生化学浸出を用いて粘土鉱物の鉄分を除去する方法において、処理しようとする原料鉱物を含む鉱液を準備する段階と、前記鉱液に微生物としての金属塩還元細菌、基質及び鉄イオン吸着剤を添加して、微生物による生化学浸出工程と浸出液中の鉄イオン吸着工程とを同時に処理する段階とを含む。 - 特許庁

A substrate 14 after chemical treatment (a) is put in the cleaning tank 18 while being held by a vacuum chuck 12 and the substrate 14 is rotated in the direction of an arrow 14A, being immersed in the cleaning solution 20, by which rinsing cleaning is done.例文帳に追加

薬液処理（ａ）を終えた基板１４を真空チャック１２で吸着保持したまま洗浄槽１８内に入れ、基板１４を洗浄液２０に浸した状態で基板１４を矢印１４Ａの方向に回転させることによりリンス洗浄を行なう。 - 特許庁

To provide a photoelectric converter for preventing generation of leak of current and drop of conversion efficiency by controlling local expansion of an aluminum substrate because of existence of aqueous solution of hydrofluoric acid diffused into crystal grain boundary of the aluminum substrate, and to provide a manufacturing method of the photoelectric converter.例文帳に追加

アルミニウム基板の結晶粒界に浸入したフッ酸水溶液の存在により生じるアルミニウム基板上の膨れを抑制し、電流のリーク発生および変換効率の低下を防止できる光電変換装置とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Potential status of a glass substrate surface and potential status of a catalyzing treatment liquid and a non-electrolytic plating solution which are necessary for a non-electrolytic plating process are controlled, and a non-electrolytic plating method for depositing a metal selectively only on the glass substrate surface is established.例文帳に追加

ガラス基板表面の電位状態および無電解メッキ工程に必要な触媒化処理液と無電解メッキ溶液の電位状態を制御することにより、金属をガラス基板面のみに選択的に析出させる無電解メッキ法を確立する。 - 特許庁

In the method for producing an electrophotographic photoreceptor by disposing at least a photoconductive layer on an electrically conductive substrate, the photoconductive layer is disposed after a step for bringing the substrate into contact with an aqueous solution containing citric acid.例文帳に追加

導電性基体上に少なくとも光導電層を設けてなる電子写真感光体の製造法において、前記導電性基体をクエン酸を含有する水溶液と接触させる工程の後に、前記光導電層を設ける電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁

To ensure sufficient electrolytic solution resistance that prevents cracks from occurring on a cover layer covering a current collecting electrode in: an electrode substrate for a photoelectric conversion element mounted with the current collecting electrode; a method of manufacturing the substrate thereof; and the photoelectric conversion element using thereof.例文帳に追加

集電電極が設けられた光電変換素子用の電極基板とその製造方法及びこの電極基板を用いた光電変換素子において、集電電極を被覆する被覆層のクラックの発生を防止して、十分な耐電解液性を確保する。 - 特許庁

To provide an economical functional thin film and its production method and production apparatus capable of decreasing the liquid quantity necessary to be used for film formation even if a substrate has an irregular and large shape, requiring no care for a pot life of a coating solution, and easy to handle a substrate.例文帳に追加

基体が異型かつ大型であっても成膜に必要な液量を少なくし、塗布溶液のポットライフに気を使うことを必要とせず、基材の操作を容易にし、コストの安い有機薄膜とその製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

A chemical and mechanical polishing method is constituted of a process to travel a tape T having voids on its surface by pushhing it on a surface of a glass substrate D while supplying a coolant L to which a solution having a hydroxyl group is added to the surface of the glass substrate D.例文帳に追加

水酸基を有する溶液を添加したクーラントＬをガラス基板Ｄの表面に供給しつつ、表面に空隙を有するテープＴをガラス基板Ｄの表面に押し付けて走行させる工程、から構成される化学的機械的研磨加工方法。 - 特許庁

After a solution containing an organic semiconductor material is supplied to the surface of a substrate, it is cooled to precipitate the organic semiconductor material on the surface of the substrate to form the organic semiconductor layer.例文帳に追加

基板上に有機半導体材料を含有する溶液を供給した後、有機半導体材料を含有する該溶液を冷却することにより、基板表面に有機半導体材料を析出させることを特徴とする有機半導体層の形成方法。 - 特許庁

After at least one surface of a substrate having a major component expressed by general formula (2): M1_1-xM2_xO_2 (M1: a tetravalent metal, M2: a trivalent metal, 0.03≤x≤0.3) is immersed in a phosphoric acid solution, the proton conductive solid electrolyte 63 is obtained by heating the substrate.例文帳に追加

プロトン導電性固体電解質体６３は、一般式（２）Ｍ１_1-xＭ２_xＯ_2（Ｍ１：４価金属、Ｍ２：３価金属、０．０３≦ｘ≦０．３）を主成分とする基材の少なくとも一方の表面をリン酸水溶液中に浸漬した後、基材を加熱することにより得られる。 - 特許庁

The kit includes: a first resin substrate where a conductive layer overlaid on a region other than a region for forming a semiconductor layer therein is formed on one surface thereof; a second resin substrate with a conductive layer formed on one surface thereof; semiconductor particles; an electrolyte solution; and a sealing agent.例文帳に追加

上記キットは、半導体層を形成すべき領域以外の領域にマスキングされている導電層が片面に形成された第一の樹脂基板、導電層が片面に形成された第二の樹脂基板、半導体粒子、電解質溶液およびシール剤を含む。 - 特許庁

The nucleic acid spotting solution contains the nucleic acid having a reactive group that can be immobilized onto the substrate surface at least via a spacer group and a compound having a reactive group that does not have the nucleic acid and can be immobilized onto the substrate surface and the spacer group.例文帳に追加

前記核酸スポッティング溶液は、少なくとも基板表面に固定化することができる反応基をスペーサー基を介して有する核酸と、核酸を有さず基板表面に固定化することができる反応基とスペーサー基を有する化合物を含む。 - 特許庁

To provide a solution for processing of metal replacement with aluminum or aluminum alloy used for surface processing for removing an oxide film on an aluminum substrate, suppressing attackability to the aluminum substrate and forming a plating film having high smoothness and excellent plating appearance.例文帳に追加

アルミニウム素地上の酸化皮膜を除去するとともに、アルミニウム素地へのアタック性を抑え、平滑性が高く、めっき外観の優れためっき皮膜を形成させるための表面処理に用いられるアルミニウム又はアルミニウム合金の金属置換処理液を提供する。 - 特許庁

In the sealing cap 17 of this invention, paint for forming the moisture absorption film in which a drying agent is dispersed in a resin solution containing a binder resin is applied and dried on a surface of a sealing substrate 14 to form the moisture absorption film 15 on the sealing substrate 14.例文帳に追加

本発明の封止キャップ１７は、封止基板１４の表面に、バインダー樹脂を含む樹脂溶液中に乾燥剤を分散させた吸湿膜形成用塗料を塗布し乾燥させて封止基板１４の表面に吸湿膜１５を形成したものである。 - 特許庁

After photosensitive conducting paste 2 has been spread on the substrate 1 and exposed to light, a developing solution 33 is jetted from a nozzle 32 with a spray pressure of 1.0-1.5 kgf/cm2, while the substrate 1 is rotated at a constant number of revolutions in a rage of 200-500 rpm, and development is performed.例文帳に追加

基板１上に感光性導電ペースト２を塗布、露光した後、基板１を２００〜５００ｒｐｍの範囲内で一定の回転数で回転させながら、ノズル３２から現像液３３を１．０〜１．５ｋｇｆ／ｃｍ^2のスプレー圧で噴射して現像する。 - 特許庁

Further, in the process for growing the group III nitride crystal 20, the ground substrate 10 is arranged so that the inclination angle ϕ of the main plane 10m of the ground substrate 10 to the surface 17m of the solution 17 satisfies following relation: θ≤ϕ≤θ+26.5°.例文帳に追加

また、ＩＩＩ族窒化物結晶２０を成長させる工程において、溶液１７の表面１７ｍに対する下地基板１０の主面１０ｍの傾斜角φがθ≦φ≦θ＋２６．５°の範囲となるように下地基板１０が配置されている。 - 特許庁

The manufacturing method of the element of forming a thin film on the substrate is characterized in that a solution of a material composing the thin film is frozen, the frozen material is arranged in a desired area on the substrate, and it is defrosted to form the film.例文帳に追加

基板上に薄膜を形成する素子の製造方法において、上記薄膜を構成する材料の溶液を凍結させ、該凍結物を基板上の所望の領域に配置した後、解凍して成膜することを特徴とする素子の製造方法。 - 特許庁

The silica-based coating film 13 having excellent durability, or the like, can be produced by coating the surface of the substrate 11 with the silica-based coating film forming solution in a dry atmosphere and taking out the substrate to a water-containing atmosphere without the catalytic addition and heat treatment.例文帳に追加

このシリカ系被膜形成用溶液を乾燥雰囲気中で基材１１表面に塗布し、水分を含む雰囲気中に基材を取り出すと、触媒添加や熱処理を行うことなく耐久性等に優れたシリカ系被膜１３を製造することができる。 - 特許庁

Preferably the specimen or the test solution is cultured by also using a process for culture in the presence of isopropyl-β-D-thiogalactopyranoside(IPTG) and/or by using a fluorescent substrate having excellent sensitivity to β-galactosidase as (5) a substrate, preferably 4-methylumbelliferyl-β-D-galactoside.例文帳に追加

イソプロピル−β−Ｄ−チオガラクトピラノサイド（ＩＰＴＧ）の存在下で培養する、および／または（５）基質としてβガラクトシダーゼの感度の良い蛍光基質、好ましくは４−メチルウンベリフェリル−β−Ｄ−ガラクトシドを用いて培養する工程と併用することが好ましい。 - 特許庁

To provide a vaporizer that can restrain the deterioration of a medical solution, has high vaporization efficiency, and can reduce the flow rate of a carrier gas, to provide a substrate processing apparatus employing the vaporizer to reduce the risk of leakage of a vaporized processed gas, and to provide a substrate processing method.例文帳に追加

薬液の劣化を抑え、気化効率が高くキャリアガスの流量を少なくすることができる気化装置、及びこの気化装置を備えることにより気化された処理ガスの漏洩のリスクを低減させた基板処理装置、基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

In the DLC(diamond-like carbon) film deposition method for depositing a DLC film on the surface of a substrate, solution heat treatment is applied to the substrate and then aging treatment and DLC coating treatment are simultaneously carried out by a combined simultaneous treatment process.例文帳に追加

基材の表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）皮膜を形成するＤＬＣ成膜方法において、基材を溶体化処理し、その後時効処理とＤＬＣコーティング処理とを複合同時処理プロセスにより同時に行うことを特徴とするＤＬＣ成膜方法。 - 特許庁

The method for forming a metal oxide thin film on a semiconductor substrate is characterized in that the semiconductor substrate is previously soaked into a phospholic acid mixed solution to form a hydrophilic surface.例文帳に追加

液相析出法で半導体基材上に金属酸化物薄膜を形成する際に、前記半導体基材をあらかじめリン酸混合液に浸してその表面を親水化することを特徴とする半導体基材上への金属酸化物薄膜の形成方法。 - 特許庁

To obtain a coat solution for forming a ferroelectric thin film on a substrate, especially, forming a ferroelectric thin film having good hysteresis characteristics and saturation characteristics on a substrate of platinum, iridium, iridium oxide, etc.例文帳に追加

基板上に強誘電体薄膜を形成するための塗布溶液、特に白金、イリジウム、酸化イリジウムなどの基板上に良好なヒステリシス特性および飽和特性が得られる強誘電体薄膜形成が可能な強誘電体薄膜形成用塗布溶液を得る。 - 特許庁

To provide a substrate plating apparatus which prevents detachment or oxidation of a black film formed on the surface even when an anode is formed of copper-containing phosphor, and fills a space between a surface of a substrate to be plated and the anode with the plating solution not leaving any air therebetween.例文帳に追加

アノードを含リン銅で構成しても、この表面に生成されるブラックフィルムの脱落や酸化を防止し、しかも基板の被めっき面とアノードとの間を空気が存在しない状態でめっき液で満たすことができるようにした基板のめっき装置を提供する。 - 特許庁

The display panel manufacturing device comprises a stage supporting a substrate and having a hole, one or more ink jet heads having a nozzle for injecting solution for pattern formation to the substrate, and one or more cameras positioned below the stage so as to monitor the nozzle through the hole.例文帳に追加

本発明は、基板を支え、ホールを有するステージと、基板にパターン形成用溶液を噴射するノズルを有する一つ以上のインクジェットヘッドと、ステージの下に位置し、ホールを通じてノズルをモニタリングするための一つ以上のカメラを含んでいることを特徴とする。 - 特許庁

To automate confirmation whether drying for a recovered measured object is finished or not, in a sample recovery device for fluorescent X-ray analysis for dropping a solution on a substrate on a surface of which the measured object exists, for moving the measured object on the substrate surface while holding it by a holding tool, and for drying the measured object to be held on the substrate surface.例文帳に追加

表面に被測定物が存在する基板に溶液を滴下して保持具で保持しながら基板表面で移動させ、被測定物を回収後乾燥させて基板表面に保持する蛍光Ｘ線分析用試料回収装置において、回収した被測定物を乾燥できたか否かなどの確認について自動化できるものを提供する。 - 特許庁

Equal pressure is applied to the back of a quartz vibrator substrate by a gas hermetically sealing line LB, with respect to the change in the pressure applied to the surface of the quartz vibrator 13 by the sample solution driven by the liquid feed pump 21 and the pressures applied to the surface and back of the quartz vibrator substrate are made to reach equilibrium, to eliminate generation of strains in the substrate.例文帳に追加

送液ポンプ２１で駆動される試料溶液によって水晶振動子１３の表面に加えられる圧力変化に対して、気体密封ラインＬＢにより同等の圧力を水晶振動子基板の裏面に加え、水晶振動子基板の表裏面に加えられる圧力を平衡させてその歪み発生を無くす。 - 特許庁

The electrochemical measuring microelectrode related to one embodiment is equipped with a substrate 1, the flow channel 7a, through which a saturated potassium solution flows, formed to the substrate 1, the silver thin film 2 formed in the flow channel 7a as a reference electrode and the flow channel 7b formed to the substrate 1 separately from the flow channel 7a to allow a measuring sample to flow.例文帳に追加

本発明の一実施形態に係る、微小電気化学測定用電極は、基板１と、基板１に形成され、飽和塩化カリウム溶液が流れる流路７ａと、流路７ａ内に形成された参照電極としての銀薄膜２と、基板１に形成され、流路７ａとは別個の流路であって、測定試料が流れる流路７ｂとを備える。 - 特許庁

To solve the problem that, though, for depositing a titania film on the surface of a substrate composed of an Mg alloy, ordinarily, a solution containing a photocatalytic semiconductor is applied on the surface of the substrate, and, next, sintering is executed at 300 to 500°C in the air, by this method, the film has not been firmly deposited on the substrate.例文帳に追加

Ｍｇ合金からなる基体の表面にチタニア膜を形成するために、通常は、光触媒半導体を含む溶液を基体の表面に塗布し、次いで大気中で３００℃超乃至５００℃以下の温度で燒結することが行われるが、この方法では基体の表面に強固に造膜できないという問題が発生する。 - 特許庁

In the thermal treatment device (thermal treatment unit 3), when the substrate G on which a coating solution (resist liquid) is applied is placed on a heating plate 4 and heated, a frame 5 is provided above the heating plate 4 and around the substrate G so as to make its side faces confront the side faces of the substrate G and form a gap between itself and the surface of the heating plate.例文帳に追加

前記熱処理装置（熱処理ユニット３）において、加熱プレート４に塗布液（レジスト液）が塗布された基板Ｇを載置して当該基板Ｇを加熱するにあたり、加熱プレート４の上部に、基板Ｇの周囲に、内面が基板側面に対向するように、かつ加熱プレート表面との間に隙間を形成するように枠体５を設ける。 - 特許庁

The method for crosslinking adhesion of a fluororubber to a metal substrate includes coating of the substrate with at least one of solutions of materials selected from the group consisting of silane coupling agents and hydrolyzed products and partially condensed products of the silane coupling agent, drying of the solution, baking of the substrate at 200-300°C and crosslinking adhesion of the fluororubber composition.例文帳に追加

金属基材にフッ素ゴムを架橋接着させるにあたり、該基材にシランカップリング剤、シランカップリング剤の加水分解物または部分縮合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の溶液を塗布し、乾燥後、該基材を温度２００〜３００℃で焼成した後、フッ素ゴム組成物を架橋接着させるフッ素ゴムの架橋接着方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes: a step of applying a solution wherein fine metal particles having a diameter of ≤20 nm are dispersed in a solvent, onto the semiconductor substrate; a step of evaporating the solvent; and a step of forming a metal-semiconductor compound thin film on a surface of the semiconductor substrate by causing the reaction between the fine metal particles and the semiconductor substrate.例文帳に追加

直径２０ｎｍ以下の金属微粒子を溶媒中に分散した溶液を、半導体基板上に塗布する工程と、溶媒を蒸発させる工程と、金属微粒子と半導体基板を反応させ、半導体基板表面に金属半導体化合物薄膜を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for producing an electrode catalyst to be used in a rotating disk electrode system, each of which rotates a substrate and delivers a catalyst solution onto the substrate of a rotated attitude, thereby producing the electrode catalyst having desired thickness on the substrate uniformly and efficiently in a short period of time and each of which enables the produced electrode catalyst to be used in rotating disk electrode analysis.例文帳に追加

基板を回転させ、回転姿勢の基板上に触媒溶液を受け渡すことにより、効率的かつ短時間で、基板上に均一で所望厚の電極触媒を製造し、回転ディスク電極分析に供することのできる、回転ディスク電極法で使用される電極触媒の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁