「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

In addition, the optical element is immersed in solution mixed at a prescribed mixed ratio of the soluble fluorine resin and the ethylene compound, and the end face of the glass substrate and the birefringent substance film is moisture-proof treated.例文帳に追加

また、光学素子を可溶性フッ素樹脂とエチレン系化合物の所定の混合比で混合した溶液に浸漬し、ガラス基板と複屈折性物質フィルムの端面を防湿処理する。 - 特許庁

To provide a method for purifying a nucleic acid, by substituting a substance which is used in an aqueous adsorption solution for accelerating bonding of the nucleic acid to a substrate, such as an inorganic support material, with another substance.例文帳に追加

無機質支持体のような基材への核酸の結合を促進するため、水性吸着溶液中の別の物質を使用する、核酸の精製の代替方法を提供すること。 - 特許庁

A polysilazane solution is applied to a substrate and subjected to a chemical treatment to obtain a thick silicon dioxide coating film.例文帳に追加

基体にポリシラザン溶液を塗布し、化学的処理して二酸化ケイ素膜を被覆する方法において、次の（Ａ）〜（Ｄ）の各工程が順次行なわれることを特徴とする厚膜二酸化ケイ素の被覆方法。 - 特許庁

This sol-gel solution is applied to a quartz substrate of 10 mm×40 mm by a dipping method and dried at room temperature in the air for about 100 hr to manufacture the objective sol-gel dip glass.例文帳に追加

該ゾルゲル溶液を１０ｍｍ×４０ｍｍ石英基板にディップ法により塗布し、室温大気中で約１００時間乾燥させることによりゾルゲルディップガラスを作製した。 - 特許庁

An ejection electrode 44 and an ink guide 50 with a sharp tip are integrally provided in an ink guide substrate 32, and a distance between the ejection electrode and a tip of a solution guide is kept constant.例文帳に追加

吐出電極４４および先端が先鋭なインクガイド５０が、インクガイド基板３２に一体に設けられており、吐出電極と溶液ガイド先端との距離が一定に保たれている。 - 特許庁

The grooves in the circumferential direction are formed by mechanical texture processing carried out through a processing solution where very small diamond abrasive grains are dispersed between a process tape and the rotating glass substrate surface.例文帳に追加

周方向の溝は加工テープと回転するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を分散させた加工液を介在させて行なうメカニカルテクスチャ加工によって形成されている。 - 特許庁

A silicon substrate 1 where an oxide film 2 is formed in a (001) surface is treated by a hydrogen fluoride water solution comprising a hydroxide ion reducer (hydrochloric acid, for example) and the oxide film 2 is peeled {Fig.(c)}.例文帳に追加

（００１）表面に酸化被膜２を形成させたシリコン基板１を、水酸イオン減少剤（例えば塩酸）を含むフッ化水素水溶液で処理して、酸化被膜２を剥離する〔（ｃ）図〕。 - 特許庁

Then, a biochemical substance T1 is position-selectively adsorbed to the substrate w1 at a position from which the absorption layer M has been removed by thereinto introducing a solution of the biochemical substance T1.例文帳に追加

その後、生化学物質Ｔ１の溶液を導入することにより、光吸収層Ｍが除去された位置の基板ｗ１に生化学物質Ｔ１を位置選択的に吸着させる。 - 特許庁

A working electrode 1 dipped into an electrolytic solution 6 in a reaction tank 4 is formed of a translucent ITO (Indium Tin Oxide)glass substrate to which electric conductivity is imparted by doping fluorine.例文帳に追加

反応槽４内の電解液６中に浸される作用極１は、フッ素をドープすることによって導電性が与えられた透光性のＩＴＯガラス基板から形成されている。 - 特許庁

To provide a substrate holding cassette, which is highly effective in suppressing the residual of processing solution, and which is capable of reducing the cost of cleaning process and enhancing the processing effect of cleaning.例文帳に追加

処理液の残留を抑制する効果が高く、洗浄処理の低コスト化が可能であるとともに、洗浄の処理効果を向上することができる基板保持カセットを提供すること。 - 特許庁

The specimen analyzing is manufactured by impregnating a porous material with a solution containing enzyme taking a component to be analyzed as a substrate and a protein hydrolysate and drying the impregnated porous material.例文帳に追加

多孔質材に、分析対象成分を基質とする酵素およびタンパク質分解物を含む溶液を含浸させ、これを乾燥することによって検体分析用具を作製する。 - 特許庁

To provide a coating apparatus which prevents the film thickness at the peripheral part of a prescribed pattern from becoming thicker than that at another part when a solution is applied on a substrate to form the pattern.例文帳に追加

この発明は基板に溶液を所定のパターンで塗布したときに、そのパターンの周辺部の膜厚が他の部分よりも厚くなるのを防止する塗布装置を提供することにある。 - 特許庁

In the method for producing a non-magnetic garnet substrate, only the bevel face of a single crystal wafer is coated with an etching solution to selectively etch the bevel face.例文帳に追加

単結晶ウエハのベベル面のみにエッチング液を塗布することによって、該ベベル面を選択的にエッチングすることを特徴とする非磁性ガーネット基板の製造方法などによって提供する。 - 特許庁

The electrode material is manufactured in such a way that a substrate containing titanium is immersed in a solution of ethylene glycol and nitric acid, containing vanadium salt and tungsten salt, then dried and baked.例文帳に追加

この電極材料を製造するに当たっては、バナジウム塩とタングステン塩とを含むエンレングリコール−硝酸の溶液中に、チタンを含む基体を浸漬した上で乾燥させ、次いで焼成する。 - 特許庁

In the deposition of copper on the plate of a semiconductor integrated circuit equipment having the undulation of a submicron siz by the electroplating, a substrate is immersed in an electroplating bath prepared from a concentrated solution containing an effective amount of an ionic copper and a defect reducing agent.例文帳に追加

サブミクロンサイズの起伏を有する半導体集積回路機器基板上に銅を電気鍍金で析出させる方法および対応する電気鍍金浴を調製する濃厚液。 - 特許庁

The substrate is immersed in an electrolytic solution; and the electrode pad for plating is energized to subject the top end of the columnar structure to electrolytic plating to form a hemispheric dome structure on the top end of the columnar structure.例文帳に追加

この後、基板を電解液に沈め、メッキ用電極パッドに通電し、柱構造先端に電解メッキを行い、柱構造先端に半球状のドーム構造を形成する。 - 特許庁

When the polymer compound is used for forming a resist film, the film has the increased adhesion to the substrate, has the excellent solubility in the developing solution, without having a swelling effect, and forms a good resist pattern.例文帳に追加

レジスト膜に当該高分子化合物を用いた場合、基板密着性が高くなると共に、該レジスト膜は膨潤性が無くて現像溶解性に優れレジストパターンの形状が良好。 - 特許庁

To provide a method of chemical conversion coating which is non- poisonous, superior in adhesiveness with a metal substrate, and provides a function on the surface, and to provide a solution therefor and a product manufactured by using these.例文帳に追加

非有毒で、金属素地と密着性に優れ、かつ表面に機能性を付与することが可能な化成処理の方法、化成処理液、これを用いて製造された製品を提供する。 - 特許庁

Then the ceramic substrate 11 is dipped in an electrolytic plating solution and electric power is supplied to the power supply film 15 to deposit an electrolytic plating film 20 on the plating base film 18, thereby forming a wiring pattern 21.例文帳に追加

ついで、セラミック基板１１を電解メッキ溶液に浸漬して給電膜１５に通電し、メッキ下地膜１８の上に電解メッキ膜２０を堆積させて配線パターン２１を形成する。 - 特許庁

To provide a coating method and a coating device capable of forming a thin coating film of uniform film thickness, and a high speed coating, not depending on the planarity of the substrate even in a high viscosity solution.例文帳に追加

高粘度液においても、支持体の平面性に影響されずに塗布膜厚の均一な、薄膜、高速の塗布を行うことが可能な塗布方法及び塗布装置の提供。 - 特許庁

A solution containing recording material is applied to the molding substrate to fill only the pit parts to form recording parts, and a required constitution layer is provided to form the optical information recording medium of the patterned medium type.例文帳に追加

記録材料を含む溶液を成形基板に塗布してピット部にのみ充填して記録部を形成し、必要な構成層を設けてパターンドメディアタイプの光情報記録媒体とする。 - 特許庁

To provide a process liquid feeding unit which efficiently implements a sensitizing solution application process and simplifies the configurations of the unit and an apparatus, and to provide a substrate processing apparatus and method using the same.例文帳に追加

感光液塗布工程を効率的に遂行できユニット及び装置の構成を簡素化できる処理液供給ユニットと、これを用いた基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The conductive thin film is formed by applying a solution containing an organic metal compound of a mixture of stereoisomer excluding optical isomer on the substrate in a liquid drop state, and drying and sintering the same.例文帳に追加

有機金属化合物であって、光学異性体以外の立方異性体の混合物を含む溶液を液滴で付与して乾燥、加熱焼成し、導電性薄膜を形成する。 - 特許庁

As a condition for volatilization, pressure lower than the atmospheric pressure is set at 1×10^2∼1×10^5Pa, and the distance from a solution-injecting tip to the substrate is set at 2-20 mm.例文帳に追加

また揮発させる条件として大気圧より低い圧力を１×１０^２〜１×１０^５Ｐａとし、溶液を噴射する噴射口から基板の距離は２〜２０ｍｍとする。 - 特許庁

To attain a rear-surface cleaning method of etching ruthenium deposited on a bevel portion and on the rear surface of a substrate with a simple device arrangement, enabling chemical solution treatment without using a shield plate.例文帳に追加

遮断板を使用せずに薬液処理を可能とする裏面洗浄方法であり、容易な装置構成にて、ベベル部および基板裏面に付着したルテニウムのエッチングを行う。 - 特許庁

A PZT film 2 is formed on a substrate 1 by the hydrothermal process and after that, the formed PZT film 2 is further hydrothermally treated in an aqueous solution of pH 5-7.例文帳に追加

基材１上に、水熱法によってＰＺＴ膜２を形成した後、さらに、この基材１上に形成されたＰＺＴ膜２を、ｐＨ５〜７の水溶液中で水熱処理する。 - 特許庁

A via hole 16 is formed in an insulating layer 2 formed on the surface of an organic substrate 1 and containing silicon, and after the via hole is formed, an insulating film is surface processed with a solution containing hydrofluoric acid.例文帳に追加

有機基板１の表面に形成されたシリコンを含有する絶縁層２にビアホール１６を形成し、ビアホールの形成後、絶縁膜をフッ酸が含まれる溶液で表面処理する。 - 特許庁

The substrate is polished by use of an alkaline aqueous solution which contains an inorganic builder and the pH of which is equal to or more than 8.5 and equal to or less than 13.0 in the second polishing step (S30) after the first polishing step (S20).例文帳に追加

第２研磨工程（Ｓ３０）では、第１研磨工程（Ｓ２０）後に、無機ビルダーを含有したｐＨが８．５以上１３．０以下のアルカリ性水溶液を用いて研磨を行なう。 - 特許庁

A crystal growing seed 12 is formed on the surface of an insulating substrate 11, and the crystal growning seed 12 and a silicon containing low melting point metal fused solution 13 are brought into contact with each other.例文帳に追加

絶縁基体１１の表面側に結晶成長のシード１２を形成し、その結晶成長のシード１２とシリコン含有低融点金属溶融液１３とを接触させる。 - 特許庁

Then, the substrate is rinsed with water, an aqueous solution, or a solvent, and thereby, the protective film removal layer and the protective film are removed together.例文帳に追加

その後、保護膜除去層の断面が露出するように基板を切断した後、基板を水、水溶液または有機溶媒によって洗浄し、前記保護膜除去層と共に保護膜を除去する。 - 特許庁

As a vacant space having a volume in microliter order made between the substrate 1 and the member 2, measuring units 4A, 4B, a solution input unit 3 and a microflow channel 5 are installed.例文帳に追加

基板１と部材２との間に設けられたマイクロリッターオーダの容積を有する空隙として、測定部４Ａ、４Ｂと、溶液投入部３と、微細流路５とが設けられている。 - 特許庁

The metal oxide thin film is manufactured by applying a solution of a high polymer-metal complex formed by coordinating a high polymer ligand in the metal on a substrate and firing the coating film.例文帳に追加

高分子重合体配位子が金属に配位されてなる高分子金属錯体の溶液を基板に塗布し、その塗膜を焼成する金属酸化物薄膜の製造方法である。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of preventing or controlling leakage of the mist of a chemical solution from a processing cup without lowering the gas-liquid separation efficiency in the processing cup.例文帳に追加

処理カップ内における気液分離効率を低下させることなく、処理カップからの薬液のミストの漏出を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The surface of the tin oxide membrane formed on a substrate is irradiated with light in the state that a palladium solution is brought into contact with the surface of the tin oxide membrane to diffuse palladium to the tin oxide membrane.例文帳に追加

基板に形成された酸化スズ薄膜表面に対してパラジウム溶液を接触させた状態で光照射を行うことにより、パラジウムを酸化スズ薄膜に拡散する。 - 特許庁

The liquid drops of an ultraviolet curing resin solution are jetted onto a rotating substrate 1 by using liquid drop jet head 103 which can control and jet minute liquid drops.例文帳に追加

微小な液滴を制御しつつ噴射することが可能な液滴噴射ヘッド１０３を用いて、回転する基板１上に紫外線硬化性樹脂溶液の液滴を噴射する。 - 特許庁

Thereby, a time required for drying the hole transportation solution and its solvent in the respective element formation areas 10 in the entire substrate 4 can be uniformized in a drying process.例文帳に追加

従って、乾燥工程で基板４の全域の各素子形成領域１０における正孔輸送材料液とその溶媒が乾燥するのにかかる時間を一様にすることができる。 - 特許庁

The microbe is arranged on an SERS active substrate and fixed by a fixing solution to acquire the SERS spectrum of the microbe, and the SERS spectrum is analyzed to form a curve diagram.例文帳に追加

微生物をＳＥＲＳ活性基板上に配置し、固定液で微生物を固定して微生物のＳＥＲＳスペクトルを取得し、該ＳＥＲＳスペクトルを分析して曲線図を生成する。 - 特許庁

To simply form an electroless plating film having excellent flatness and uniformity on a silicon substrate at a low cost by using a catalyzing solution having excellent removing capacity for a silicon oxide film.例文帳に追加

シリコン酸化膜の除去能力に優れた触媒化溶液を用い、平坦性および均一性に優れた無電解めっき皮膜を低コストで簡単にシリコン基板上に形成する。 - 特許庁

A silica particulate layer 22 which is obtained by coating a liquid in which silica particulates are dispersed in a silica film forming solution is formed on the surface of the transparent conductive film 14a side of the transparent substrate 12a.例文帳に追加

透明基板１２ａの透明導電膜１４ａ側表面にシリカ微粒子をシリカ皮膜形成溶液に分散した液を塗布して得られるシリカ微粒子層２２が形成される。 - 特許庁

Anode oxidation is applied in an alkaline solution on the metal substrate of iron ferrous metal (for example, stainless steel), and then, noble metal plating (for example, gold plating) is applied.例文帳に追加

鉄系金属製（例えばステンレス鋼製）の金属基材に対しアルカリ溶液中で陽極酸化を施し、その後、その金属基材に対し貴金属めっき（例えば金めっき）を施す。 - 特許庁

The reaction layer is formed by blowing a solution of a reagent composing the reaction layer onto the electrode system on the electric insulating substrate or in the vicinity thereof by electrospray method.例文帳に追加

そして、この反応層は、これを構成する試薬の溶液をエレクトロスプレー法によって、電気絶縁性の基板上の電極系上またはその近傍に、吹き付けて形成する。 - 特許庁

On a base substrate provided with pixel electrodes and barrier ribs formed in a peripheral region of the pixel electrodes, a liquid-repellent solution containing a fluorine-content compound is applied and dried.例文帳に追加

画素電極と前記画素電極の周辺領域に形成された隔壁とが形成された基板上に、フッ素含有化合物を含む撥液性溶液を塗布し、乾燥させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor film includes a first step of applying a solution containing a first organic semiconductor and a second organic semiconductor on a surface of a substrate.例文帳に追加

半導体膜を製造する方法を提供するものであり、第１の有機半導体及び第２の有機半導体を含む溶液を基板の表面に付与する第１の工程を有する。 - 特許庁

To provide a polyester resin having heat resistance, transparency, solvent solubility, cohesiveness to a substrate, and alkali decomposition properties suitable for film processing; and a coating solution for the same.例文帳に追加

耐熱性、透明性、溶剤溶解性を有し、基材に対する優れた密着性および膜加工に適したアルカリ分解性を有するポリエステル樹脂、およびそのコート液を提供する。 - 特許庁

A substrate solution having high concentration and high temperature can be prepared by the use of the enzyme taking advantage of the high heat-resistance and, accordingly, amino acids, etc., can be produced in high efficiency.例文帳に追加

本酵素は、このように酵素の耐熱性が高いことから、高温で高濃度の基質溶液を調製することができ、その結果効率良くアミノ酸等を生産することができる。 - 特許庁