「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a composition and a process for forming a silicon film having a uniform film thickness and a mirror surface on a substrate within a short time via solution method using cyclopentasilane as a starting material.例文帳に追加

シクロペンタシランを出発物質として溶液法により、支持体上に均一な膜厚と鏡面を持つシリコン膜を短時間で形成するための組成物および方法を提供する。 - 特許庁

To prevent generation of sludge due to increase in the concentration of a solder resist, in a developing solution for a solder resist and to prevent re-deposition of sludge onto a substrate made of copper or the like or deposition on a developing tank.例文帳に追加

ソルダーレジストの現像液において、ソルダーレジストの濃度上昇によるスラッジ生成と、スラッジの銅などの基材上への再付着や現像槽への付着を防止する。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution which has a high polishing speed and a good copper/tantalum polishing selectivity, dishes a work little, and is capable of improving a substrate in planarity.例文帳に追加

本発明は、迅速な研磨速度、および、良好な銅／タンタル研磨選択性を有し、ディッシングが少なく、基板の平坦性を向上させることが可能な金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

Further, a single crystal comprising the organic compound is formed by naturally growing the nucleus as a center on the main face of a prescribed substrate arranged in the low supersaturated solution.例文帳に追加

そして、この核を中心として前記低過飽和溶液中に配置した所定の基板の主面上に、前記有機物からなる単結晶を自然核成長により形成する。 - 特許庁

When washing a glass substrate G by spraying the washing solution applied with ultrasonic wave from a washing head 20, the washing head 20 is composed of an outer head 24 and an inner head 26.例文帳に追加

超音波が印加された洗浄液を洗浄ヘッド２０から噴射してガラス基板Ｇを洗浄する場合において、洗浄ヘッド２０を外部ヘッド２４と内部ヘッド２６とで構成する。 - 特許庁

Further, an HF aqueous solution is supplied onto the surface of the substrate, and the oxide film is etched to remove metallic foreign matters and particles in or on the oxide film.例文帳に追加

さらに、ＨＦ水溶液を半導体基板の表面に供給して上記酸化膜をエッチングして酸化膜中あるいは酸化膜上の金属系ゴミとパーティクルを除去する。 - 特許庁

The material is used as main component to apply M3EH-PPV4 solution directly to a substrate 7 in the form of a thin film or a coating for manufacturing an OLED.例文帳に追加

また、前記材料を主成分とし、溶液から薄膜の形で基板７に、又は被覆された基板７に、前記Ｍ３ＥＨ−ＰＰＶ４を直接塗布することによりＯＬＥＤを製造する。 - 特許庁

As an etchant for wet etching of a ridge stripe provided on a compound semiconductor substrate having an off angle to the [111] direction or [1-1-1] direction from the crystal surface (100), a solution including hydrogen fluoride, a solution including boron, or a buffered hydrofluoric acid is used.例文帳に追加

（１００）結晶面から［１１１］方向または［１−１−１］方向にオフ角を有する化合物半導体基板上に設けられたストライプ状のリッジ部をウェットエッチングするエッチャントとして、フッ化水素を含有する溶液、臭素含有溶液、またはバッファードフッ酸を用いる。 - 特許庁

The method for manufacturing a fine structure includes the steps of: exposing a resin layer on a substrate by lithography; and supplying a developing solution to the resin layer after being exposed to form a resin die, wherein vibration in a megahertz band is added to the developing solution to be supplied.例文帳に追加

本発明の微細構造体の製造方法は、リソグラフィにより基板上の樹脂層を露光し、露光後の樹脂層に現像液を供給して樹脂型を形成する工程を含み、供給する現像液にメガヘルツ帯域の振動を与えることを特徴とする。 - 特許庁

In the laminate type electrophotographic photoreceptor with at least an electrically conductive substrate, an electric charge generating layer and an electric charge transferring layer, a resin slightly soluble in a coating solution for the electric charge transferring layer and a resin soluble in the coating solution are used as the resin medium of the electric charge generating layer.例文帳に追加

少なくとも導電性支持体、電荷発生層及び電荷輸送層を有する積層型電子写真用感光体において、電荷発生層の樹脂媒体として電荷輸送層の塗工溶液に対し実質的に難溶性の樹脂と溶解性の樹脂とを使用する。 - 特許庁

This electrode for electrochemical measurement is characterized by amorphous carbon thin film formed on its substrate, wherein at least a part of it is contact with a measured liquid solution to detect any electrical change caused by electrochemical reaction of this solution.例文帳に追加

本発明の電気化学測定用電極は、少なくとも一部が測定対象となる溶液に接触されて、この溶液の電気化学反応により生じる電気的変化を検出する電極であり、基板上にアモルファス状の炭素薄膜が形成されたことを特徴とする。 - 特許庁

For example, a film having a photosensitive hydrophobic group is formed on a substrate and is irradiated with light to form hydrophilic patterns and the foam of the solution is brought into contact with the top of the hydrophilic patterns to deposit metal oxides on the hydrophilic patterns by the components included in the solution.例文帳に追加

たとえば基板上に感光性の疎水基を有する被膜を形成し、光を照射して親水性のパターンを形成し、親水性パターン上に溶液の泡を接触させ、親水性パターン上に、溶液に含まれる成分により金属酸化物を析出せしめる。 - 特許庁

The method comprises coating a substrate with a first graphene solution prepared by modifying a graphene in an organic solvent with an electron acceptor organic molecule constituting a charge transfer complex and with a second graphene solution prepared by modifying a graphene in an organic solvent with an electron donor organic molecule constituting a charge transfer complex.例文帳に追加

有機溶剤中のグラフェンを、電荷移動錯体を構成する電子受容体有機分子で修飾したグラフェン第１溶液と、有機溶剤中のグラフェンを、電荷移動錯体を構成する電子供与体有機分子で修飾したグラフェン第２溶液とを、基板に塗布する。 - 特許庁

Provided is the manufacturing apparatus for manufacturing the layered body by coating a substrate with the solution containing the polysilazane composition, wherein a liquid contact part with which a solution containing a polysilazane composition is in contact is either a member made of fluorine resin or a member coated with fluorine resin.例文帳に追加

ポリシラザン組成物を含む溶液を基材に塗布して積層体を製造する製造装置において、前記ポリシラザン組成物を含む溶液の接触する接液部が、フッ素樹脂からなる部材、又は、フッ素樹脂でコーティングされている部材の何れかであることを特徴とする製造装置。 - 特許庁

Microflow passages 6, 6 each starting from the inflow opening 4, 4 and reaching a joining point 7 are formed on the inside of the substrate 2, the injected solution is joined at the joining point 7 and mixed in a mixing passage 8, and the mixed solution is transferred to the outflow opening 5.例文帳に追加

前記基板２内部にはそれぞれの流入口４、４から合流点７に至る微小流路６、６を形成し、注入した溶液を前記合流点７で合流させて、混合流路８で混合させ、この混合溶液を流出口５までもたらすようにする。 - 特許庁

The cyclohexanone solution (4 wt.%) of a PMAz8Mc or a PMAz8Ac is applied with a spin coat method (3000 rpm, 20 seconds) on a glass substrate 5, and a polyvinyl alcohol solution (2 wt.%) is applied with the spin coat method (3000 rpm, 20 seconds) on the PMAz8Mc or the PMAz8Ac.例文帳に追加

ガラス基板５上にＰＭＡｚ８ＭｃやＰＭＡｚ８Ａのシクロヘキサノン溶液（４ｗｔ％）をスピンコート法（３０００ｒｐｍ、２０ｓｅｃ）で塗布し、ＰＭＡｚ８ＭｃやＰＭＡｚ８Ａｃ上にポリビニルアルコール水溶液（２ｗｔ％）をスピンコート法（３０００ｒｐｍ、２０ｓｅｃ）で塗布する。 - 特許庁

The color filter has a colored pattern cured with electron beams on a transparent substrate, and when the color filter is immersed for 30 min in each of N-methylpyrrolidone, a 5% aqueous sodium hydroxide solution and a 5% aqueous sulfuric acid solution, a chromaticity change (ΔEab) is ≤5 each.例文帳に追加

透明基板上に電子線により硬化した着色パターンを有するカラーフィルターであって、Ｎ−メチルピロリドン、５％水酸化ナトリウム水溶液、５％硫酸水溶液それぞれに３０分浸漬したときの色度変化（ΔＥａｂ）がいずれも５以下であることを特徴とするカラーフィルタとする。 - 特許庁

By use of a pad printing method, a metal-containing reagent solution or a carbon nanotube or the like covers a conductive substrate as an active solution or a suspension containing a binder, and an electrode having a pseudocapacitive oxide coating, a nitride coating, a carbon nitride coating, a carbide coating, or a carbon nanotube coating is formed.例文帳に追加

パッド印刷法を使って、導電性基材上に、金属含有試薬又はカーボンナノチューブ等をバインダーを含む活性溶液または懸濁液として被覆し、擬似容量性の酸化物皮膜、窒化物皮膜、窒化炭素皮膜、カーバイド皮膜、又はカーボンナノチューブ皮膜の電極を形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a thin film having uniformalized film thickness in a method of forming the thin film of a metal sulfide or a metal oxide by blowing solution fine particles formed by atomizing a source material solution with an ultrasonic vibrator transducer on a heated substrate for film forming.例文帳に追加

超音波振動子によりソース材料溶液を霧化させた溶液微粒子を加熱された製膜用基板に吹き付け、金属硫化物または金属酸化物の薄膜を形成する方法において、膜厚が均一化された薄膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

The reliable TFT is obtained by removing the contaminating impurities existing in the film of the TFT on a glass substrate by contacting acidic solution containing fluorine with the surface of the film and flowing the acidic solution in a fixed direction.例文帳に追加

ガラス基板上のＴＦＴの被膜に存在する汚染不純物を、フッ素を含有する酸性溶液を被膜表面に接触させ、酸性溶液を一定方向に流すことにより、被膜表面の汚染不純物を除去することにより、信頼性のあるＴＦＴを得ることができる。 - 特許庁

To provide a method of determining an interaction parameter to precisely measure the concentration of a binding substance contained in a measuring solution without the need for accurately measuring a fixing quantity of ligands to a support, and a method of measuring the concentration of the binding substrate contained in the measuring solution.例文帳に追加

支持体へのリガンドの固定化量を正確に測定する必要がなく、測定溶液に含まれる結合物質の濃度を正確に測定するための相互作用パラメータの決定方法及び測定溶液中の結合物質の濃度の測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This high rigidity glass ceramic substrate comprises enstatite (MgSiO3) or enstatite solid solution (MgSiO3 solid solution) as the principal crystal phase, Nb2O5 and Bi2O3, and has 115 to 160 GPa of Young's modulus, 1270°C or below of devitrification temperature and 0.450 to 0.750 s-1 of attenuation constant.例文帳に追加

主結晶相として、エンスタタイト（ＭｇＳｉＯ_3）又はエンスタタイト固溶体（ＭｇＳｉＯ_3固溶体）を含有し、Ｎｂ_2Ｏ_5、Ｂi_2Ｏ_3を含有し、ヤング率は１１５〜１６０ＧＰａで、失透温度が１２７０℃以下であり、減衰定数は０．４５０〜０．７５０ｓ^-1である、高剛性ガラスセラミックス基板。 - 特許庁

A process is provided for selectively etching a SiN film or a CVD-deposited SiON film with respect to a SiO_2 film, a Si substrate, or a Si film at the azeotropic temperature of an etching solution, which is a mixed solution of H_2SO_4 and H_2O having an azeotropic point of 150°C or higher.例文帳に追加

共沸点が１５０℃以上のＨ_2ＳＯ_4とＨ_2Ｏとの混合液をエッチング液として用い、共沸点温度で、ＳｉＮ膜またはＣＶＤ法で作製されたＳｉＯＮ膜を、ＳｉＯ_2膜、Ｓｉ基板またＳｉ膜に対して選択的にエッチングする工程を有する。 - 特許庁

This profile measurement method comprises the steps of: starting electroplating when the substrate contacts with an electrolytic solution; measuring a series of current distributions in the electrolytic solution in a cell; forming the profile of the thickness of the plated film in real-time from a series of the current distributions in the cell; and adjusting a treatment parameter in accordance with the profile.例文帳に追加

基板が電解液に接触するときに電気メッキを始めるステップと；その電解液で一連のセル電流分布を測定するステップと；一連のセル電流分布からリアルタイム厚さプロファイルを作成するステップと；そのプロファイルに従い処理パラメータを調整するステップを備える。 - 特許庁

The preparation method of the substrate for measuring DNAs includes a process for forming the covering of a polymer that can be dissolved into a solvent or a polymer that has π conjugated binding, a process for dripping the DNA solution onto the covering, and a process for expanding the dripped DNA solution on the covering.例文帳に追加

基板上に溶媒に可溶なポリマー又はπ共役結合を有するポリマーの被膜を形成させる工程、該被膜上にＤＮＡ溶液を滴下する工程、及び滴下したＤＮＡ溶液を該被膜上に拡げる工程を含むＤＮＡ計測用基板の作製方法。 - 特許庁

In the method, while or before droplets of a functional solution are discharged onto a film formation region 1 on a substrate W, a solvent having a vapor pressure equal or nearly equal to that of the liquid medium of the functional solution is applied to a formed-film-free region 8 surrounding the film formation region 1.例文帳に追加

基板Ｗ上の膜形成領域１に機能液を液滴として吐出すると略同時または前に、膜形成領域１の周辺域８（非膜形成領域）に機能液の液媒体と同一または略同等の蒸気圧を有する溶媒を塗布する。 - 特許庁

This method for producing the uniform polyester porous film is characterized in that a homogeneous solution composed of a polyester and an alcoholic solvent having ≤80°C boiling point is prepared, the solution is cast into a substrate in a filmy state and the obtained film is dried while causing fluctuation in polyester concentration in the film in the inside direction of film surface.例文帳に追加

ポリエステルと８０℃以下に沸点を有するアルコール系溶媒からなる均一溶液を調製し、該溶液を基板上へ膜状に流延し、得られた膜状物を膜面内方向における膜状物中のポリエステル濃度に揺らぎを生じさせながら乾燥することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electrolytic treatment method by which uniform electrolytic treatment in a substrate surface is achieved by keeping the temperature of an electrolytic solution at a predetermined value, even when a high-resistance porous body is used, this porous body generates heat in accordance with the progress of electrolytic treatment such as electroplating, and the temperature of the electrolytic solution rises.例文帳に追加

たとえ高抵抗の多孔質体を使用することで、電解めっき等の電解処理に伴って、多孔質体が発熱して電解液が上昇したとしても、電解液の液温を所定の値に維持することで、基板面内に均一な電解処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plating method and apparatus which allows a plating solution to penetrate fine grooves and holes formed in a substrate to be plated without adding a surface active agent to the plating solution and is capable of forming a high-quality plating film having no chipping or omission.例文帳に追加

本発明は、めっき液に界面活性剤を加えることなく、被めっき基板に形成された微細な溝や穴にめっき液を浸入させることができ、めっき欠け、めっき抜けの発生がない高品質のめっきを行うことができるめっき方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The water-insoluble electroconductive polyaniline composition can be formed as a film by coating the top surface of a substrate with an aqueous solution containing a water-soluble electroconductive polyaniline composition having the resin as the dopant and a multi-functional cross-linking agent, heating the aqueous solution coating thereon and cross-linking the resin.例文帳に追加

このような水不溶性導電性ポリアニリン組成物は、上記樹脂をドーパントとして有する水溶性導電性ポリアニリン組成物と多官能架橋剤とを含む水溶液を基材上に塗布し、加熱し、上記樹脂を架橋させることによって、フィルムとして得ることができる。 - 特許庁

Electrolytic polymerization is performed while a conductive substrate 1 is disposed in a solution 20 that contains a photocharge separation molecule, a conductive polymer monomer, and a supporting electrolyte in such a way that a transparent electrode film 3 serving as a surface forming a composite film faces vertically downwards, and the solution 20 is stirred.例文帳に追加

光電荷分離分子と導電性高分子モノマーと支持電解質とを含む溶液２０中に、複合膜を形成する面である透明電極膜３が鉛直方向下向きとなるように導電性基板１を配置した状態で溶液２０を撹拌しながら電解重合を行う。 - 特許庁

To provide a processing method of a lithographic printing plate precursor which exhibits excellent developability in developing processing with an aqueous solution having pH of 2-10, prevents adsorption of image-recording components (in particular, a binder) which are removed by development and are present in a processing solution onto a substrate, and generates no printing stain.例文帳に追加

ｐＨ２〜１０の水溶液による現像処理において、優れた現像性を示し、現像によって除去され処理液中に存在する画像記録成分(特にバインダー)の基板への吸着を防止し、印刷汚れを生じない平版印刷版原版の処理方法を提供する。 - 特許庁

The liquid-phase epitaxial growth device 1 is provided with an assembled body 1k to which a plurality of solution reservoirs 31, 32, 33 for respectively reserving reaction solutions S1, S2, S3 different in their components are fixed around a reaction vessel 2 which contains a substrate W and a reaction solution S.例文帳に追加

本発明の液相エピタキシャル成長装置１は、基板Ｗと反応溶液Ｓとを収容する反応容器２の周囲に、成分のそれぞれ異なる反応溶液Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３を個別に収容した複数の溶液溜容器３１，３２，３３を取り付けた組立体１ｋを備える。 - 特許庁

To provide a polishing solution for metal which can continuously polish a substrate having an insulating film, a conductor film and a barrier metal film with the same polishing solution for metal, can obtain good flatness of a polished face, and can reduce the occurrence of scratches, and to provide a polishing method employing the same.例文帳に追加

絶縁膜、導体膜及びバリア金属膜を有する基板を、同一の金属用研磨液で連続的に研磨することが可能であり、研磨後の被研磨面の平坦性が良好で、且つ、スクラッチの発生を低減できる金属用研磨液、及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

Mist 29 for film deposition by an ultrasonic vibration element 5 is generated, and the film is deposited on a substrate in a sealed space 21 of a chamber 3, and the solution 27 adhered to an inner wall of the sealed space 21 is lead to a solution pool 25 by gravity for recycling.例文帳に追加

超音波振動素子５による成膜用の霧２９の生成およびその基板１上への堆積が、チャンバ３の密閉空間２１内において行われ、密閉空間２１の内壁に付着した溶液２７が溶液溜まり部２５に重力により導かれて再利用される。 - 特許庁

In the method for producing a planographic printing plate, a planographic printing plate obtained by disposing a photosensitive layer or a heat sensitive layer on an aluminum substrate treated with an aqueous solution containing nitrous acid or a nitrite after anodic oxidation is developed with a developing solution not containing a silicate.例文帳に追加

陽極酸化した後、亜硝酸または亜硝酸塩を含む水溶液で処理したアルミニウム支持体に型感光層または感熱層を設けた平版印刷版を、珪酸塩を含まない現像液で現像処理することを特徴とする平版印刷版の製造方法。 - 特許庁

The thin film processing method for the dry film resist is the method where the dry film is attached onto a substrate and a water preprocessing using a solution containing an interfacial active agent is applied followed by the thin film processing by an alkaline aqueous solution having an inorganic alkaline compound content of 5 to 20 mass%.例文帳に追加

基板上にドライフィルムレジストを貼り付け、界面活性剤を含む水溶液にて水洗前処理を行った後、無機アルカリ性化合物の含有量が５〜２０質量％のアルカリ水溶液によって薄膜化処理することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 - 特許庁

The method for forming a polymer micro dome containing ionic dye molecule aggregate comprises the casting of a polymer solution containing the ionic dye molecules on a substrate and the dewetting of the solution, and this polymer micro dome or ionic dye molecule aggregate is obtained by the method.例文帳に追加

イオン性色素分子を含有する高分子溶液を基板上にキャスティングし、該溶液をデウェッティングさせることから成る、イオン性色素分子集合体を含有する高分子マイクロドームを形成する方法、及び、該方法によって得られる高分子マイクロドーム又はイオン性色素分子集合体。 - 特許庁

A precursor solution in which paraelectric crystal particulates are dispersed in a metal oxide amorphous precursor having metal alkoxide, metal complex and/or metal carboxylate as a main raw material is applied on a substrate, and the thin film is formed by drying and calcining the solution.例文帳に追加

常誘電性結晶微粒子を金属アルコキシド、金属錯体および／または金属カルボン酸塩を主原料とする金属酸化物アモルファス前駆体中に分散させた前駆体溶液を基板上に塗布し、乾燥，焼成することにより形成した誘電体薄膜。 - 特許庁

The slurry comprises an aqueous solution, a supply source of a rare earth oxide and one or plural transient liquid additives, and the aqueous solution comprises a fluid having the affinity to the supply source of hafnium oxide, the transient fluid additive, the substrate and a deposited layer thereof.例文帳に追加

上記スラリは、水溶液と、希土類元素の酸化物の供給源と、１つまたは複数の一過性の流体状の添加物と、を含み、上記水溶液は、ハフニウム酸化物の供給源や一過性の流体状の添加物や基体およびその堆積層に対して親和性のある流体を含む。 - 特許庁

To provide an acid cleaning solution composition for metal, by which the corrosion of a metal substrate is suppressed, an oxide film and a hardness component can be removed, and which can be also regenerated without a bad influence to a cation-exchange resin, and provide a corrosion inhibitor composition to be added to the above acid cleaning solution.例文帳に追加

金属素地の腐食を抑制して、金属表面に付着している酸化物被膜や硬度成分を除去でき、かつカチオン交換樹脂に悪影響を及ぼさずに再生できる金属の酸洗浄液組成物および、それに添加される腐食抑制剤組成物を提供する。 - 特許庁

A raw material solution, prepared by mixing a monomer which is polymerized by UV irradiation and an initiator is made into particulates through ultrasonic-wave vibration, the raw-material solution which is made into the particulates is pushed out to a pulverizing chamber through a supply path with carrier gas, and pulverized to a substrate via a nozzle.例文帳に追加

ＵＶ照射により重合するモノマー及び開始剤を混合した原料溶液に対し超音波振動を発生させることで微粒子化し、この微粒子化された原料溶液をキャリアガスによって供給路通じて噴霧室へ押し出され、ノズルを介して基板に噴霧される。 - 特許庁

This method for manufacturing an organic film includes a first step for forming an organic film (16) at a prescribed position on a substrate (10); a second step for cleaning the organic film by a prescribed washing solution; and a third step for removing the cleaning solution adhered to the organic film.例文帳に追加

基板(10)上の所定位置に有機膜(16)を形成する第１工程と、前記有機膜を所定の洗浄溶液によって洗浄する第２工程と、前記有機膜に付着した前記洗浄溶液を除去する第３工程と、を含む有機膜の製造方法である。 - 特許庁

To prevent a composition solution of an adhesive for bonding of an IC component from exuding onto an electrode and prevent a wire connection failure between the IC component and the substrate electrode, by restricting the exudation of the composition solution to the interior of a predetermined space between an IC component mount region and the electrode in the periphery thereof.例文帳に追加

ＩＣ部品を接着する接着剤の組成液の滲み出しを、ＩＣ部品搭載領域とその周囲の電極との間の所定のスペース内に制限して電極上への組成液の滲み出しを防止し、ＩＣ部品と基板の電極間のワイヤ接続不良の発生を防止する。 - 特許庁

A surface on which an organic film containing silicon formed on a semiconductor wafer substrate is removed is processed by a method at least including a first step of carrying out a cleaning process with ammonia aqueous solution, and a second step of carrying out a cleaning process with diluted hydrofluoric acid aqueous solution.例文帳に追加

半導体ウェハー基板上に形成されたシリコン含有有機膜を除去した表面を、アンモニア水溶液により洗浄処理を行う第１のステップと、希釈フッ酸水溶液により洗浄処理を行う第２のステップを少なくとも有する方法で処理する。 - 特許庁