「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

Then the composite solution is cast into a micro platinum comb electrode formed on a glass substrate, and a solvent is removed by vacuum drying to obtain a gas sensor.例文帳に追加

次に、複合溶液を、ガラス基板上に形成された微小白金くし型電極にキャストした後、真空乾燥により溶媒を除去してガスセンサが得られる。 - 特許庁

To provide an etching method for etching a non-conductive substrate surface, especially a polyamide surface or an ABS plastic surface before a metal layer is formed on the surface; and an etching solution.例文帳に追加

本発明は、金属層の形成の前に、非導電性基板表面のエッチング、特にポリアミドまたはABSプラスチック表面をエッチングするための方法及びエッチング溶液に関する。 - 特許庁

The invention relates to a method of forming a boundary layer containing a solid solution of magnesium and a prescribed metal (32) on the magnesium alloy substrate (1), and the nickel-based laminated structure.例文帳に追加

本発明は、マグネシウム合金基板（１）上にマグネシウムと所定の金属（３２）との固溶体を含む境界層と、ニッケル系の積層構造とを形成する方法に関する。 - 特許庁

To provide a monomer solution of a chitosan derivative including a chitosan derivative, to be applied on the surface of a hydrophobic substrate, forming a smooth and stable film.例文帳に追加

キトサン誘導体を含み、疎水性の基材表面に塗布可能で、かつ平滑で安定な皮膜形成が可能なキトサン誘導体のモノマー溶液を提供すること。 - 特許庁

The surface of a substrate is spin coated with an organic metal decomposition (MOD) solution raw material by using, for example, an MOD process and the coating is dried, by which the dry film is formed.例文帳に追加

例えば、有機金属分解（ＭＯＤ）法を用いて、基板上にＰＬＺＴを得られるＭＯＤ溶液原料をスピンコートし、乾燥させて乾燥膜とする。 - 特許庁

To provide a new method for processing a substrate surface by which an etching solution can be reused, and the contamination of the surface to be processed caused by the intrusion of impurities can be suppressed.例文帳に追加

エッチング溶液の再利用が可能であり、また、不純物の混入による加工表面の汚染を抑制できる、新たな基板表面の加工方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the buffering aqueous hydrofluoric acid solution 130 is trapped on the surface of the substrate 101 by a liquid coating film 131a formed by the adhering coating film liquid.例文帳に追加

このことにより、基板１０１の表面では、付着した被膜液より形成された液被膜１３１ａにより、緩衝フッ酸水溶液１３０が閉じ込められる。 - 特許庁

The method for two-dimensionally arranging ferritin on a substrate whose surface has hydrophilicity includes a step of spreading a solvent and a solution having the ferritin on the substrate and a removal step of removing the solvent from the solution spread on the substrate, and the N-terminal of the ferritin is modified with an amino acid sequence represented by a specific sequence.例文帳に追加

フェリチンを基板上に二次元配列させる方法であって、前記基板の表面は親水性を有しており、前記方法は、溶媒および前記フェリチンを有する溶液を前記基板上に展開する工程、および前記基板上に展開した溶液から前記溶媒を除去する除去工程を包含し、前記フェリチンにはＮ末端に特定の配列で示されるアミノ酸配列が修飾されている。 - 特許庁

In the method for manufacturing the MEMS device, at the anisotropic etching step of anisotropic etching a part of a silicon substrate 1 for forming the cavity part 11, a TMAH solution dissolving Si is used as an alkali solution; and in the course of anisotropic etching the silicon substrate 1a down to a given depth dp, a cleaning step is carried out at least once, without drying the silicon substrate 1a.例文帳に追加

ＭＥＭＳデバイスの製造方法において、シリコン基板１の一部を異方性エッチングして空洞部１１を形成する異方性エッチング工程では、アルカリ系溶液としてＳｉを溶解させたＴＭＡＨ水溶液を用いるようにし、シリコン基板１ａを所定深さｄｐまで異方性エッチングする途中で、シリコン基板１ａを乾燥させることなく少なくとも１回の洗浄工程を行う。 - 特許庁

The composite material is obtained by immersing the organic polymer substrate material containing a cation component capable of being eluted into water in an aqueous solution containing an anion component capable of forming an insoluble compound along with the cation component, or immersing the organic polymer substrate material in an aqueous solution containing the anion component and the cation component to form the compound layer containing the cation and anion components on the organic polymer substrate material.例文帳に追加

水中で溶出可能なカチオン成分を含む有機ポリマー基材を該カチオン成分とともに不溶性化合物を形成することができるアニオン成分を含む水溶液に浸漬する事、あるいは該アニオン成分を含みかつ該カチオン成分を含む水溶液に浸漬する事で有機ポリマー基材上に該 カチオン成分と該アニオン成分を主成分とする化合物層を形成させた複合材料およびその製造方法。 - 特許庁

A hydrophilic member comprising a substrate and a hydrophilic coating film provided on the substrate is provided, wherein the hydrophilic coating film is produced by coating the substrate with an aqueous solution containing (a) a hydrophilic polymer, (b) an alkoxide of a metal selected from the group consisting of Si, Ti, Zr, and Al, and (c) a metal complex catalyst, and heat-drying the solution applied.例文帳に追加

基材上に、a)親水性ポリマー、b) Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌから選択される金属アルコキシド化合物、c)金属錯体触媒を含有する親水性被膜を塗設したことを特徴とし、該基材上に、a)親水性ポリマー、b) 該金属アルコキシド化合物、c)金属錯体触媒を含有する水溶液を塗布し、加熱、乾燥することにより、親水性皮膜を塗設することにより製造することができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the magnesium workpiece includes anodizing a magnesium substrate 1 made of magnesium or a magnesium alloy, in the electrolytic solution which is a sodium metasilicate solution containing an additive having a sulfonate group, to form a protective coating of the anodic oxide film containing at least one element of carbon and sulfur therein, on the surface of the magnesium substrate.例文帳に追加

マグネシウム製またはマグネシウム合金製からなるマグネシウム基材１をメタけい酸ナトリウム溶液にスルホン酸基を有する添加剤を加えた電解液中で陽極酸化を行い、このマグネシウム基材の表面に炭素および硫黄の少なくとも一方を皮膜中に含有する陽極酸化皮膜よりなる保護膜を形成する方法からなる。 - 特許庁

A method for producing a ferrite thin film comprises continuously or intermittently spraying a solution prepared by adding an oxidation promoter to a source solution comprised of a metal nitrate or a metal alkoxide from atomizer 6 on substrate 4 heated by hot plate 5 using a pressurized gas as a carrier gas with a certain distance apart therefrom to form the ferrite thin film on substrate 4.例文帳に追加

フェライト薄膜の製造方法であって、ホットプレート５により加熱された基板４に、金属の硝酸塩又は金属アルコキシドからなる原料溶液に酸化促進剤を加えて作成した溶液を、アトマイザ６から圧縮ガスをキャリアガスとして一定の距離だけ離して、連続的或いは間欠的に噴霧し、フェライト薄膜を基板４上に形成する。 - 特許庁

A manufacturing method for metal-oxide semiconductor thin films comprises a process of so sticking on a substrate the solution made of an organic metal and an organic solvent and so subjecting the solution to a heating decomposition as to form a thin film on the substrate by baking, and a process of subjecting thereafter the thin film to heat treatment inside an inert gas.例文帳に追加

この発明の金属酸化物半導体薄膜の製造方法は、有機金属と有機溶媒とから成る溶液を基板に付着させ加熱分解し基板上に薄膜を焼成成膜させ、その後不活性ガス中で熱処理を行うことにより金属酸化物半導体薄膜を製造する、ことを特徴としている。 - 特許庁

The method for forming a dye-sensitized semiconductor porous layer comprises: a process for forming the semiconductor porous layer 20 on the surface of an electrode substrate 15; and a process for immersing the substrate 15, on which the semiconductor porous layer 20 has been formed in the dye solution 30, filling the dye solution 30 inside the semiconductor porous layer 20 by the action of centrifugal force, and performing drying.例文帳に追加

電極基板１５の表面に半導体多孔質層２０を形成する工程；表面に半導体多孔質層２０が形成された基板１５を色素溶液３０に浸漬し、次いで遠心力を作用させて色素溶液３０を半導体多孔質層２０の内部に充填した後、乾燥を行なう工程；からなることを特徴とする。 - 特許庁

The electrode element is provided with an oxidation-reduction active film formed by depositing a polymer compound on a conductor substrate, by impregnating the conductor substrate and the counter electrode which become action electrodes in a solution containing the polymer compound expressed by a general formula (1) or a general formula (2) in a reduction state, applying a voltage to the both electrodes and electrolyzing the solution.例文帳に追加

電極素子は、一般式（１）または一般式（２）で表される高分子化合物を還元状態で含む溶液中に作用極となる導電体基板と対極とを浸漬し、両極に電圧を印加して該溶液を電解することにより、該導電体基板上に該高分子化合物を析出させて形成された酸化還元活性膜を備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the transparent conductive film includes a step of providing a transparent substrate, a step of arranging carbon nano tube solution of metal type on the transparent substrate, a step of forming a metallic carbon nano tube network layer from the metallic carbon nano tube solution, and a step of arranging the indium tin oxide layer on the whole metallic carbon nano tube network layer.例文帳に追加

透明導電性フィルムの製造方法は、透明基板を提供する工程、金属タイプカーボンナノチューブ溶液を透明基板上に配置する工程、金属性カーボンナノチューブネットワーク層を金属性カーボンナノチューブ溶液から形成する工程、およびインジウムスズ酸化物層を金属性カーボンナノチューブネットワーク層上全体に配置する工程を含み得る。 - 特許庁

Or, fibroblast is cultured on, at least, one surface of the biodegradable substrate adjacent to the surface of the culture solution and, after preparing a membrane material formed with a corium layer on the biodegradable substrate, the corium cell is cultured on, at least, one surface of the membrane material adjacent to the surface of the culture solution so as to provide the cultured skin.例文帳に追加

また、生分解性基材の少なくとも片面に繊維芽細胞を培養液中における液面付近で培養し、生分解性基材上に真皮層を形成した膜状物を作成後、膜状物の少なくとも片面に表皮細胞を培養液中における液面付近で培養することにより培養皮膚も得ることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for the lithographic printing plate which can obtain the substrate for the lithographic printing plate comprises at least an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a mixed aqueous solution containing hydrochloric acid and sulfuric acid and an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in an aqueous solution containing hydrochloric acid in this order on an aluminum plate 11.例文帳に追加

アルミニウム板１１に、少なくとも、塩酸と硫酸とを含有する混合水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理、および、塩酸を含有する水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理をこの順に施して、平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

An embodiment of the present invention includes a 1st transparent substrate having a 1st electrode pattern and a dielectric layer having a hydryphobic surface, partition walls which are formed on the dielectric layer to divide operation regions, a black organic solution and a solution filling the inner sides of the partition walls, and a 2nd transparent substrate which is formed above the partition walls and has a 2nd electrode pattern.例文帳に追加

本発明は、第１電極パターン及び疎水性表面を持つ誘電層を備えた第１透明基板と、前記誘電層上に形成されて動作区域を分割する隔壁と、前記隔壁の内部を満たす黒色有機溶液及び水溶液と、前記隔壁の上部に形成されて第２電極パターンを持つ第２透明基板と、を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the solar battery includes: a step of applying the alcoholic solution of phosphorous acid to a p-type semiconductor substrate by the inkjet method so that the dots of the alcoholic solution of the phosphorous acid partially overlap; and a step of forming the n-type diffusion layer of a different phosphor concentration on the p-type semiconductor substrate by thermally diffusing phosphor.例文帳に追加

リン酸のアルコール溶液のドットが一部重なり合うようにリン酸のアルコール溶液をインクジェット法によりｐ型半導体基板に塗布する工程と、リンを熱拡散させることによりｐ型半導体基板上にリン濃度の異なるｎ型拡散層を形成する工程とを備えることを特徴とする太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

To provide a coating solution for forming a transparent conductive layer with excellent stability to contamination of a substrate, and wherein cohesion of a metallic fine particle does not easily take place without adding a polymer dispersing agent or a polymer resin, to provide a transparent conductive layer formed using the coating solution, and to provide a transparent conductive substrate provided with the transparent conductive layer.例文帳に追加

高分子分散剤や高分子樹脂を添加することなしに、基板の汚染に対して安定性に優れ、金属微粒子の凝集が起りにくい透明導電層形成用塗液、及びその塗液を用いて形成される透明導電層、並びにその透明導電層を備えた透明導電性基材を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the metal oxide thin metal comprises a raw material solution preparing process where metal oxides and ultra-fine particles are added into a solvent and mixed, a film forming process where the resultant raw material solution is applied to the surface of the substrate to form a film, and a baking process where the thin film dried is baked onto the substrate.例文帳に追加

本発明の金属酸化物薄膜の製造方法は、金属酸化物と超微粒子とを溶媒中に添加して混合する原料液調製工程と、この原料液を基材表面に塗布して成膜する成膜工程と、乾燥した薄膜を基材上に焼成する焼成工程と、からなることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic device 10 having a plating step for plating a metal on a resist pattern 13 provided on a substrate 11 to be plated has a coating step for previously applying a plating solution or a solvent for the plating solution on the substrate 11 to be plated under a reduced pressure atmosphere before the plating step.例文帳に追加

被めっき用基板１１上に設けられたレジストパターン１３に、金属をめっきするめっき工程を有する電子デバイス１０の製造方法において、前記めっき工程の前に、被めっき用基板１１を減圧雰囲気下で、めっき液又はめっき液の溶媒を予め塗布する塗布工程を有する電子デバイス１０の製造方法である。 - 特許庁

The solar battery manufacturing method includes a process for forming pn-junction by heating after applying a phosphoric acid aqueous solution to the main surface of a p-type crystal silicon substrate, and is characterized by forming a silicon nitride thin film on the main surface of the p-type crystal silicon substrate before being applied with the phosphoric acid aqueous solution.例文帳に追加

ｐ型結晶シリコン基板の主面上にリン酸水溶液を塗布した後に加熱することによりｐｎ接合を形成する工程を備え、前記リン酸水溶液を塗布する前に、前記ｐ型結晶シリコン基板の主面上に薄い窒化シリコン膜を形成することを特徴とする太陽電池の製造方法により、上記の課題を解決する。 - 特許庁

The nozzle assembly includes a housing, a processing solution supply line housed inside the housing and forming a plurality of flow lines through which different processing solutions flow and spray nozzles connected to respective processing solution supply lines in such a configuration that a first nozzle selected from the nozzles is directed to the substrate and the remaining nozzles excluding the first nozzle are directed away from the substrate.例文帳に追加

ノズルアセンブリーはハウジング、前記ハウジング内部に収納され、異種の処理液が流れる複数の流路を形成する処理液供給ライン、及び処理液供給ラインと各々接続され、いずれかの１つの端部が基板に向かう際、他の端部は基板から離れるように前記ハウジングの一端部から延長される噴射ノズル含む。 - 特許庁

The potassium niobate deposit 100B includes: a substrate 16; an electrode layer 15 formed above the substrate 16; a potassium niobate layer 14 or a potassium niobate solid solution layer formed above the electrode layer 15; and a lead zirconate, titanate, niobate layer 13 formed above the potassium niobate layer 14 or the potassium niobate solid solution layer.例文帳に追加

本発明に係るニオブ酸カリウム堆積体１００Ｂは、基板１６と、基板１６の上方に形成された電極層１５と、電極層１５の上方に形成された、ニオブ酸カリウム層１４またはニオブ酸カリウム固溶体層と、ニオブ酸カリウム層１４またはニオブ酸カリウム固溶体層の上方に形成された、ニオブ酸チタン酸ジルコン酸鉛層１３と、を含む。 - 特許庁

The head chip 402 is formed by setting to a reference member 602 an element substrate 604 where a discharge energy generation element array (not shown) for applying a discharge energy to a print solution is set to a flow path, a top plate 605 for forming the flow path opposite to the element substrate, and a chip tank 603 for supplying the print solution to the flow path.例文帳に追加

ヘッドチップ４０２は、プリント液に吐出エネルギーを付与する吐出エネルギー発生素子列（不図示）が流路に対して設けられた素子基板６０４と、これに対向して流路を形成する天板６０５と、流路にプリント液を供給するチップタンク６０３とが基準部材６０２に取り付けられることにより構成されている。 - 特許庁

In a substrate-cleaning processing method, where a semiconductor wafer W is dipped into a processing solution and a cleaning solution for cleaning and processing, the lower part of the wafer W is stopped once, when it comes into contact with the liquid level of pure water L when the semiconductor wafer W subjected to processing with a processing solution is immersed into an overflowing pure water L.例文帳に追加

半導体ウエハＷを垂直状態にして処理液と洗浄液に浸漬して洗浄処理する基板洗浄処理方法において、処理液での処理が終わった半導体ウエハＷを、オーバーフローする純水Ｌに浸漬する際、純水Ｌの液面と半導体ウエハＷの下部とを接触させ一旦停止する。 - 特許庁

As a result, a flow direction of the processing solution flowing through the tubular member 12 is converted, so as to be perpendicular thereto and be directed in the direction parallel to a plate surface of the substrate within the bath 1, and processing solution subjected to the direction conversion is supplied into the bath 1 through an ejection port 17 made in a flat surface 14a from a solution ejection side passage 16.例文帳に追加

これにより、管体１２内を流れる処理液の流れ方向を、それに直交して処理槽１内の基板の板面と平行な方向に向かわせるように転換し、その方向転換された処理液を液噴出側通路１６内より平坦面１４ａに開口形成した噴出口１７から処理槽１内に供給する。 - 特許庁

The chemical polishing solution for a glass substrate includes: 0.5-10 vol.% (preferably 1-8 vol.%, more preferably 2-8 vol.%) of a mixed solution composed of hydrofluoric acid and ammonium fluoride; and 20-60 vol.% of an acid solution of at least one kind selected from among hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid and acetic acid.例文帳に追加

フッ酸及びフッ化アンモニウムの混合溶液が０.５〜１０容量％（好ましくは、２〜８容量％、より好ましくは、２〜８容量％）、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸の中から選ばれた少なくとも１種類の酸溶液が２０〜６０容量％の割合で含まれていることを特徴とするガラス基板用化学研磨液。 - 特許庁

The method for producing an SiC single crystal comprises growing an SiC single crystal on an SiC seed crystal substrate 9 from a raw material solution 3 containing SiC, C and a solution component other than the two components by the solution method, and includes a process for dissolving C before the start of SiC growth and a process for replenishing SiC after the start of SiC growth.例文帳に追加

溶液法により、ＳｉＣとＣと前記２成分以外の溶液成分を含む原料溶液３からＳｉＣ種結晶基板９上にＳｉＣ単結晶を成長させる方法であって、ＳＩＣ成長開始前にはＣを溶解させる工程を有し、ＳＩＣ成長開始後にはＳｉＣを補給する工程を有する。 - 特許庁

In this manufacturing method, since acetic acid plays a role as a solvent and has proper affinity with water, precipitation hardly occurs, even if water is mixed with a colloid solution 71, and in rinsing to remove the colloid solution 71 applied to an outer circumferential portion 105 with water, after applying the colloid solution 71 on a substrate 101; and the outer circumferential portion 105 can be prevented from having a large thickness and liquid dripping.例文帳に追加

酢酸が溶媒としての役割を果たすとともに、水との親和性がよいため、水がコロイド溶液７１に混じっても沈殿が生じにくく、コロイド溶液７１を基板１０１上に塗布した後に、水で外周部１０５に塗布されたコロイド溶液７１を取り除くリンスの際に、外周部１０５の厚膜化、液だれを生じにくくできる。 - 特許庁

The etching solution is used for the stage of selectively etching the copper or the copper alloy from the electronic substrate simultaneously including the copper or the copper alloy and nickel, the solution being an etching solution for copper or a copper alloy comprising a chelating agent (A) having an acid group in a molecule, hydrogen peroxide (B), and a surfactant (C) having an oxyethylene chain in a molecule, as essential components.例文帳に追加

銅または銅合金とニッケルを同時に有する電子基板から銅または銅合金を選択的にエッチングする工程用のエッチング液であって、酸基を分子内に有するキレート剤（Ａ）、過酸化水素（Ｂ）、およびオキシエチレン鎖を分子内に有する界面活性剤（Ｃ）を必須成分とする銅または銅合金用エッチング液。 - 特許庁

Light-transmissible protective liquid 50 for forming a liquid layer for covering the luminescent reaction reagent solution which does not mix with the luminescent reaction reagent solution is supplied beforehand onto a microarray substrate 1, having a test material immobilized on the surface, on which a weir 30 for encircling the immobilizing region of the test material is arranged, and thereafter, the luminescent reaction reagent solution 51 is supplied.例文帳に追加

被検物質が表面に固定化され、前記被検物質の固定化領域を囲む堰30が配置されたマイクロアレイ基板1上に予め、発光反応試薬溶液と混和せず前記発光反応試薬溶液を覆う液層を形成する光透過性の保護液50を供給し、その後に発光反応試薬溶液51を供給する。 - 特許庁

This nanowire transfer device is equipped with a container 1 storing a solution 2 having the nanowire 3 dispersed on the surface, a barrier 4 applying mechanical pressing force for orienting the nanowire 3 in the surface of the solution 2, and a means which takes up a transfer substrate 5 having a pattern shape area 6 having the adhesiveness of the nanowire 3 on the surface from the solution 2.例文帳に追加

ナノワイヤ転写装置は、ナノワイヤ３が表面に分散された溶液２を入れる容器１と、溶液２の表面内でナノワイヤ３を配向するために機械的押圧力を印加するバリヤ４と、表面にナノワイヤ３の付着性のあるパターン状領域６を有する転写基材５を溶液２中から引き上げる手段とを備える。 - 特許庁

After the solution of each target substance is sucked by each suction member into a corresponding suction/ discharge member, with the suction/discharge member communicating with the dispensing member, the suction/discharge member is activated to dispense the target substance solution to the fixed specimen solution fixed on the substrate for specific bonding reaction.例文帳に追加

各吸引部材によりそれぞれの標的物質溶液を対応する吸引吐出部材に吸引させた後に吸引吐出部材と分注部材とを連通させた状態で吸引吐出部材を作動して基板上に固定された固定試料溶液に標的物質溶液を所定量で分注して特異結合反応させる。 - 特許庁

The method for preparing a catalyst-carried fiber structure includes: a step of manufacturing a dispersion solution which further disperses catalyst particles into a solution obtained by dissolving a fiber forming compound into a solvent; a step of spinning the dispersing solution by an electrostatic spinning process; and a step of preparing the catalyst-carried fiber structure accumulated on a collecting substrate with the spinning.例文帳に追加

繊維形成性化合物を溶媒に溶解して得た溶液に、更に触媒粒子を分散させた分散溶液を製造する段階と、前記分散溶液を静電紡糸法にて紡糸する段階と、前記紡糸によって捕集基板に累積される触媒担持繊維構造体を得る段階を含む、触媒担持繊維構造体の製造方法。 - 特許庁

The cooling efficiency of the polarized light generator can be increased by containing a solution in a region formed of a metal frame, a polarized light generating element array and a translucent substrate, further by arranging a difference in level part in contact with the solution on the frame, by efficiently transferring heat of the heated solution to the frame and by radiating the heat from the frame to the outside.例文帳に追加

金属製の基枠と偏光発生素子アレイと透光性基板とで形成される領域に溶液を収納し、さらには基枠に溶液と接触する段差部を設け、熱せられた溶液の熱を効率よく基枠に伝え、その基枠から外部に放熱することから、偏光発生装置の冷却効率を高められる。 - 特許庁

The method using an apparatus for growing the biopolymer crystal by a vapor diffusion process comprises holding a biopolymer-containing solution 11 in the void of a substrate 26 by surface tension, applying an alternating electric field to the above solution by a pair of electrodes 31 located near th void of the substrate to induce an induced dipole into the biopolymer so as to move in the solution, and thus promoting the formation of the crystal nucleus.例文帳に追加

生体高分子を蒸気拡散法によって結晶成長させる装置において、生体高分子を含有する溶液１１を表面張力により基板２６の間隙に保持し、その基板の間隙近傍に位置して対を成す電極３１によって、間隙に保持された溶液に対して交流電場を印加することで、生体高分子に誘起双極子を誘起して溶液中を移動させ、結晶核の形成を促進する。 - 特許庁

In the evernescent wave exciting fluorescence observation, a liquid layer thickness adjusting member comprising a light transmitting plate-like object is placed on the probe solution in a reaction tank provided on a waveguide substrate and the thickness of the probe solution layer is reduced to reduce background light.例文帳に追加

エバネッセント波励起蛍光観察において、導波路基板上に設けた反応槽中のプローブ溶液上に、光透過性の板状体からなる液層厚調整部材を載置し、プローブ溶液層の厚みを薄くすることにより背景光を低減する。 - 特許庁

To provide a spin coat apparatus capable of reducing nonuniformity of a film thickness generated when a viscosity of a used solution is low and increasing the film thickness without nonuniformity of the film thickness even in a solution of a low concentration in a spin coat film formation on a substrate having a recession/projection, and a spin coat method.例文帳に追加

凹凸を有する基板上へのスピンコート成膜において、使用溶液の粘度が低い場合に生じる膜厚ムラを低減し、また低濃度の溶液でも膜厚ムラの無く膜厚を増加できるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresists removing solution excellent in ability to remove residue such as a degenerated photoresist film produced after ashing and residue on etching (metal deposition) and excellent in property of preventing the corrosion of a substrate in rising with water and to provide a method for removing a photoresist using the removing solution.例文帳に追加

アッシング処理後に生じるホトレジスト変質膜、エッチング残渣物（金属デポジション）等の残渣物の剥離性に優れ、かつ、水でのリンス処理時、基板の防食性に優れるホトレジスト用剥離液およびこれを用いたホトレジスト剥離方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyamic acid solution composition which is excellent in storage stability even at a high concentration and a low viscosity, and can give a polyimide film having excellent mechanical characteristics without cracking the film by a method for coating the solution composition on a substrate to form a filmy product and then thermally treating the filmy product.例文帳に追加

高濃度且つ低粘度でも保存安定性が優れ、基材に塗布して膜状物に成形し次いで加熱処理する方法で膜のひび割れなしに機械的特性が優れたポリイミド膜を得ることができるポリアミック酸溶液組成物を提供すること。 - 特許庁

A solution, wherein a polyimide precursor material and a photocurable resin precursor having a tertiary amine are dissolved in a volatile solvent having polarity, is prepared, and after forming a film by applying the solution onto a substrate, a part of the solvent is evaporated from the film.例文帳に追加

極性を有する揮発性の溶媒に、ポリイミド前駆体の材料と、三級アミンを有する光硬化性樹脂前駆体を溶解させた溶液を作製し、この溶液を基板上に塗布することにより膜を形成した後、溶媒の一部を膜から蒸発させる。 - 特許庁