「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

[4] An aromatic liquid crystal polyester film is produced by casting the solution composition according to any one of [1]-[3] on a substrate and removing the solvent.例文帳に追加

［４］［１］〜［３］のいずれかに記載の溶液組成物を支持基板上に流延し、溶媒を除去して得られることを特徴とする芳香族液晶ポリエステルフィルム。 - 特許庁

Subsequently, the heated substrate is immersed in the plating solution for plating nickel/iron alloy during a prescribed time and the oxide film on the surface of seed is removed by etching (oxide film removing process).例文帳に追加

次に、加温された基板を、ニッケル／鉄合金をメッキするためのメッキ液に所定時間浸漬し、シード表面の酸化膜をエッチング除去する（酸化膜除去工程）。 - 特許庁

(2) A resist coated substrate, on which a resist film which is thicker than the resist layer of the predetermined thickness is formed, is manufactured by coating the surface of ITO electrode 2 with the resist solution.例文帳に追加

（２）ＩＴＯ電極２上にレジスト液を塗布して、所要の層厚のレジスト層よりも大きな厚みのレジスト膜を被着させたレジスト塗布基板を作製する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for filming a pattern of pixels, etc., more uniformly when the pattern is formed by coating a substrate with a solution by using an ink jet head.例文帳に追加

インクジェットヘッドを利用して基板に溶液を塗布して画素等のパターンを形成する際に、そのパターンをより均一に成膜するための方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

A surface of a support substrate (2) comprising through-micropassages (1) is moved and brought into contact with a pad (4) and with an aqueous solution comprising a plurality of particles (5) in a suspension state.例文帳に追加

貫通微細経路（１）を有する支持基板（２）の表面は、パッド（４）と浮遊状態の複数の粒子（５）を含む水溶液とに接触するよう移動される。 - 特許庁

In the method and the apparatus for treating the flat and fragile substrate (2), one or more substrates (2) are passed through a bath solution (14) in a horizontal state.例文帳に追加

１つ以上の基板（２）が水平通過で浴液（１４）を通して案内される、平坦な壊れやすい基板（２）を処理するための方法及び装置が記載されている。 - 特許庁

A film formed by applying a water-soluble composition for forming an optical film, onto a substrate is treated with a solution including a polyvalent metal salt and a water-soluble organic solvent.例文帳に追加

水溶性の光学膜形成用組成物を基板上に塗布して形成した膜を、多価金属塩及び水溶性有機溶媒を含む溶液で処理する。 - 特許庁

In the temporary baking step, thermal treatment is performed to thereby form an MOD film that is a precursor film of the superconductor from the solution film on the surface of the tape-like substrate.例文帳に追加

仮焼成工程では熱処理することにより、テープ状基材の表面の溶液膜から超電導体の前駆体膜であるＭＯＤ膜を形成する。 - 特許庁

To provide an anode substrate which has the long life when used as an anode for electrolysis in an electrolytic solution containing strong acid, and reduces the cost, and to provide an anode.例文帳に追加

強酸性液を電解液とする電解に陽極として用いたとき、長寿命が得られ、しかも、コストが低減できる陽極基体、および陽極を提供すること。 - 特許庁

To provide a technique which improves a production yield and covers a conductive substrate with an active reagent solution or suspension using a pad printing technique.例文帳に追加

生産歩留まりの向上を目的として、パッド印刷技法を使って導電性の基材上に活性試薬溶液または懸濁液を被覆する手法を提供する。 - 特許庁

In a conveyance step, the substrate 43 coated with the polyurethane resin solution 45 is conveyed for a prescribed time to a coagulating tank 20 while being almost horizontally supported by support rollers 48.例文帳に追加

搬送工程では、ポリウレタン樹脂溶液４５を塗布された基材４３が、支持ローラ４８で略水平に支持されながら凝固槽２０まで所定時間搬送される。 - 特許庁

This cleaning equipment comprises a pressurization vessel 1 containing a cleaned material (a semiconductor substrate 30) and cleaning the cleaned material by making it touch to a heated sulfuric acid solution 4.例文帳に追加

被洗浄材（半導体基板３０）を収容して、加熱された硫酸溶液４を前記被洗浄材に接触させて洗浄を行う加圧容器１を備える。 - 特許庁

A solution of the polyfluorene having either structure of the cyclic structure or the twin-shaped cyclic structure is dropped on a substrate modified by cleaving or grinding the surface.例文帳に追加

表面を劈開又は研磨することにより修飾した基板上に、環状構造又は双子型環状構造のいずれかの構造を有するポリフルオレン溶液を滴下する。 - 特許庁

By adding a peroxidase and a chromogenic substrate to the obtained solution and by measuring its coloring, sensitivity of measurement is improved in comparison with a conventional method.例文帳に追加

そして、この溶液にペルオキシダーゼおよび発色性基質を添加して、その発色を測定すれば、図１に示すように、従来法よりも測定感度を向上することができる。 - 特許庁

To prepare a coating solution which can efficiently produce a high- quality thin functional film excellent in adhesion to a substrate and provide an optical functional film and an antireflection film.例文帳に追加

高品質な機能性薄膜を効率よく生産することができ、且つ基材への密着性が良好なコーティング溶液、光学機能性膜及び反射防止膜フィルム。 - 特許庁

The metal polishing solution is used for chemical-mechanical planarizing a substrate for a semiconductor integrated circuit, and contains a compound expressed by formula (I).例文帳に追加

半導体集積回路用基板の化学的機械的平坦化に用いる、下記式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする金属用研磨液である。 - 特許庁

A solution of the polysilane having either structure of the cyclic structure or the twin-shaped cyclic structure is dropped on a substrate modified by cleaving or grinding the surface.例文帳に追加

表面を劈開又は研磨することにより修飾した基板上に、環状構造又は双子型環状構造のいずれかの構造を有するポリシラン溶液を滴下する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive resist composition excellent in various resist performances such as sensitivity, resolution and adhe siveness to a substrate and excellent also in wettability with an alkali develop ing solution.例文帳に追加

感度、解像度、基板への接着性などのレジスト諸性能が良好で、アルカリ現像液への濡れ性にも優れた化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Polishing solution for metal used in chemical mechanical planarization of a substrate for semiconductor integrated circuit contains an amino acid derivative represented by formula (I).例文帳に追加

半導体集積回路用基板の化学的機械的平坦化に用いられ、下記式（Ｉ）で表されるアミノ酸誘導体を含有することを特徴とする金属用研磨液。 - 特許庁

The Bi thin film is formed on a substrate at vapor deposition ratio of 0.1 to 10 μm/min by applying 1 to 100 mA current to a Bi solution by an electric plating method.例文帳に追加

常温で、電気めっき法によりＢｉ溶液に１〜１００mAの電流を印加することで、０．１〜１０μm/minの蒸着率で基板にＢｉ薄膜を形成する。 - 特許庁

The deteriorated layer left on the surface of the LaSrAlO_4 single crystal substrate is etched in a solution containing e.g. a hydrochloric acid or a nitric acid to remove it.例文帳に追加

ＬａＳｒＡ１Ｏ_４単結晶基板の表面に存在している劣化層を、例えば、塩酸もしくは硝酸等の酸を含む溶液中でエッチングし除去する。 - 特許庁

To manufacture a multilayer film product, which needs both step of a manufacturing method of a substrate and a coating step, by a solution film forming method without increasing the quantity of waste.例文帳に追加

支持体の製造工程と塗布工程との両工程を要していた複層のフィルム製品を、廃棄物量を増やすことなく、溶液製膜方法で製造する。 - 特許庁

At step 6, the substrate G_i is moved from the solution drain-off/rinse part to a first rinse part at a middle speed, and when passing through the first rinse part, a moving speed is switched to a low speed.例文帳に追加

ステップ▲６▼で、基板Ｇ_ｉは液切り／リンス部から第１リンス部まで中速で移動し、第１リンス部を通過する際に移動速度を低速に切り換える。 - 特許庁

In this color development acceleration method, a basic water-soluble compound or its aqueous solution is added to the persimmon tannin juice, and then the treated persimmon juice is coated on the coating substrate.例文帳に追加

本発明の柿渋の発色促進方法は、塩基性の水溶性化合物又はその水溶液を柿渋に添加した後、該柿渋を被塗装物に塗装する。 - 特許庁

In such a case, the contact surface of the substrate (2) is brought into contact with the contact device (7) to have potential different from that of a counter electrode (5) arranged in the bath solution (14).例文帳に追加

この場合、基板（２）の接触面は接触装置（７）と接触させられ、浴液（１４）内に配置された対向電極（５）の電位と区別されるような電位にされる。 - 特許庁

Then, a substrate 1 which has a sacrificial layer 2 and a multilayered optical thin film 5 on its surface is immersed into the solution 6 in the state that the side of the multilayered optical thin film 5 is turned down (a).例文帳に追加

そして、この溶解液の中に、犠牲層２、多層光学薄膜５を表面に有する基板１を、多層光学薄膜５側を下側にして浸漬する（ａ）。 - 特許庁

During the cleaning step, the cleaning liquid is jetted on the transparent substrate 100 at the pressure of 2-35 MPa, and the average diameter of the droplets of the cleaning solution is made 5-20 μm.例文帳に追加

洗浄工程では、洗浄液を２〜３５ＭＰａの圧力で透明基板１００に噴射させ、洗浄液の液滴の平均直径が５〜２０μｍとなっている。 - 特許庁

An SiGe layer 13 is removed by a nitrohydrofluoric solution via the groove h2, thus forming a cavity section 25 between the Si substrate 1 and the Si layer 13.例文帳に追加

そして、この溝ｈ２を介してＳｉＧｅ層１３をフッ硝酸溶液で除去することにより、Ｓｉ基板１とＳｉ層１３との間に空洞部２５を形成する。 - 特許庁

The blowing or aspirating device freely blows a treating liquid (14) onto a contact area between the contact device (7) and the substrate (2) or aspirates the solution therefrom.例文帳に追加

この吹付け又は吸引装置は、接触装置（７）と基板（２）との間の接触領域に処理液（１４）を自由に吹き付けるか又はそれから浴液を吸引する。 - 特許庁

In this thin film deposition apparatus, the solution 27 (or liquid material) containing the polymer material for film deposition is ultrasonic- oscillated and atomized, and deposited on the substrate 1.例文帳に追加

この薄膜成膜装置では、成膜用の高分子系の材料を含む溶液２７（あるいは材料液体）が超音波加振されて霧化させて基板１上に堆積される。 - 特許庁

A wiring layer using copper as a material is formed on a semiconductor substrate, and treatment is made by an aqueous solution containing acetylene alcohol, in which the number of carbon is equal to 3 to 10 for drying.例文帳に追加

半導体基板上に銅を材料とした配線層を形成し、次いで炭素数３〜１０のアセチレンアルコール類を含有する水溶液で処理した後、乾燥する。 - 特許庁

The stripping layer is formed by forming a metal film on the substrate and then forming a metal oxide film on the metal film in contact therewith by a method using solution.例文帳に追加

ここで、剥離層の形成は、基板上に金属膜を形成し、溶液を用いる方法でその金属膜上に接して金属酸化膜を形成することによって行われる。 - 特許庁

Non-electrolytic plating processing is conducted to a wiring pattern 12 provided on a base substrate 10 by utilizing a plating solution 20 including at least one of thiourea and its derivative.例文帳に追加

チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液２０を利用して、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に無電解メッキ処理を行う。 - 特許庁

A surface of the norbornene resin substrate (A) is treated with a chlorine-containing oxidizing material solution (B) before bonding the surface to an adherend.例文帳に追加

ノルボルネン系樹脂基材（Ａ）の接着面を、塩素含有酸化性物質溶液（Ｂ）にて表面処理したのち、被着体と接着するノルボルネン系樹脂基材の接着方法。 - 特許庁

In the photoresist pattern forming method, the top of a semiconductor substrate is coated with a chemical amplification type photoresist film and this photoresist film is treated with an alkail solution before exposure.例文帳に追加

フォトレジストパターン形成方法において、半導体基板上部に化学増幅型フォトレジスト膜を塗布した後、露光前にアルカリ溶液でフォトレジスト膜を処理する。 - 特許庁

To provide a polymerizable liquid crystal composition having excellent stability in a solution state, exhibiting good coating properties on a supporting substrate and having uniform homeotropic alignment properties.例文帳に追加

溶液状態において安定性に優れ、かつ支持基板上に良好な塗工性を示し、均一なホメオトロピック配向性を有する重合性液晶組成物を提供する。 - 特許庁

The composite porous membrane can be obtained by impregnating the porous substrate with a solution in which the polymer is dissolved and thereafter coagulating the polymer while stretching it.例文帳に追加

この複合多孔質膜は、前記高分子を溶解した溶液を前記多孔質基材に含浸させ、その後、該高分子を延伸させながら凝固させることで得られる。 - 特許庁

After the composition for the semiconductor electrode is applied to a conductive substrate, by treating with a TiCl_4 solution, sintering between particles at low temperature is furthermore reinforced.例文帳に追加

また、半導体電極用組成物を伝導性基板に塗布した後、ＴｉＣｌ_４溶液で後処理することによって、低温で粒子間焼結をさらに強化させる。 - 特許庁

For example, moisture-proofing treatment is performed by applying a mixed solution of a soluble fluororesin and a fluororesin on the periphery of edge surfaces of the glass substrate and birefringent material every one surface.例文帳に追加

例えば、ガラス基板と複屈折性物質の端面周辺に、片面ずつ、可溶性フッ素樹脂とフッ素樹脂との混合溶液を塗布して防湿処理する。 - 特許庁

By wet treatment using mixed solution of HF and ozone water, a (111) face of the silicon substrate is etched selectively, and configuration of the upper edge of the trench 3 is shaped.例文帳に追加

次にＨＦとオゾン水との混合液を用いたウエット処理により、シリコン基板の（１１１）面を選択的にエッチングし、トレンチ３の上部エッジの形状を整形する。 - 特許庁

Solution containing polysilazane is thinly applied on a single crystal silicon substrate 1 by a spin coat method under normal temperature/ordinary pressure, and then burnt at 600 to 800°C in a nitriding atmosphere.例文帳に追加

単結晶シリコン基板１上に、常温・常圧下でスピンコート法によりポリシラザンを含む溶液を薄く塗布した後、窒化雰囲気中において６００〜８００℃で焼成する。 - 特許庁

The rare earth-containing metal oxide thin film is deposited on the substrate using the LPD method by adding fluorine ion consumption agent into the reaction solution (selection figure (a)).例文帳に追加

上記反応溶液にフッ素イオン消費剤を添加することにより、前記基板上に希土類含有金属酸化物薄膜をＬＰＤ法により析出させる（選択図（ａ））。 - 特許庁

Before the grind process mentioned above, the glass substrate is immersed in an aqueous solution containing acrylic polymers including sulfone acid radicals, and the grind process is performed afterwards.例文帳に追加

ここで、上記研磨工程の前に、スルホン酸基を含むアクリル系ポリマーを含有する水溶液中に上記ガラス基板を浸漬させ、しかる後、上記研磨工程を行う。 - 特許庁

To provide an elution property measurement system using a piezoelectric sensor capable of continuously measuring elution property of a substrate in an aqueous solution by using the piezoelectric sensor.例文帳に追加

本発明は、圧電センサーを用いて水溶液内で連続的に基板の溶出性を測定することができる圧電センサーを用いた溶出性測定システムに関する。 - 特許庁

Also, the chromium free chemical conversion treatment film is formed by bringing the aqueous chemical conversion treatment solution into contact with the zinc or zinc alloy plating on a substrate.例文帳に追加

また、本発明は、基体上の亜鉛又は亜鉛合金めっき上に前記化成処理水溶液を接触させて形成されるクロムフリー化成皮膜を提供する。 - 特許庁