| 例文 |
substrate solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2912件
To provide a stripping solution having high cleaning performance and a long lifetime and easy to handle as a stripping solution used for reusing a conductive substrate of an organic photoreceptor by efficiently removing a photosensitive layer of the photoreceptor.例文帳に追加
有機感光体の感光層を効率よく除去し、感光体の導電性基板を再利用するために使用される剥離液であって、クリーニング性能が高く、液の寿命が長く、取り扱いが容易な剥離液を提供する。 - 特許庁
To provide a solution or dispersion type adhesive agent which is excellent in an adhesion property between a plastic substrate comprising a thermoplastic resin or especially a polyolefin resin and an another polar resin or a metal, and also excellent in solution or dispersion stability.例文帳に追加
熱可塑性樹脂、特にポリオレフィン樹脂からなるプラスチック基材と他の極性樹脂または金属との接着特性に優れ、溶液もしくは分散液安定性に優れる溶液または分散液型接着剤を提供する。 - 特許庁
The coating is carried out by successively performing the following steps A to D. (A) A step to apply a polysilazane solution to a substrate and dry the solution by evaporation; (B) a step to heat the applied film in air; (C) a step to treat with heated steam and (D) a step to treat with a gaseous amine compound containing steam.例文帳に追加
(A)基体にポリシラザン溶液を塗布し、蒸発乾燥する工程、(B)空気中で加熱処理する工程、(C)加熱水蒸気で処理する工程、(D)水蒸気を含むガス状のアミン系化合物で処理する工程。 - 特許庁
Next, an etching resist is applied onto the circuit substrate, a circuit pattern is formed by etching with iron chloride solution, unnecessary solder is removed, and two-stepped ends are formed by applying a second resist and by applying the etching with the iron chloride solution.例文帳に追加
次いで回路用基板上にエッチングレジストを塗布し、塩化鉄溶液でエッチング処理をして回路パターンを形成し、不要なろう材を除去し、2回目のレジストを塗布して、塩化鉄溶液でエッチング処理を施して端部を2段とした。 - 特許庁
Upon the immersing treatment of the substrate W, the treatment proceeds while a processing solution overflows from a processing bath 20, during which part of overflowed processing solution stays in the mechanism 30 to cause pollution substance to be deposited in the mechanism 30.例文帳に追加
基板Wの浸漬処理の際には、処理槽20から処理液を溢れ出しつつ処理を進行させるのであるが、その溢れ出た処理液の一部は支持機構30に溜まり、支持機構30に汚染物質が付着する。 - 特許庁
Immobilization of GAG is constituted of each step for adding metal ions into GAG solution (step 1), dropping and transferring the metal ion-added GAG solution onto a solid medium, such as a silica substrate (step 2), and drying it (step 3).例文帳に追加
GAGの固定化は、GAG溶液に金属イオンを添加し(Step1)、金属イオン添加GAG溶液をシリカ基板などの固体媒体上に滴下移行させ(Step2)、ついで乾燥させる(Step3)過程から構成する。 - 特許庁
Namely, the partial liquid replacement is performed based upon the treatment number of substrates W corresponding to the substrate W having thick-film large in degree of deterioration of a phosphoric acid solution, so the etching rate of the phosphoric acid solution is kept within the constant range.例文帳に追加
つまり、燐酸溶液の劣化度合いが大きな厚膜のものに相当する基板Wの処理枚数を基準にして部分液交換を実施するので、燐酸溶液のエッチングレートを一定の範囲に保持することができる。 - 特許庁
On a part on the surface or the back surface of the substrate 1 against which the air from the air knife 30 strikes, the thickness of liquid film of the cleaning solution 2 is controlled thinly and the liquid film of the cleaning solution 2 is easily removed by the air from the air knife 30.例文帳に追加
基板1の表面又は裏面のエアナイフ30からのエアが当たる部分では、洗浄液2の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフ30からのエアによって洗浄液2の液膜が容易に除去される。 - 特許庁
To provide a method for producing a photocatalytic coating solution curable in a short time at normal temperature after applying to a substrate and forming a photocatalytic coating film resistant to peeling and provide the photocatalytic coating solution.例文帳に追加
基材に塗布した後に常温硬化を短時間で行うことができて剥離しにくい光触媒コーティング膜を形成することができる光触媒性コーティング溶液の製造方法および光触媒性コーティング溶液を提供する。 - 特許庁
To uniformize and stabilize cleaning treatment and reduce the consumption of chemicals for preparing a cleaning solution in the wet cleaning of a substrate by etching using the cleaning solution in which hydrofluoric acid as an effective component is dissolved in water.例文帳に追加
有効成分としてフッ化水素酸を水に溶解した洗浄液を使用する、エッチングによる基板の湿式洗浄技術において、洗浄処理を均一・安定化とともに、洗浄液調製用薬品の消費量を低減する。 - 特許庁
This head 51 for manufacturing a micro-array is provided with a liquid reservoir member 52 for holding a solution containing an organism sample, and a needle 53 projected from and recessed into the liquid reservoir member 52 to dispose a solution stored in the liquid reservoir part 52 on the substrate 3.例文帳に追加
マイクロアレイ作製用ヘッド51は、生体試料を含む溶液を保持する液溜め部材52と、該液溜め部材52に対して出没して液溜め部52に溜められた溶液を基板3上に配置するニードル53とを備える。 - 特許庁
To provide a solution coating method and a solution coater in which a catalyst metal for crystallizing an amorphous film is applied uniformly onto a substrate in order to fabricate a semiconductor device having desired electrical characteristics with high yield.例文帳に追加
所望の電気特性を有し、かつ歩留まりの高い半導体装置を製造するため、非晶質膜を結晶化させる触媒金属を基板上に均一に添加する溶液塗布方法、および溶液塗布装置を提供する。 - 特許庁
The active carbon fiber is subjected to an electrochemical surface treatment in an acidic or an alkaline, etc., electrolytic solution, preferably in the electrolytic solution of phosphoric acid (H3PO4) or potassium carbonate (K2CO3) to introduce functional groups into the surface of the carbon substrate.例文帳に追加
活性炭素繊維を酸性またはアルカリ性等の電解溶液、好ましくは燐酸(H_3PO_4)または炭酸カリウム(K_2CO_3)電解溶液中で電気化学的な表面処理を行って炭素体の表面に官能基を導入する。 - 特許庁
The selective etching removes the damaged substrate material which exists adjacent to the laser cut region by dipping the die 30 in an ethylene diamine pyrocatechol(EDP) solution or a potassium hydroxide (KOH) solution.例文帳に追加
損傷した基板材料の選択性エッチングは、ダイをエチレン ジアミン ピロカテコール(ethylene diaminepyrocatechol:EDP)、あるいは水酸化カリウム(KOH)の溶液の中に浸し、レーザ切断領域に隣接して存在する損傷した基板材料を除去するものである。 - 特許庁
A woody fiber board 10 is produced by applying an aqueous solution (a deodorant solution) containing a deodorant eliminating odors chemically and/or physically and a perfume diffusing aroma on a substrate 12 of the woody material.例文帳に追加
木質繊維板10は、臭気を化学的および/または物理的に消臭する消臭剤と芳香を放散する香料とを含む水溶液(消臭液)を木質材からなる基板12に塗布することによって製造される。 - 特許庁
A solution of a metal organic compound having an organic metal compound containing at least one metal selected from the group consisting of tin, antimony, tantalum and niobium as a precursor solution, is applied on a supporting member such as an alumina substrate and is dried.例文帳に追加
先駆体溶液として、スズと、アンチモン、タンタル、ニオブから選ばれた少なくとも1つの金属とを含む有機金属化合物からなる金属有機化合物の溶液を、アルミナ基板等の支持体の上に塗布して乾燥させる。 - 特許庁
And, it has a process which makes the graphene sheet exfoliate into an etching solution by wet etching the surface of substrate in contact with the graphene sheet, and a process which sticks the graphene sheet which was exfoliated into the etching solution on an object.例文帳に追加
そして、グラフェンシートと接触している基板の表面を、ウエットエッチングして、グラフェンシートをエッチング溶液中に剥離させる工程と、エッチング溶液中に剥離したグラフェンシートを、対象物上に貼り付ける工程とを有する。 - 特許庁
A tubular member 12, made of quartz and having a semi-circular shaped transversal section is welded to a lower part of both sidewalls 1a along a substrate array direction, and a processing-solution supply pipe is connected to one end of a processing-solution supply line formed by the tubular member 12.例文帳に追加
基板の並び方向に沿った両側壁1aの下部に、石英製で横断面形状が半円の管体12を溶接し、管体12で形成される処理液供給路の一端側に処理液供給管を接続する。 - 特許庁
While the substrate 2 is rotated in the step of forming the resist coating film, air is discharged by an air discharging means 18 to induce an airflow 19 along the upper face of the substrate 2 in a direction from the center to the outer circumference of the substrate 2 to suppress a liquid buildup of the resist solution 13 formed in a rim portion of the substrate from moving toward the substrate center by rotation of the substrate 2.例文帳に追加
ここで、前記レジスト塗布膜を形成する工程において前記基板2が回転している間、前記基板2の上面に沿って基板2の中央側から外周方向に気流19を発生させるように排気手段18による排気を行い、基板2の回転により基板周縁部に形成されるレジスト液13の液溜まりが、基板中央方向へ移動するのを抑制する。 - 特許庁
The method of forming the fine flow channel 40 includes the processes of: forming a mask pattern 20 on a substrate 10; coating an exposed part 10a of the substrate 10 with noble metal particles 30; and forming the fine flow channel 40 on the surface of the substrate 10 by dipping the substrate 10 in an etching solution to etch the substrate 10 under the exposed part 10a of the substrate using the mask pattern 20 as a mask.例文帳に追加
基板10上にマスクパターン20を形成する工程と、貴金属微粒子30を前記基板10の露出部10aに塗布する工程と、前記基板10をエッチング溶液に浸漬して前記マスクパターン20をマスクとして前記基板の露出部10a下部の基板10をエッチングすることにより、前記基板10表面に微細流路40を形成する工程と、を含む微細流路40の形成方法である。 - 特許庁
In the application apparatus of a solution, by which a solution is discharged from a nozzle installed in a coating head 20 and is applied to a substrate 1, there are provided: a detection means 30 that detects a discharge state of the solution discharged from the nozzle of the coating head 20; and a windshield means 40 that prevents wind from entering a discharge region of the solution discharged from the nozzle of the coating head 20.例文帳に追加
塗布ヘッド20に設けたノズルから溶液を吐出させて基板1に塗布する溶液の塗布装置において、塗布ヘッド20のノズルから吐出される溶液の吐出状態を検出する検出手段30を備えるとともに、塗布ヘッド20のノズルから吐出される溶液の吐出領域への風の進入を防止する風防手段40を備えるもの。 - 特許庁
After supplying organic solution 20 to one surface of a film deposition substrate 10 (a wide solution storage region 11 and a narrow solution constriction region 12 connected thereto) supported by a temperature controllable support 1, a temperature controllable moving body 4 is moved along the surface of the support 1 while touching the organic solution 20 independently from the support 1.例文帳に追加
温度制御可能な支持体1により支持された製膜用基体10の一面(幅広の溶液蓄積領域11およびそれに連結された幅狭の溶液絞込領域12)に有機溶液20を供給したのち、支持体1とは独立して温度制御可能な移動体4を有機溶液20に接触させながら支持体1の表面に沿って移動させる。 - 特許庁
A method for producing a p-SiC semiconductor single crystal by a solution method which is a method for growing the p-SiC semiconductor single crystal on an SiC single crystal substrate from a solution formed by dissolving C in an Si melt, wherein a solution prepared further adding to the above solution Al and N in amounts satisfying the relationship: the amount of Al added>the amount of N added is used.例文帳に追加
Si融液にCを溶解させた溶液からSiC単結晶基板上にp型SiC半導体単結晶を成長させる方法において、上記溶液に更にAlおよびNを、Al添加量>N添加量の関係を満たす量で添加した溶液を用いることを特徴とする溶液法によるp型SiC半導体単結晶の製造方法。 - 特許庁
The one-dimensional chain super-structure material having the fine gel particle as the element, is produced by immersing a grooved substrate in a solution dispersed fine gel particles, pulling up the substrate at a constant speed, and arraying the fine particles along the grooves.例文帳に追加
ゲル微粒子の分散液に、溝を設けた基板を浸し定速で引き上げて溝に沿って微粒子の配列化を行うことによってゲル微粒子を素子とした一次元鎖状超構造体を製造する。 - 特許庁
To form more precise pattern by appropriately adhering and fixing the dot pattern of an injection solution to a desired location on a substrate, when forming a functional element on the substrate by utilizing an ink jet injection principle.例文帳に追加
インクジェット噴射原理を利用して機能性素子を基板上に形成する場合に、噴射溶液のドットパターンを基板上の所望の場所に正しく付着/定着させ、より高精細なパターンを形成する。 - 特許庁
Therefore, when taking out the substrate W from the inner tub 3, the substrate does not pass through an interface of a treatment liquid in the big surface tension, but passes through an interface of the low surface tension solution in low surface tension.例文帳に追加
したがって、基板Wを内槽3から搬出させる際には、表面張力が大きな処理液の界面を通過することがなく、表面張力が小さな低表面張力溶液の界面を通過する。 - 特許庁
To provide a method of cleaning a support plate, wherein the support plate stuck on a substrate to be made thin to support the substrate can be processed at low cost without producing any waste solution after cleaning.例文帳に追加
薄化される基板に貼り合わせることによって当該基板を支持するためのサポートプレートの洗浄後に廃溶液を発生させること無く、且つ安価に処理することが可能なサポートプレートの洗浄方法を実現する。 - 特許庁
Moreover, if the transparent electrode is laminated on a solid substrate using an electroconductive solution, any solid nonconductive materials can be used as a substrate material to allow versatile applications of the EL element.例文帳に追加
また,透明電極を,導電性の溶液を用いて固体基板上に積層すれば,基板素材として,あらゆる固体状の非導電性材料を用いることができ,EL素子の用途の多様化を図ることができる。 - 特許庁
A substrate-holding part 6 for holding the substrate 100 being the object of treatment, a two fluid nozzle 1, an ozone nozzle 2, an air nozzle 3, a hydrogen peroxide solution nozzle 4 and a steam nozzle 5 are arranged in the treatment chamber 7.例文帳に追加
処理チャンバ7内には、処理対象となる基板100を保持するための基板保持部6、2流体ノズル1、オゾンノズル2、エアーノズル3、過酸化水素水ノズル4およびスチームノズル5が設けられている。 - 特許庁
In the impurity diffusion method of diffusing impurities into a substrate 10, a region 18 of the substrate 10 where impurities are diffused is coated, at first, with a solution containing a mask material that prevents diffusion of impurities.例文帳に追加
基板10に不純物を拡散する不純物拡散方法では、まず、基板10において不純物を拡散すべき領域18に、不純物の拡散を防止するマスク材料を含む溶液を塗布する。 - 特許庁
A second squeegee 109 is moved as shown by an arrow 110 to apply an electronic element dispersion solution 111 over the substrate before the water vaporizes, and the water 108 and first liquid are removed from on the substrate 101 by drying.例文帳に追加
水が揮発する前に、第2スキージ109を矢印110の方向に動かすことで電子素子分散液111を基板上に塗布し、水108と第1液体を乾燥させて、基板101上から除去する。 - 特許庁
Then, an SOG solution as a raw material of an SOG film 14 for restraining a step between an upper surface of the first aluminum wiring 12 and an upper surface of the semiconductor substrate 11 is applied over the whole of the semiconductor substrate 11.例文帳に追加
次に、第1アルミ配線12の上面と半導体基板11の上面との段差を抑制するためのSOG膜14の原料であるSOG液を、半導体基板11全体に亘って塗布する。 - 特許庁
A processing solution, comprising a liquid mixture of liquid ethylene carbonate, propylene carbonate or both heated to 50 to 200°C, is brought into contact with a substrate, having an organic coated film to remove the organic coated film on the surface of the substrate.例文帳に追加
有機被膜を有する基体に、50〜200℃に加熱した液状の炭酸エチレン、炭酸プロピレンまたは両者の液状混合物からなる処理液を接触させて、基体表面の有機被膜を除去する方法。 - 特許庁
A substrate 31 and an anode 14 are dipped into the mono dispersion solution of ceramic crystal grain or electrodeposition liquid 15, and pulse current is conducted to deposit ceramic crystal grain on the substrate 31 and obtain the ceramic thin film.例文帳に追加
セラミック結晶粒子の単分散溶液である電着液15に基板31と陽極14とを浸漬し、パルス電流を通電して基板31上にセラミック結晶粒子を堆積させてセラミック薄膜を得る。 - 特許庁
A cleaning solution containing microbubbles is fed to a substrate A via a slit 19 of a cleaning head 11, and ultrasonic waves are emitted to be converged toward the slit 19, thereby cleaning the substrate A.例文帳に追加
洗浄ヘッド11のスリット19を介して基板Aに、マイクロバブルを含んだ洗浄液を供給するとともに、スリット19に向けて集束するように超音波を照射させて基板Aの洗浄を行なう。 - 特許庁
The underlayer is formed by subjecting an aluminum substrate to chemical conversion treatment with a treating solution containing phytic acid and fluotitanic acid (H2TiF6) to deposit a phytic acid-Ti coating on the surface of the aluminum substrate.例文帳に追加
アルミニウム基体をフィチン酸およびフッ化チタン酸(H_2TiF_6)を含有する処理液で化成処理することにより、前記アルミニウム基体表面にフィチン酸−Ti系化成皮膜を付着させて下地層を形成する。 - 特許庁
Additives are included in an electrolytic solution (55), which adsorb onto the wafer surface urging a higher removal rate at higher spots of a substrate surface and a lower removal rate at lower spots of the substrate surface.例文帳に追加
添加剤が電解液(55)中に含まれ、ウェーハ表面に吸着して基板表面上のより高い地点でより高い除去速度を、基板表面上のより低い地点でより低い除去速度を促す。 - 特許庁
In this manufacturing method of the ultra-thin segment, a laminated structure having at least one non-glass layer on a glass substrate is treated with a hydrofluoric acid aqueous solution to dissolve and remove the glass substrate and thereafter the non-glass layer is cut.例文帳に追加
ガラス基体上に非ガラス層を少なくとも1層有する積層構造物をフッ酸水溶液で処理して該ガラス基体を溶解除去した後、該非ガラス層を切断する超薄切片の製造方法である。 - 特許庁
Before a resist solution is applied on the surface of the substrate, the bridge structure 4 is moved by linear motors 50 and 51 in the direction of an X axis, and a gap (hereafter referred to as G1) between the sensor 42 and the surface of the substrate is detected.例文帳に追加
基板に対するレジスト液の塗布処理を開始する前に、リニアモータ50,51により、架橋構造4をX軸方向に移動させ、ギャップセンサ42による基板の表面とのギャップを検出する。 - 特許庁
To provide a method for forming a metallic film of a resin substrate, by which a surface layer of the resin substrate is removed by a short-time treatment without the necessity of disposing of a waste solution and the highly adhesive strength of a metallic film is ensured.例文帳に追加
廃液処理の必要なく短時間の処理で樹脂基板の表面層を除去し、金属膜の密着強度を高く確保することができる樹脂基板の金属膜形成方法を提供する。 - 特許庁
Developer solution which flows down from the top of the substrate W flows to the outside of the substrate hold part 1 along the slanted surfaces 13a and 17a and then is removed.例文帳に追加
基板W上から流下した現像液は環状支持部13の傾斜面13aおよび回転式保持ピン15のピン固定部17の傾斜面17aに沿って基板保持部1の外方に流し去られる。 - 特許庁
The alternating magnetic flux 114 induces a current which heats a conductive pattern 106 inside the conductive pattern 106 of the semiconductor substrate 104 while the strip solution 102 is in contact with the semiconductor substrate 104.例文帳に追加
交流の磁束114はストリップ溶液102が半導体基板104に接触している間に半導体基板104の導電性パターン106内で導電性パターン106を加熱する電流を誘導する。 - 特許庁
Consequently, the reactivity of the surface of the substrate 10 which is in contact with the oxidizing solution 22 is improved, and an insulation film which exhibits high performance even if formed thin is formed on the surface of the substrate 10.例文帳に追加
これにより、酸化性溶液22と接触する基板10の表面における反応性の向上が期待でき、その基板10の表面に極薄膜であっても高性能な絶縁膜が形成される。 - 特許庁
A large number of liquid drops of the ultraviolet curing resin solution are attached uniformly on the substrate by moving the liquid drop jet head 103 from the inner circumference of the substrate to the outer circumference to form a coating film.例文帳に追加
液滴噴射ヘッド103を基板内周側から外周側に移動させることにより基板上に紫外線硬化性樹脂溶液の液滴を多量に且つ均一に付着させて塗膜を形成する。 - 特許庁
A stuck substrate 10 is immersed in a fluoronitric acid solution charged in an immersion container 34 in a state that an SiC wafer 12 is coated with wax 19 and a sapphire substrate 21 is placed on the wax 19.例文帳に追加
貼り合せ基板10は、SiCウェハ12がワックス19で被覆され、サファイア基板21がワックス19上に載せられた状態で、浸漬容器34に充填されたフッ硝酸溶液36に浸漬される。 - 特許庁
In the method for producing a ceramic self-sustained film, a coating liquid containing a metal alkoxide is applied to a substrate, heated to 800-1,300°C and brought into contact with an acid solution to peel the resulting ceramic film from the substrate.例文帳に追加
金属アルコキシドを含有するコーティング液を基板に塗布した後、800〜1300℃に加熱し、次いで、酸溶液に接触させてセラミック膜を基板から剥離することを特徴とするセラミック自立膜の製造方法。 - 特許庁
The zirconium oxide composite is obtained by dissolving zirconium sulfate in alcohol, dipping a substrate into the solution, and forming a zirconium oxide thin film on the substrate.例文帳に追加
本発明の課題は、硫酸ジルコニウムをアルコールに溶解し、その溶液中に基材を浸漬させ、該基材上にジルコニウム酸化物薄膜を形成させることにより得られるジルコニウム酸化物複合体によって解決される。 - 特許庁
An electric double-layer capacitor is provided with an insulating substrate 1, polarizable electrodes 2a-2d arranged on the same surface of the insulating substrate 1, and an electrolytic solution impregnated into the polarizable electrodes 2a-2d.例文帳に追加
電気二重層キャパシタは、絶縁基板1と、絶縁基板1の同一表面上に配置された分極性電極2a、2b、2c、2dと、分極性電極2a、2b、2c、2dに含浸された電解液とを備える。 - 特許庁
An apatite nucleating agent consisting of calcium phosphate is fixed on the surface of a substrate of which at least the surface is hydrophilic, and then, the substrate is brought into contact with a supersaturated calcium phosphate solution to produce the apatite composite material.例文帳に追加
少なくともその表面が親水性を有する基材表面にリン酸カルシウムからなるアパタイト核形成剤が固定化された基材とリン酸カルシウム過飽和溶液を接触させてアパタイト複合体を製造する。 - 特許庁
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