「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

The process for manufacturing the glass substrate for the magnetic recording medium is characterized in that the glass substrate is polished using abrasive grains and then washed using a 0.02-0.3% aqueous hydrofluoric acid solution, The glass substrate for the magnetic recording medium is manufactured by the process.例文帳に追加

ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、０．０２〜０．３％のフッ酸水溶液を用いて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法およびこの方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板。 - 特許庁

A resist solution is dripped on a glass substrate G, the glass substrate G is rotated at high speed while being closed in a coater cup 20 to spread the resist all over the glass substrate G to thin the resist film, and after that, the cover 22 of the coater cup 20 is opened to take in outer air.例文帳に追加

ガラス基板Ｇ上にレジスト溶液を滴下し、コーターカップ２０を密閉した状態でガラス基板Ｇを高速回転してガラス基板Ｇ全体に拡散させてレジスト膜を薄膜化した後、一旦コーターカップ２０の蓋２２を開けて外気を取り入れる。 - 特許庁

When the cleaning conditions are corrected, the substrate W10 is recleaned or the next substrate W11 is cleaned after a cleaning control section 12 appropriately corrects the concentration, mixing ratio, temperature, and cleaning time of a cleaning solution SOLI in accordance with the cleanliness of the substrate W10.例文帳に追加

洗浄条件を修正する場合は、洗浄制御部１２によって、洗浄液ＳＯＬ１の濃度および混合比、温度、洗浄時間を、清浄度に応じて適宜修正した後、Ｗ１０の再洗浄、もしくは次の基板Ｗ１１の洗浄を行う。 - 特許庁

In a method of treating substrate, after a resist film was peeled from the surface of the substrate by using the mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution, a soft spraying of SC1 (NH_4OH+H_2O_2+H_2O) is performed, and supplying a jet of droplets of SC1 is performed to the surface of the substrate.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水との混合液によって基板の表面からレジスト膜が剥離された後に、ＳＣ１ソフトスプレー工程が行われて、基板の表面にＳＣ１（ＮＨ_４ＯＨ＋Ｈ_２Ｏ_２＋Ｈ_２Ｏ）の液滴の噴流が供給される。 - 特許庁

A silicon substrate 101 placed in an aqueous solution 106 containing a dissolved electrolyte free from OH group and a counter electrode 108 arranged opposite to the silicon substrate 101 are put close to each other, and then the silicon substrate 101 and the counter electrode 108 are each connected to an electric power source as the cathode and the anode, respectively.例文帳に追加

ＯＨ基を含まない電解質を溶解させた水溶液１０６中に設置したシリコン基板１０１と、対向して配置した対極１０８を近接させ、シリコン基板１０１を陰極、対極を陽極として電源に接続する。 - 特許庁

Thus, nonmetallic atoms such as oxygen atoms or the like coupled to the surface of the substrate 3 are removed by the hydrogen fluoride to expose the surface of the substrate 3, and the surface of the exposed substrate 3 is bonded to copper atoms in the mixed solution.例文帳に追加

半導体基板３の表面に結合していた酸素原子等の非金属原子が弗化水素によって除去されて半導体基板３の表面が露出し、該露出した半導体基板３の表面と上記混合水溶液中の銅原子とが結合する。 - 特許庁

After the substrate 100 is transferred to the tilting section 300, the tilting section 300 is tilted around the axis parallel to the first direction X, so that one side of the substrate 100 may be higher than the other side, to let the developing solution on the substrate 100 run off as the tilting section 300 inclines.例文帳に追加

基板１００が傾動部３００へ搬送された後、第１の方向Ｘに平行な軸を中心として基板１００の一方側が他方側よりも高くなるように傾動部３０が傾いて基板１００上の現像液が流れ落ちる。 - 特許庁

At least the substrate surface side space of pores is sealed with a sealant 6 by covering a porous substrate surface 1 having pores 2 with a sealant solution, a catalyst layer is formed on the substrate surface, and the sealant is eluted and removed.例文帳に追加

空孔２を有する多孔性基材表面１に封孔剤溶液を被覆して前記空孔の少なくとも基材表面側空間を封孔剤６で封止した後、該基材表面に触媒層７を形成し、次いで前記封孔剤を溶出除去する。 - 特許庁

In the method for producing the electrophotographic photoreceptor, an electrically conductive substrate is immersed in an anodic oxidation solution at 0-16°C and subjected to anodic oxidation.例文帳に追加

導電性支持基体を温度が０℃〜１６℃である陽極酸化処理液に浸して陽極酸化処理を施す電子写真感光体の製造方法 - 特許庁

By charging the beads into a polymer solution and dropping the same onto a glass substrate, the flocculation of the beads is prevented, and a ring-shaped metal structure having no chipping can be formed.例文帳に追加

ビーズをポリマー溶液に入れてガラス基板上に滴下することで、ビーズの凝集を防いで欠けのないリング状の金属構造を作成できる。 - 特許庁

To provide an apparatus for application which can apply a solution to a substrate so that a functional thin film having a uniform thickness can be formed thereon.例文帳に追加

この発明は基板に厚さが均一な機能性薄膜を形成できるように溶液を塗布することができるようにした塗布装置を提供することにある。 - 特許庁

After that, the mixed solution of a raw material 50 with a solvent 51 to be deposited on a substrate 8 is atomized from a main nozzle 4.例文帳に追加

その後、シリンダポンプ２の送り量を調節しながら、主ノズル４から基板８上に堆積させたい原料５０及び溶媒５１の混合液を噴霧させる。 - 特許庁

The conductive polymer solution is applied at a wet film thickness of ≥100 μm by a bar coat method, and the conductive polymer thick film is laminated on the substrate.例文帳に追加

バーコート法により、ウェット膜厚を１００μｍ以上で前記導電性高分子溶液を塗布し、前記導電性高分子厚膜を基板上に積層する。 - 特許庁

This wet lamination system of the present invention uses a lamination solution useful for a process for wet laminating a photopolymerizable film onto a circuit board panel or other substrate, as an object.例文帳に追加

本発明は、回路基板パネルまたは他の基板上に光重合性フィルムをウェットラミネートするためのプロセスに有用なラミネーション液を対象とする。 - 特許庁

To provide a resist solution application processing apparatus capable of removing contact transfer unevenness which may be generated by contact between the rear face of a substrate and the other member and drying unevenness.例文帳に追加

基板裏面と他の部材との接触によって生じる接触転写ムラ、乾燥ムラをなくすことができるレジスト液塗布処理装置を提供する。 - 特許庁

A metal colloidal solution 14 is applied by an inkjet system on a substrate 10, so that a pattern of a conductive metal portion 16 of an electronic circuit board is formed.例文帳に追加

基材１０上に金属コロイド溶液１４をインクジェット方式により塗布して、電子回路基板の導電性金属部１６のパターンを形成する。 - 特許庁

To monitor the replacement of air beneath a treated substrate with a plating solution or the generation of hazardous bubbles in a face-down electroplating treatment.例文帳に追加

フェースダウン方式の電解メッキ処理において被処理基板下のメッキ液と空気との置換状況や有害な気泡の発生状況をモニタリングすること。 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION FOR DEVELOPING PHOTOSENSITIVE RESIN, IMAGE FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING COLOR FILTER, METHOD FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE WITH COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

感光性樹脂現像用現像液、画像形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ付アクティブマトリックス基板の製造方法、及び液晶表示素子 - 特許庁

To provide an ultrasonic cleaning apparatus capable of suppressing increase of a cleaning solution for a large sized glass substrate and avoiding decrease of cleaning efficiency by ultrasonic waves.例文帳に追加

大型ガラス基板に対し、洗浄液の増加を抑え、超音波による洗浄効果の低下を生じない超音波洗浄装置を提供することにある。 - 特許庁

A metal layer 113, as an electrolytic plating film, is formed by a plating solution added by a restrainer and an accelerator on the seed layer 112 as a substrate plating.例文帳に追加

このシード層１１２を下地メッキとして、抑止剤と促進剤を添加したメッキ液によって電解めっき膜である金属層１１３を形成する。 - 特許庁

The collector 12 is provided with a heater 18 to heat a collecting face of the spinning substrate 21 to a temperature not lower than the boiling point of the solvent of the polymer solution 14.例文帳に追加

コレクタ１２には、紡糸基材２１の捕集面をポリマ溶液１４の溶媒の沸点以上の温度に加熱するためのヒータ１８を設ける。 - 特許庁

To provide the resist composition developable with an aqueous alkaline solution and capable of obtaining a positive pattern good in dimensional control free from trailing on a photomask substrate.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像でき、フォトマスク基板上で裾引きのない寸法制御性のよいポジ型パタンを現出させるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A method of chemical mechanical planarization of the substrate on the fixed abrasive grain polishing pad to which planarizing solution is dispensed, is disclosed.例文帳に追加

固定砥粒研磨パッド上に平坦化溶液が分配される、固定砥粒研磨パッド上で基板を化学機械的に平坦化する方法を開示する。 - 特許庁

A mask layer is formed on a substrate, an AlN layer is formed to cover the mask layer, and the AlN layer is lifted off by the use of a solution that is capable of etching the mask layer.例文帳に追加

また、基板上にマスク層を形成し、それを覆うようにAlN 層を形成した後、前記マスク層をエッチングできる溶液を用いてAlN 層をリフトオフする。 - 特許庁

The desmear solution for fluororesin substrate which contains oxyalkylamine and an alkali metal compound and the desmear processing method using the same are provided.例文帳に追加

オキシアルキルアミン及びアルカリ金属化合物を含む水溶液からなることを特徴とするフッ素樹脂基板用デスミア液及びそれを用いたデスミア処理方法。 - 特許庁

The platinum group metal coating material is modified to include, in solid solution, elements of the superalloy substrate, specifically nickel (Ni) and cobalt (Co).例文帳に追加

白金族金属皮膜材料は、超合金基材の元素、即ちニッケル（Ｎｉ）及びコバルト（Ｃｏ）を固溶体状態で含有するように変性した。 - 特許庁

The wiping off member support part supports the wiping off member 552 by causing the wiping off member 552 to abut on a part of the region where the substrate P placed on the stage 21 is coated with the coating solution.例文帳に追加

拭取部材支持部は、ステージ２１に載置された基板Ｐに対して塗布液が塗布された領域の一部に拭取部材５５２を当接させて支持する。 - 特許庁

This cleaning equipment (cleaning tub 10) contains a cleaned material (a semiconductor substrate 30) and cleans it with a heated sulfuric acid solution 4.例文帳に追加

被洗浄材（半導体基板３０）を収容して、加熱された硫酸溶液４で前記被洗浄材の洗浄を行う洗浄装置（洗浄槽１０）を備える。 - 特許庁

Thereafter, a copper plating film 107 is grown on the copper seed film 104 by rotating the substrate 101 at a low speed in the plating solution 106.例文帳に追加

その後、メッキ液１０６中において基板１０１を低速で回転させることにより、Ｃｕシード膜１０４の上にＣｕメッキ膜１０７を成長させる。 - 特許庁

For instance, after a resist pattern 105 is removed, a substrate 101 comprising the oscillator layer 104 including the through-hole 104a is immersed in the diluted hydrofluoric acid solution.例文帳に追加

例えば、レジストパターン１０５を除去した後、貫通孔１０４ａを備える振動子層１０４を備える基板１０１を希弗酸溶液に浸漬する。 - 特許庁

On the surface of a glass substrate, the fluorine coating film is formed using a solution containing a silane compound such as a silanol derivative having a silanol group (Si-OH group) within its molecule.例文帳に追加

基材ガラス表面に、シラン系化合物を含む溶液を用いて形成された皮膜を有するガラス部材及びその製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a heat-resistant substrate capable of sufficiently holding an electrolytic solution as a separation plate to be placed between electrically conductive members of an electric/electronic part.例文帳に追加

電機・電子部品における導電部材間の隔離板として、電解液を十分に保持することのできる耐熱性基材を提供すること。 - 特許庁

To prevent generation of unevenness in the fluorescent substance or a plasma display panel wherein a fluorescent substance solution is jetted from the nozzles and coated on a substrate panel in a manufacturing method.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの蛍光体形成において、蛍光体液をノズルから吐出させ、基板パネルに塗布する製造方法では、ムラが発生する。 - 特許庁

A molecular solution is injected to spaces 34 between these mounting substrate 30 and IC chips 11, 31, and 32 by capillarity.例文帳に追加

これらの実装基板３０およびＩＣチップ１１、３１、３２のそれぞれの間の隙間３４に分子溶液を毛細管現象により注入する。 - 特許庁

A viscous solution prior to curing (precursor liquid) for forming a layer using a light-transmitting inorganic material as a main constituent is applied onto the rear of a substrate 1.例文帳に追加

基板１の裏面に、光透過性を有する無機材料を主成分とする層を形成するための硬化前粘性溶液（前駆液）を塗布する。 - 特許庁

To prevent an internal electrode from breaking due to plating solution in an acoustic wave device where an insulator is formed on a piezoelectric substrate so as to cover an IDT electrode.例文帳に追加

ＩＤＴ電極を覆うように絶縁体を圧電基板上に形成する弾性波素子において、メッキ液による内部電極の断線を抑制すること。 - 特許庁

To improve the wetting/drying performances of an aqueous solution to/from the surface of a substrate, in which fine particles of anatase titanium modified with peroxo groups are dispersed.例文帳に追加

パーオキソ基で修飾したアナターゼ型チタン微粒子が分散した分散水溶液の基体表面への濡れ性、乾燥性を改善しようとするもの。 - 特許庁

To provide a dipping solution and a method for manufacturing siliceous film for forming a uniform siliceous film on a substrate having concaves and convexes to the inside of the concave part.例文帳に追加

凹凸を有する基板上に凹部の内部まで均一なシリカ質膜を形成させるための浸漬用溶液とそれを用いたシリカ質膜の製造法 - 特許庁

In a coating treatment unit CF, a cover film consisting of a constituent soluble into alkaline water solution is formed on the surface of a substrate W with a resist film formed thereon.例文帳に追加

塗布処理ユニットＣＦでは、レジスト膜の形成された基板Ｗの表面にアルカリ性水溶液に溶解する成分からなるカバー膜を形成する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device is characterized in that a semiconductor substrate containing Ge is cleaned with an HCL solution of 75 to 110°C.例文帳に追加

Ｇｅを含有する半導体基板を、７５℃以上１１０℃以下のＨＣｌ溶液で洗浄処理を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the method, gel is immobilized on a substrate 1 to form a spot 3, then solution 4 containing ligand is spotted on the spot 3 to immobilize the ligand on the spot 3.例文帳に追加

ゲルを基板１上に固定化してスポット３を形成してから、スポット３上にリガンドを含む溶液４をスポッティングして、リガンドをスポット３に固定化する。 - 特許庁

To provide a method for treating a copper or copper alloy substrate surface with a composition and corrosion inhibitor solution to minimize defect formation and surface corrosion.例文帳に追加

組成物及び腐食防止溶液を用いて銅又は銅合金を備える基板表面を処理して欠陥形成及び表面腐食を最少化すること。 - 特許庁

An injection port 31 for filling the electrolytic solution 14 between a negative electrode 11, and a positive electrode 12 is formed in a first glass substrate 21.例文帳に追加

第一ガラス基板２１には、負極１１と正極１２との間に電解液１４を充填するための注入口３１が形成されている。 - 特許庁

A semiconductor substrate W wet with a chemical solution such as isopropyl alcohol, on which a pattern with an aspect ratio of 10 or more is formed, is introduced into a chamber 31.例文帳に追加

表面が薬液たとえばイソプロピルアルコールで濡れ、アスペクト比１０以上のパターンが形成された半導体基板Ｗをチャンバ３１内に導入する。 - 特許庁

In this case, an insulating film is formed at one surface (solution) side of the crystal substrate 15, and etching is preferably allowed to proceed from the opening of the insulating film.例文帳に追加

ここで、結晶基板１５の一面（溶液）側に絶縁膜を形成し、その絶縁膜の開口から、エッチングを進行させることが好ましい。 - 特許庁