1153万例文収録!

「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > substrate solutionに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

substrate solutionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2912



例文

Thereafter, the processed substrate is divided into individual chips by, for example, blade dicing, and the chips are immersed in an alkali solution and are cleaned with water (steps S4 to S6).例文帳に追加

その後、例えば、ブレードダイシングを行って被処理基板をチップに個片化し、そのチップをアルカリ溶液に浸漬し、さらに水洗処理を行う(ステップS4〜S6)。 - 特許庁

A liquid drop 2 of a solution containing a functional material is applied between a plurality of pairs of respective element electrodes on a substrate 14 by a jet head 11.例文帳に追加

基板14上の複数対の各素子電極間に、機能性材料を含有する溶液の液滴2を噴射ヘッド11により付与する。 - 特許庁

To provide a method for carrying out asymmetric synthesis in an aqueous solution system in high yield with high stereoselectivity while dispensing with a step to dry a solvent and a substrate.例文帳に追加

溶媒や基質の乾燥等の工程を必要としない水溶液系での不斉合成を高い収率と立体選択性で行う方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that etching solution enters between an element separation area and a semiconductor substrate to produce a gap when a semiconductor layer is removed by wet etching.例文帳に追加

ウェットエッチングにより半導体層を除去する際、素子分離領域と半導体基板との間にエッチング溶液が入り込み、空隙が生じる。 - 特許庁

例文

In the application unit, SOG solution is applied to the SOG film which is formed by transfer on the substrate, and the SOG film is further applied (step S61: application treatment).例文帳に追加

この塗布ユニットでは、基板に転写形成されたSOG膜上にSOG液が塗布されてSOG膜をさらに塗布する(ステップS61:塗布処理)。 - 特許庁


例文

To improve the speed and the precision for calculating the discharge quantity of droplets to cope with expected demand hereafter in the application of a solution on a substrate.例文帳に追加

、基板に溶液を塗布するに際し、今後予想される要望に対応すべく、液滴の吐出量を算出する速度、精度の更なる向上を図ること。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus, etc. which can raise the temperature on the peripheral part of the substrate to be processed in a short time to heighten the efficiency of processing by a chemical solution.例文帳に追加

短時間で被処理基板の周縁部の温度を上げて薬液による処理効率を高めることが可能な液処理装置などを提供する。 - 特許庁

A specimen solution containing a nucleic acid is supplied to a specimen holding section on a substrate and the reaction and detection of the nucleic acid are carried out in the section.例文帳に追加

基板上に設けられた試料保持区画に核酸含有試料溶液を供給し、その区画内で当該核酸の反応及び検出を行う。 - 特許庁

The functional building plate has a coated surface of a substrate, on which a coating is applied, and a treating solution obtained by adding carbodihydrazide as an aldehyde capture agent, to a main ingredient of colloidal silica, is applied to the coated surface.例文帳に追加

塗装が施された基材の塗膜表面に、コロイダルシリカ主成分にアルデヒド捕捉剤としてカルボジヒドラジドを添加した処理液を塗布する。 - 特許庁

例文

This inkjet recording paper has an ink absorbing layer formed by applying a coating liquid prepared by using a solution or a dispersion mixed in advance with a polyvalent metal compound and an amino acid on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、多価金属化合物及びアミノ酸を含有するインク吸収層を有することを特徴とするインクジェット記録用紙。 - 特許庁

例文

Even if mist of the processing solution is generated in the container 50, it will not pass through a gap 70 between the substrate and a flange part 64, and it is thus shielded.例文帳に追加

容器50内で処理液のミストが発生しても、ミストは基板とつば部64、66との間の狭い隙間70を通過せず遮蔽される。 - 特許庁

To provide a spin treatment device which prevents smears or a chemical solution on the inner peripheral face of a cup from moving during treating a substrate by drying.例文帳に追加

この発明はカップの内周面の汚れや薬液が基板を乾燥処理時に転移するのを防止したスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

A rear surface cleaning nozzle 106 for supplying a cleaning solution on the rear surface of the substrate 101 is arranged inside the annular member 105.例文帳に追加

上記リング状部材105の内側に、半導体ウエハ基板101の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄ノズル105を配置する。 - 特許庁

[3] The substrate for a flexible printed circuit board is obtained by casting the solution composition on a base material on which a layer comprising a conductor is formed, and heat-treating the resultant product.例文帳に追加

[3]溶液組成物を、導体からなる層を形成する基材上に流延した後、熱処理して得られるフレキシブルプリント配線板用基板。 - 特許庁

To provide a substrate where excellent wires are formed without being broken nor short-circuiting when the wires are formed by using a dispersion solution of metal particulates.例文帳に追加

金属微粒子の分散液を用いて配線を形成する際、断線や短絡を起こさず、良好な配線を形成する基板を提供すること。 - 特許庁

To obtain a positive radiation-sensitive composition having high sensitivity, high resolution, good adhesion to a substrate, and a good affinity for an alkali developing solution.例文帳に追加

高感度と高解像度の特性を併せ持ち、さらに基板との密着性、およびアルカリ現像液との親和性の良いポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transparent conductive substrate excellent in preservation stability of precursor solution and endowed with superb conductivity in a simple coating method.例文帳に追加

前駆体液の保存安定性に優れ、簡便な塗布法にて良好な導電性を有する透明導電性基板を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The first electrode of the solution treatment equipment comprises an electrode substrate formed with an aperture and plural auxiliary electrodes attached to this aperture.例文帳に追加

液処理装置の第1の電極を、開口部が形成された電極基体とその開口部に取り付けられた複数の補助電極から構成する。 - 特許庁

The specific sites 101 of the surface- treated substrate 100 are spotted with a solution containing probe DNA treated with biotin to obtain the DNA microarray.例文帳に追加

この表面処理基板100の各特定の部位101に、ビオチン化処理したプローブDNAを含む溶液をスポットすることにより、DNAマイクロアレイを得る。 - 特許庁

The substrate on which the titanium oxide film is deposited is heated in an alkali aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide or the like.例文帳に追加

この酸化チタン薄膜が形成された基板を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ水溶液中で加熱する。 - 特許庁

This metal element-added titanium oxynitride thin film is obtained by applying a solution of the metal element-added titanium oxynitride precursor to a substrate and carrying out heat treatment.例文帳に追加

前記金属元素添加チタンオキシナイトライド前駆体溶液を基材に塗布して熱処理することにより、金属元素添加チタンオキシナイトライド薄膜を得る。 - 特許庁

A substrate is coated with an oxide semiconductor dispersing solution including an organic titanate, and thereafter the hydrolysis process is conducted.例文帳に追加

有機チタネートを含む酸化物半導体分散液を基板に塗布し、次いで加水分解処理することを特徴とする半導体電極の製造方法。 - 特許庁

Here, the nozzle 32 is moved in parallel by a prescribed amplitude so that the developing solution 33 jetted from the nozzle 32 is spread over the whole upper surface of the substrate 1.例文帳に追加

このとき、ノズル32から噴射された現像液33が基板1の上面全体にかかるように、ノズル32を所定の振幅で平行移動させる。 - 特許庁

This method of producing a PZT film comprises immersing a substrate having titanium component on the surface in an alkaline aqueous solution of (A) or (B) below in advance of the hydrothermal synthesis.例文帳に追加

水熱合成に先立って、チタン成分を表面に有する基板を下記(A)のアルカリ水溶液または下記(B)のアルカリ水溶液に浸漬する。 - 特許庁

To provide a method for immobilizing individual liposomes on a substrate with a prescribed array pattern, without changing a form of the liposome observed in a solution.例文帳に追加

溶液中で観察されるリポソームの形態を変更することなく、個々のリポソームを基板上に所定の配列パターンで固定化する方法を提供する。 - 特許庁

The silica-based coating film forming solution has excellent reactivity with a substrate due to its constitution including a nonaqueous organic solvent and a chlorosiloxane oligomer.例文帳に追加

シリカ系被膜形成用溶液は、非水系有機溶媒とクロロシロキサンオリゴマーとを含んで構成されることにより、基材との反応性に優れたものとできる。 - 特許庁

To provide a dryer capable of drying a solution on a substrate, making the shape of a luminous layer after drying uniform, and being manufactured inexpensively.例文帳に追加

基板上の溶液を乾燥させ、乾燥後の発光層の形状を均一にすることができ、しかも安価に製造することができる乾燥装置を提供する。 - 特許庁

In this moving method, the bio-molecules contained in the solution arranged between the substrate at least partly having the conductive material surface and the counter electrode is moved.例文帳に追加

少なくとも一部に導電性物質表面を有する基板と対向電極との間に配置された溶液に含まれる生体分子を移動させる方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polysilicon thin film transistor, in which the influence of impurities in a glass substrate can be prevented without wasting hydrogen fluoride solution.例文帳に追加

弗化水素溶液を使い捨てすることなく、ガラス基板中の不純物の影響が防止可能なポリシリコン薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 discharges a hydrofluoric acid solution from discharge nozzles 13 towards grooves 14 formed on sidewalls 112a and 112b of the inner chamber 11.例文帳に追加

基板処理装置1は、吐出ノズル13から内槽11の側壁112a,112bに形成された溝部14に向けてフッ酸溶液を吐出する。 - 特許庁

This sheet-like cosmetic is obtained by impregnating a sheet-like substrate with a nonaqueous solution containing (a) silicone powder having rubber elasticity and (b) an oil.例文帳に追加

(a)ゴム弾性を有するシリコーン粉体と(b)油剤とを含有する非水系の液剤を、シート状基材に含浸させてなるシート状化粧料である。 - 特許庁

The method has further the step of immersing the substrate applied with the coating, into a chemical conversion coating solution containing phosphoric acid and trivalent chromium, before or after the diffusion step.例文帳に追加

この方法はさらに、拡散ステップの前または後にコーティングが施された基板をリン酸三価クロム化成溶液中に浸漬させるステップを有する。 - 特許庁

When a metal oxide film is formed on a substrate by the liquid phase precipitation method, a polyion compound is added to the reaction solution of the liquid phase precipitation method.例文帳に追加

液相析出法により基板上に金属酸化物膜を形成する際に、液相析出法の反応溶液にポリイオン化合物を含有させる。 - 特許庁

After a coating process A of coating an intermediate layer formed on a substrate with a superconducting material solution containing fluorine, a calcination heat treatment process B is performed.例文帳に追加

基板上に形成された中間層上にフッ素を含む超電導原料溶液を塗布する塗布工程Aの後、仮焼成熱処理工程Bを施す。 - 特許庁

The defluorination treatment is performed by dipping the fluorine-contained resin substrate 2 in a metal sodium-naphthalene complex solution for 10 to 30 sec., preferably for 15 to 25 sec.例文帳に追加

脱フッ素処理は、フッ素樹脂基板2を金属ナトリウム−ナフタレン錯体溶液に10〜30秒、望ましくは15〜25秒浸漬することにより行う。 - 特許庁

The substrate is polished by the use of an abrasive containing the lanthanoid oxide and then cleaned with a cleaning solution containing an acid and a reducing agent.例文帳に追加

ランタノイド酸化物を含む研磨剤を用いて研磨した後、酸及び還元剤を含む洗浄液を用いて洗浄するガラス基板の洗浄方法。 - 特許庁

The silicon substrate is subjected to a chemical etching treatment using an etchant containing an aqueous alkali solution and a surfactant to form the irregularities on the surface thereof.例文帳に追加

シリコン基板をアルカリ水溶液と界面活性剤とを含んだエッチング液を用いて化学エッチングをすることにより、表面に凹凸を形成する。 - 特許庁

Within the chamber 100, a porous adsorbing member 102 for adsorbing a solvent in the solution evaporated during drying is arranged to oppose to the substrate P.例文帳に追加

このチャンバー100内に、乾燥時に蒸発する溶液中の溶媒を吸着する多孔質の吸着部材102を基板Pと相対向させて配置する。 - 特許庁

In a substrate processing apparatus 1, supply of pure water into an interbath pad (solution receiver) 50 is started just prior to passage of substrates W above the interbath pad 50.例文帳に追加

この基板処理装置1では、槽間バット(液受け部)50の上方における基板Wの通過直前に槽間バット50に純水の供給を開始する。 - 特許庁

The cleaning method is characterised by being provided with a process (step S23) for processing a substrate with the aqueous oxalic acid solution with a concentration of 1 to 10 % at a temperature of 30 to 50 °C.例文帳に追加

基板を濃度が1〜10%で、温度が30〜50℃の蓚酸水溶液によって処理する工程(ステップS23)を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

Then, an edge rinse solution is supplied from an edge rinse nozzle 14 to a part whose resist coating is not necessary of the edge of the substrate W so that the resist coating can be dissolved and removed.例文帳に追加

さらにエッジリンスノズル14から基板Wの端縁部のレジスト塗膜が不要な部分にエッジリンス液を供給し、レジスト塗膜を溶解除去させる。 - 特許庁

When the protein containing solution is spotted onto a substrate using a delivery mechanism having a sufficient delivery state, a high-quality protein tip is producible.例文帳に追加

吐出状態が良好な吐出機構を利用して蛋白質含有溶液を基板上にスポッティングすれば、良質なプロテインチップを作製できる。 - 特許庁

A coating solution removing head 61 is moved in the direction crossing the end fringe of the substrate 5 by the rotation of a ball screw 115 by driving a motor 113.例文帳に追加

モータ113の駆動でボールネジ115が回転することにより、塗布液除去ヘッド61は基板5の端縁と交差する方向に移動する。 - 特許庁

Then, the substrate W is placed on a spin holding part 12 and rotated by the action of a spin driving mechanism 13, and the surface of the solution film is flattened and dried.例文帳に追加

その後、基板Wをスピン保持部12に載置してスピン駆動機構13の作用により回転させ、液膜表面を平坦化させつつ乾燥させる。 - 特許庁

To deposit a plating film of a uniform film thickness in a substrate surface without changing the thickness or the kind of a conductive film, an electrolyte of a plating solution, or the like.例文帳に追加

導電膜の厚みや膜種、めっき液の電解質等を変更することなく、基板面内に均一な膜厚のめっき膜を成膜できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a porous structure that prevents a semiconductor substrate and a protecting film from being peeled off by a chemical solution used for anodization.例文帳に追加

陽極酸化処理に用いる薬液により、半導体基板と保護膜との剥離を抑制する多孔質構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the flowing of the developing solution is uniformized by the development stage 102 and the multi-stage mixing in this way and the whole surface of the wafer is covered by the developing solution with a uniform concentration, the developing speed in the substrate surface is uniformized.例文帳に追加

このような現像ステージ102と多段階攪拌により、現像液の流れ現象を均一に行えることで、ウエハ全面が均一な濃度の現像液に覆われるため、現像速度が基板面内において均一になる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the dichroic polarizing element by applying the dichroic dye-containing solution having lyotropic liquid crystal property on the substrate surface, the dichroic dye-containing solution is applied by using a felt member.例文帳に追加

基材表面上にリオトロピック液晶性を有する二色性色素含有溶液を塗布することにより製造される二色性偏光素子の製造方法であって、フェルト部材を用いて前記二色性色素含有溶液を塗布する。 - 特許庁

The method for manufacturing the porous film comprises a step to prepare a solution by dissolving a polyvinylidene fluoride resin in a solvent at 70-110°C and a step to apply the solution to a substrate and dry at 30-70°C.例文帳に追加

本発明の多孔質膜の製造方法は、ポリフッ化ビニリデン系樹脂を70℃〜110℃の温度下で溶媒に溶解して溶液を調製すること、および該溶液を支持体上に塗布した後、30℃〜70℃で乾燥させることを含む。 - 特許庁

例文

To provide a substrate processing apparatus capable of both improving the uniformity of processings by a processing solution and efficiently substituting the processing liquid stored in the processing chamber by the other processing solution.例文帳に追加

処理の状況に応じて、処理液による処理の均一性を向上させることも、処理槽の内部に貯留された処理液を他の処理液に効率よく置換させることもできる基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS