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substrate solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2912件
To provide a method for forming a thin film of a low molecular weight compound at a predetermined position on a substrate in the method for forming the thin film on the substrate by discharging a solution in which a thin film forming material is dissolved in a solvent, arranging a plurality of droplets of the solution on the substrate and evaporating the solvent from each of the droplets.例文帳に追加
薄膜形成材料が溶媒に溶解している溶液を吐出することにより、前記溶液の液滴を基板上に複数個配置し、各液滴から溶媒を蒸発させることにより前記基板上に薄膜を形成する方法において、基板上の所定位置に低分子化合物の薄膜を形成できるようにする。 - 特許庁
This method for production of a physiologically active substance-immobilized substrate includes steps of applying, to a metal substrate having a layer for immobilizing a physiologically active substrate, a solution containing a physiologically active substance capable of forming a covalent bond with a molecule constituting the layer for immobilizing a physiologically active substance, and then drying the solution.例文帳に追加
生理活性物質を固定化するための層を有する金属基板に、該生理活性物質を固定するための層を構成する分子と共有結合を形成することができる生理活性物質を含む溶液を塗布する工程、及びその後に乾燥する工程を含むことを特徴とする、生理活性物質固定基板の製造方法。 - 特許庁
This water-absorbing composite material is produced by applying an aqueous monomer solution containing mainly acrylic acid and/or its salt, as a mist state on a napped fibrous substrate by heating, to obtain the fibrous substrate carrying the aqueous monomer solution in fine particle state, and then polymerizing the monomer on the fibrous substrate.例文帳に追加
吸水性複合体を、加熱により起毛させた繊維質基材上に、アクリル酸および／またはその塩を主成分とする単量体水溶液を霧状にして塗布し、前記単量体水溶液を微細粒子状で担持させた繊維質基材を得た後、該繊維質基材上の単量体を重合させることにより製造する。 - 特許庁
A raw material solution is prepared by dissolving raw material X, Y, the raw material solution is sprayed on the surface of a substrate 1s via an atmosphere while the substrate 1s is heated, thereby, the raw material is reacted on the surface of the substrate 1s and the oxide thin film 1f including zinc-gallium multiple oxide is formed.例文帳に追加
溶媒中に原料Ｘ，Ｙを溶解することにより原料溶液を作製し、基材１ｓを熱しながら、スプレーガンの噴出口から原料溶液を雰囲気を介して基材１ｓの表面上に噴霧ことにより、基材１ｓの表面上で原料を反応させ、亜鉛−ガリウム複合酸化物を含む酸化物薄膜１ｆを形成される。 - 特許庁
The diagnostic test paper for the periodontal disease is produced by impregnating a water-absorbent substrate material with an aqueous solution of pH7 to 11, containing an LDH substrate, an LDH coenzyme, a diaphorase, a tetrazolium salt, an enzyme stabilizer and a pH buffer agent, or the aqueous solution of pH7 to 11 prepared by using a Phenazinium methylsulfate derivative instead of the diaphorase, and then drying the substrate material.例文帳に追加
歯周病診断試験紙をＬＤＨ基質、ＬＤＨ補酵素、ジアホラーゼ、テトラゾリウム塩、酵素安定化剤およびｐＨ緩衝剤を含むｐＨ７〜１１の水溶液、またはジアホラーゼの代わりにＰｈｅｎａｚｉｎｉｕｍ ｍｅｔｈｙｌｓｕｌｆａｔｅ誘導体を用いて調製したｐＨ７〜１１の水溶液を吸水性基材に浸透させた後、乾燥させることによって製造する。 - 特許庁
A semiconductor substrate 1 is immersed in a plating solution in a plating chamber 100; pressure is applied to the flow system 105 of the plating solution by a high-pressure pump 102; heat is added by heaters 103 and 104; an electric current is applied with the semiconductor substrate 1 kept at a negative electrical potential; then, a copper film is deposited on the surface of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加
めっきチャンバ１００内のめっき液に半導体基板１を浸し、めっき液の流れる系１０５に対して高圧ポンプ１０２により圧力を加え、ヒーター１０３および１０４により熱を加え、半導体基板１を負の電位に保って電流を流すことで半導体基板１の表面に銅膜を析出させる。 - 特許庁
On the glass substrate 1, through holes 5 are bored on each branch end of the slit 6, and the glass substrate 2 has four through holes 4 for injecting or discharging a solution sample on the positions corresponding to the through holes 5.例文帳に追加
ガラス基板１は、スリット６の各分岐端に貫通孔５があけられており、ガラス基板２は、貫通孔５に対応する位置に溶液試料を注入排出する貫通孔４を４つ有する。 - 特許庁
The porous metallic thin film is formed on a substrate by electrolytically plating the substrate in a liquid mixture of a plating solution and a carbon dioxide liquid in an airtight container, of which the carbon dioxide is controlled into a supercritical state.例文帳に追加
密閉容器中でめっき液と二酸化炭素液体の混合液中、二酸化炭素の超臨界状態で電解めっきを行い、基材上に多孔性金属薄膜を形成する。 - 特許庁
The apparatus for plating and planarizing a metal on a substrate is provided with a plurality of distribution segments each of which has at least one hole for distributing an electroplating solution onto the substrate.例文帳に追加
基板上の金属をメッキおよび平坦化するための装置が、複数の分配用セグメントを備えており、各セグメントは、基板上へ電気メッキ溶液を分配するための少なくとも１つの孔を有している。 - 特許庁
To make a coating solution applicable to a substrate at a predetermined interval in a state inclined at an arbitrary angle with respect to the direction crossing the advance direction of the substrate at a right angle.例文帳に追加
塗液を基材に該基材の進行方向と直交する方向に対して任意の角度に傾斜させた状態でかつ所定の間隔をもって塗布することができるようにすることである。 - 特許庁
In succession, after the main surface of a substrate 1 has been wet-cleaned, by using a neutral or mildly alkaline water solution that does not practically contain hydrogen peroxide, impurities are ion-implanted to the main surface of the substrate 1.例文帳に追加
続いて、基板１の主面を実質的に過酸化水素を含まない中性または弱アルカリ性の水溶液でウェット洗浄した後、基板１の主面に不純物をイオン注入する。 - 特許庁
The bubbles 105 which are adsorbed on the surface of a copper seed film 104 being the surface to be plated of a substrate 101 are removed by rotating the substrate 101 at a high speed in a plating solution 106.例文帳に追加
メッキ液１０６中において基板１０１を高速で回転させることにより、基板１０１の被メッキ面であるＣｕシード膜１０４の表面に吸着している気泡１０５を除去する。 - 特許庁
To provide substrate treating equipment and a substrate treating method for treating substrates uniformly without using a large quantity of treating solution, and washing sufficiently substrates after treatment.例文帳に追加
大量の処理液を使用することなく基板を均一に処理でき、かつ、処理後の基板を十分に洗浄することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A semiconductor substrate 12 is rotated, a roll brush 20 is rotated while cleaning chemical solution on which ultrasonic waves are superposed is supplied from the roll brush 20 to the semiconductor substrate 12, and polishing slurry is removed.例文帳に追加
半導体基板１２を回転させ、ロールブラシ２０から超音波を重畳した洗浄薬液を半導体基板１２に供給しながら、ロールブラシ２０を回転させて、研磨スラリーを除去する。 - 特許庁
The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, and a part or all of one or both sides composing the outer surface of this glass substrate are processed at a processing rate of 0.5-10 μm/min.例文帳に追加
化学加工液中にガラス基板を浸漬し、このガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を０．５〜１０μｍ／分の加工速度で加工する。 - 特許庁
The resist solution on the substrate is fluidized by locally enhanced interfering longitudinal waves and moved in horizontal direction by the reciprocal motion of the substrate G to planarize it.例文帳に追加
基板Ｇ上で干渉し局所的に強められた縦波により基板Ｇ上のレジスト液の流動が促され，基板Ｇの往復移動によりレジスト液が水平方向に動かされて，レジスト液が平坦化される。 - 特許庁
The substrate 6 with the surface potential imparted is immersed in the nano-sheet dispersion solution while irradiated with ultrasonic so as to deposit the titania nano-sheet on the substrate 6 to produce a nano-sheet deposition film 8.例文帳に追加
そして、表面電位が付与された基板６を、超音波を照射しながらナノシート分散溶液に浸漬し、基板６上にチタニアナノシートを堆積させ、ナノシート堆積膜８を作製する（ｃ）。 - 特許庁
As a result, wettability to a substrate G rises in the outer circumferential edges G1 to G4 of a glass substrate G and rising of application solution in an outer circumferential edge can be restrained.例文帳に追加
これによりガラス基板Ｇの外周縁部領域Ｇ１〜Ｇ４においては基板Ｇに対する濡れ性が高まり、塗布液の外周縁部に生じていた盛り上がりを抑制することができる。 - 特許庁
To provide a method for processing a semiconductor substrate which processes the semiconductor substrate with a solution having an extremely low concentration of CN^-ion to remove metallic contaminations therefrom, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
半導体基板を、ＣＮ^−イオン濃度が極低濃度の溶液で処理して、金属汚染を除去する半導体基板の処理方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The substrate for the magnetic disk is produced by subjecting a substrate consisting of inorganic material, such as glass, to plural times of an immersion treatment or scrubbing treatment under different treatment conditions using an acidic solution.例文帳に追加
磁気ディスク用基板は、ガラス等の無機材料からなる基板に対し、酸性溶液を用いて異なる処理条件下で浸漬処理又はスクラブ処理を複数回行うことによって作製される。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid while using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.例文帳に追加
高温で不安定な過酸化水素水を使用しながら、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁
By dissolving the organic compound and an acid-forming agent in a solvent and applying the obtained solution on a silicone substrate, etc., the resist material with an amorphous thin film is formed, and can be made as a resist substrate.例文帳に追加
本発明の有機化合物および酸発生剤を溶媒に溶かし、シリコン基板等の上に塗布することにより、アモルファス薄膜によるレジスト材料を形成し、レジスト基板とすることができる。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid without using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.例文帳に追加
高温で不安定な過酸化水素水を使用せずに、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁
A substrate comprising pure titanium or a titanium alloy is immersed in an alkali solution and a porous layer comprising an alkali titanate and having an irregular pore structure is formed on the surface of the substrate.例文帳に追加
純チタン又はチタン合金からなる基体をアルカリ溶液中に浸漬し、純チタン又はチタン合金からなる基体の表面に、アルカリチタン酸塩からなり不規則な孔構造を有した多孔層を形成する。 - 特許庁
A method for forming a germanium-containing silicon film comprises coating the solution containing the germanium atom-containing higher order silane compound obtained by the above method on a substrate and heat-treating the coated substrate.例文帳に追加
上記方法で得られたゲルマニウム原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるゲルマニウム含有シリコン膜の形成方法。 - 特許庁
This piezoelectric laminate 100 contains the lithium tantalate substrate 11, and the potassium niobate layer 12 or a potassium niobate solid solution formed on the surface of the lithium tantalate substrate 11.例文帳に追加
本発明に係る圧電体積層体１００は、タンタル酸リチウム基板１１と、タンタル酸リチウム基板１１の上方に形成されたニオブ酸カリウム層１２またはニオブ酸カリウム固溶体層と、を含む。 - 特許庁
To accurately and easily confirm the presence of stripe irregularities, extending in the centrifugal direction which is centered about a rotating axis on the film of a substrate, formed by the application of a coating solution and rotation of the substrate.例文帳に追加
塗布液の付与および基板の回転により形成された基板の膜上において回転軸を中心とする遠心方向に伸びる筋ムラの存在を精度よくかつ容易に確認する。 - 特許庁
To provide a composite material containing an organic polymer as a substrate material and useful as a biologically compatible material, a filter medium or the like using a compound forming method due to solution immersion hard to receive the effect of the substrate material.例文帳に追加
基材の影響を受けにくい溶液浸漬による化合物形成方法を用いて、有機ポリマーを基材として生体親和性材料、フィルター材料などに有用な複合材料を提供する。 - 特許庁
The means 80 is lowered under the state in which the cover 40 is removed from the opening section 11 of the tank 10, the substrate W is dipped in the plating solution Q, and the substrate W is plated and treated.例文帳に追加
処理槽１０の開口部１１からカバー４０を外した状態で基板保持手段８０を下降して基板Ｗをめっき液Ｑにディップして基板Ｗのめっき処理を行う。 - 特許庁
An organic EL material (a coating solution) is delivered continuously from a nozzle 4 while the nozzle 4 is being moved relatively to a substrate 1; thus the organic EL material is applied to the substrate 1 in the so-called picture drawing way with a single stroke of a brush.例文帳に追加
ノズル４から有機ＥＬ材料（塗布液）を連続的に吐出しながらノズル４と基板１とを相対移動させ、いわゆる一筆書きの要領で有機ＥＬ材料を基板１に塗布する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the film by which the polymer solution is cast and molded on the substrate, the method for manufacturing the film characterized by providing a continuous spiral channel on the surface of the substrate is provided.例文帳に追加
ポリマー溶液を支持体上に流延して成形するフィルムの製造方法において、支持体表面に連続した螺旋状の溝を設けたことを特徴とするフィルム製造方法。 - 特許庁
Thus, raw material solution L which is gradually accumulated from the base of the growing chamber 20 suppresses the substrate S to a back plate 52a, and the substrate S can be prevented from being separated from the back plate 52a.例文帳に追加
このため、成長室２０の底部から徐々に溜まってゆく原料溶液Ｌが基板Ｓを背板５２ａ側に押え付けるかたちになり、基板Ｓが背板５２ａから離隔する事態を防止できる。 - 特許庁
A substrate processing apparatus comprises a transport mechanism 1; a development processor 12 having a processing chamber 121 that supplies a substrate S with a developing solution to perform development processing; and a controller 60 for controlling them.例文帳に追加
基板処理装置は、搬送機構１と、現像液を基板Ｓに供給することにより現像処理を施す処理室１２１をもつ現像処理部１２と、これらを制御するコントローラ６０とを備える。 - 特許庁
By dipping the fluorine-contained resin substrate 2 in the metal sodium-naphthalene complex solution, the fluorine element on the surface of the substrate is removed, and at the same time, a hydrophilic property can be improved by introducing a hydroxy group.例文帳に追加
フッ素樹脂基板２を金属ナトリウム−ナフタレン錯体溶液に浸漬することにより、基板表面のフッ素元素を取り除き、ヒドロキシ基を導入することで、親水性を高めることができる。 - 特許庁
A frame body is mounted on a substrate, and a monomer solution is made to flow in and gelate under a water-vapor atmosphere and then dried after gelation, and washing under a water-vapor atmosphere to prepare the protein array substrate.例文帳に追加
基板上に枠体を載置してゲルモノマー溶液を流入させ、ゲル化を水蒸気雰囲気下で行い、次いでゲル化水洗後の乾燥を水蒸気雰囲気下で行って、タンパク質アレイ基板を作製する。 - 特許庁
To provide a metal film forming method for forming the metal film on the surface of a substrate by spraying a solution dispersed with fine metal particles on the substrate by a spray nozzle and to provide its device.例文帳に追加
基板に対して金属微粒子を分散した溶液をスプレーノズルで噴霧することによって、基板の表面に金属膜を形成する金属膜形成方法及びその装置を提供することである。 - 特許庁
The method of manufacturing the substrate for pattern formation includes forming a coating of ≥1 to <10 nm in film thickness after drying by coating a substrate with a solution containing a surface treating agent having a specific structure.例文帳に追加
基板上に、特定の構造を有する表面処理剤を含む溶液を塗布し、乾燥後膜厚が１ｎｍ以上１０ｎｍ未満である塗膜を形成するパターン形成用基板の製造方法。 - 特許庁
A transparent substrate 1 on whose one side a metal thin film 1a has been coated is immersed in a solution containing a disulfide compound having anthracene to produce the SAM 2 of the disulfide having the anthracene on the substrate.例文帳に追加
アントラセンを有するジスルフィド化合物を含有した溶液に片面に金薄膜１ａをコーティングした透明基板１を浸漬して基板上にアントラセンを有するジスルフイドのＳＡＭ２を生成させる。 - 特許庁
To provide a cleaning solution superior in removing capability for particles comprising alumina particles, silica particles or silicon nitride particles without etching a silicon substrate and a glass substrate, and capable of removing metal contamination.例文帳に追加
シリコン基板およびガラス基板をエッチングせずに、アルミナ粒子、シリカ粒子又は窒化ケイ素粒子からなる粒子の除去能力が高く、金属汚染についても除去することができる洗浄液を開発する。 - 特許庁
A method of fabricating organic and inorganic composite nanostructures on a substrate includes a step of depositing a solution having a block copolymer and an inorganic precursor on the substrate using dip pen nanolithography.例文帳に追加
本発明は、ディップペン・ナノリソグラフィを用いて、ブロックコポリマーおよび無機前駆体を有する溶液を基板上に付着させる段階を含む、基板上に有機／無機複合ナノ構造を製造する方法を含む。 - 特許庁
The solution containing a compound of zinc and tin which gives an oxide by heating is sprayed in the high temperature chamber where a substrate is set and a film containing zinc oxide and tin oxide is formed on the substrate.例文帳に追加
加熱により酸化物を与える亜鉛とスズの化合物を含む溶液を、基材をセットした高温室内にスプレーして酸化亜鉛と酸化スズとを含む薄膜を基材上に形成する。 - 特許庁
In this way, the dissolution of a resist is accelerated by setting a state where the dissolved product is easily diffused into the developing solution remaining on the surface of the substrate.例文帳に追加
これにより、溶解生成物を基板の表面に残留する現像液に拡散しやすい状態にしてレジストの溶解を促進する。 - 特許庁
The deposition is carried out by suspending the nano wires 216 in plating solution, plating the substrate with a metal layer 202, and burying the nano wires.例文帳に追加
堆積は、ナノワイヤ２１６をめっき溶液中に懸濁させ、基板を金属層２０２でめっきして、ナノワイヤを埋め込むことによって行われる。 - 特許庁
To provide a lithographic device in which exposure is performed by projection through aqueous solution less than pH 7 in contact with a substrate to be projected.例文帳に追加
露光すべき基板と接触したｐＨ７未満の水溶液を通した投射によって露光が実行されるリソグラフィック装置が提供される。 - 特許庁
Moreover, since the elecroconductive solution 14 is drained easily after examination, there will hardly be adverse effects to the substrate 11 and the insulating film 12.例文帳に追加
しかも検査後は、導電性溶液１４の除去が容易であるから、基板１１や絶縁性薄膜１２への悪影響の虞も殆どない。 - 特許庁
An etching solution is agitated in various directions in the vicinities of the front and rear surfaces 1a and 1b of the substrate 1 by rotating a plurality of agitation rollers 30.例文帳に追加
このとき、複数の攪拌ローラ３０を回転させることで、基板１の表裏面１ａ，１ｂの近傍でエッチング液を様々な方向に攪拌する。 - 特許庁
To provide substrate treatment equipment capable of preventing adverse effects of having light as a catalyst at removal of an organic matter using a removing solution.例文帳に追加
除去液を使用した有機物の除去処理時に光を触媒とした悪影響を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
In addition, plating energizing is performed as it is without pulling up the substrate from the plating solution and a soft magnetic thin film is formed on the seed surface (plating process).例文帳に追加
さらに、基板をメッキ液から引き上げることなくそのままメッキ通電を行い、シード表面に軟磁性薄膜を形成する（メッキ工程）。 - 特許庁
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