「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

A reliability-maintaining apparatus 50 is provided facing the spray head 11 for spraying a solution containing a functional material to a substrate 14 by capping a solution spray port surface of the spray head 11 and sucking.例文帳に追加

基板１４に対して機能性材料を含有した溶液を噴射する噴射ヘッド１１に対して、該噴射ヘッド１１の溶液噴射口面をキャップして吸引する信頼性維持装置５０を有する。 - 特許庁

The discharge pressure of the treatment solution is weakened at the location opposed to the discharge holes and a guide plate that introduces the treatment solution to the substrate at the lower side is provided.例文帳に追加

供給ノズルの吐出孔を、水平方向に処理液の吐出ができるように構成し、吐出孔と対向する位置に処理液の吐出圧を弱め、処理液を下方側の基板へ導く案内板を設ける。 - 特許庁

In becomes possible to prevent etching of wirings or the like by flowing the cleaning solution in order to reduce the chemical concentration in the cleaning solution down to the low degree of concentration which can prevent etching of wirings or the like on the substrate surface.例文帳に追加

洗浄液中の薬液濃度が基板表面の配線等のエッチングを生じさせない低濃度になるように洗浄液を流すことで配線等のエッチングを防止可能である。 - 特許庁

The washing device 200 is further provided with a washing solution supply mechanism 201 supplying the washing solution to the front face of the substrate, and a drain hose 206 connecting the drain port to a drain tank.例文帳に追加

洗浄装置（２００）は、基板の表側に洗浄水を供給する洗浄水供給機構（２０１）と、排水口と排水タンクとを連結する排水用ホース（２０６）と、をさらに備えている。 - 特許庁

By the water-soluble resin included in the developer solution applied on the resist film on the substrate surface, the component eluted from the resist by the development is prevented from diffusing in the developer solution.例文帳に追加

基板表面のレジスト膜上に塗布された現像液中に含まれる水溶性樹脂により、現像によってレジストから溶出した成分が現像液中で拡散することを抑制する。 - 特許庁

Thereafter, a supplement operation B1 of a hydrogen peroxide solution is rendered at a time tB1, a substrate is led into a processing solution within a processing bath to conduct the cleaning process C1 at time tC1.例文帳に追加

その後、時刻ｔＢ１において過酸化水素水の補充動作Ｂ１を行い、基板を処理槽内の処理液に導入して基板に対する洗浄処理Ｃ１を時刻ｔＣ１において行う。 - 特許庁

After a substrate 1 is coated with a precursor solution 2 containing a photosensitive polyimide resin precursor, the precursor solution 2 is previously dried to form a resin layer 3 made of the photosensitive polyimide precursor.例文帳に追加

基板１の上に、感光性ポリイミド樹脂前駆体を含む前駆体溶液２を塗工した後、その前駆体溶液２を予備乾燥して、感光性ポリイミド樹脂前駆体からなる樹脂層３を形成する。 - 特許庁

The solution coating method coats a glass substrate on which an amorphous silicon film is formed with a solution containing a catalyst metal by spin coating in a technique for crystallizing an amorphous film.例文帳に追加

溶液塗布方法は、非晶質膜を結晶化させる手法において触媒金属を含む溶液を、非晶質シリコン膜が形成されたガラス基板上にスピンコーティング法によって塗布する方法である。 - 特許庁

Further, solid matter containing components eluted from the glass substrate is separated and removed from the etching solution by adding a barium-containing solution to the etching liquid after the etching treatment.例文帳に追加

また、エッチング処理した後のエッチング液にバリウム化合物を含む溶液を添加することで、前記ガラス基板から溶出した成分を含む固形物を前記エッチング溶液から分離し、除去する。 - 特許庁

To provide an apparatus for treating a substrate in which a substrate to be carried in an inclined state can be heated uniformly and treated with a stripping solution heated to a predetermined temperature.例文帳に追加

この発明は傾斜して搬送される基板を所定の温度に加熱された剥離液に均一に加熱して処理できるようにした基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To prevent contamination and improve the quality of developing process by effectively blocking the penetration of a developing solution supplied onto the surface of a substrate to be processed from a nozzle and even to a rear side of the substrate.例文帳に追加

ノズルより被処理基板の表面に供給される現像液の基板裏面への回り込みを効果的に阻止して汚染の防止と現像工程の質の向上をはかること。 - 特許庁

To provide a substrate dipping treatment device for dipping a substrate by precisely calculating liquid chemical treating time corresponding to the concentration of a diluted solution obtained by mixing a liquid chemical with pure water.例文帳に追加

薬液と純水とを混合して得られる希釈溶液の濃度変動に応じた薬液処理時間を正確に算出して基板の漬浸処理を行う基板漬浸処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a semiconductor device, by which the deposition of foreign matter on a plated semiconductor substrate is suppressed when a plating solution is removed and the substrate is cleaned.例文帳に追加

めっき処理した半導体基板をめっき液除去および洗浄する際の異物付着を抑えることができる半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

After the surface of the silicon substrate is cleaned, the substrate is immersed in an aqueous solution HF of 0.5 vol% concentration, to remove impurities and a natural oxide film 9 on an active area 4.例文帳に追加

シリコン基板１の表面を洗浄した後、濃度０．５vol.％のＨＦ水溶液に５分間浸漬し、活性領域４上の不純物及び自然酸化膜９を除去する。 - 特許庁

The grating structure comprises: a first transparent substrate; a first transparent conductive film; a second transparent substrate; a second transparent conductive film; a solution-type electrochromic material; an isolating element; and a conductive wire layer.例文帳に追加

第一透明基板と、第一透明導電膜と、第二透明基板と、第二透明導電膜と、溶液型エレクトロクロミック材料と、分離部材と、導線層とによって構成する。 - 特許庁

To provide a substrate surface processing apparatus capable of suppressing degradation of an etching speed due to stay of a low-concentration medical solution, in a substrate surface processing apparatus of a horizontal transport method.例文帳に追加

水平搬送方式の基板表面処理装置において、低濃度薬液の滞留によるエッチング速度の低下を抑えることのできる基板表面処理装置を得ること。 - 特許庁

Through the configuration above, the possibility of producing the projection to the side face of the resonator arm can be precluded in the case of etching the part equivalent to the groove by immersing the substrate into the substrate etching solution.例文帳に追加

このような構成にすることで、基板を基板エッチング液中に浸漬して溝部に相当する部分をエッチングする際に、振動腕部の側面に突起部が発生するおそれがない。 - 特許庁

To provide a chemically treating solution imparting excellent corrosion resistance, coating substrate properties, lubricating substrate properties for plastic working or the like to various metallic surfaces and capable of easily performing non-chromium treatment.例文帳に追加

各種の金属表面に優れた耐食性、塗装下地性、塑性加工用潤滑下地性等を与え、しかも、簡易にノンクロムの処理をしうる化成処理液を提供する。 - 特許庁

A silicon substrate S is set in an anode formation system 10 by inserting a member 15 holding the silicon substrate S into a guide groove 16 provided in an electrolytic solution tank 11.例文帳に追加

電解溶液槽１１に設けられたガイド溝１６に、シリコン基板Ｓを保持した基板保持部材１５を挿入することにより、陽極化成装置１０にシリコン基板Ｓを装着する。 - 特許庁

The substrate for the organic EL display of this invention is a substrate for an organic EL display provided with an organic EL layer containing a first organic layer formed by using a first solution.例文帳に追加

本発明の有機ＥＬ表示装置用基板は、第１溶液を用いて形成される第１有機層を含む有機ＥＬ層が設けられる有機ＥＬ表示装置用基板である。 - 特許庁

To provide a substrate treatment device capable of the fractional recovery of the treatment solution to the substrate, and also capable of utilizing efficiently exhaust power, and to provide its treatment method.例文帳に追加

基板への処理液を分別回収することができ、排気用力を効率よく利用することができる基板処理装置およびその処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To allow CBD film formation to be executed without dissolving a substrate even if it is the substrate which includes a portion such that a CBD film forming device is dissolved into a CBD solution.例文帳に追加

ＣＢＤ成膜装置を、ＣＢＤ溶液に溶解してしまうような部分を含む基板であっても基板を溶解させることなくＣＢＤ成膜を実施可能なものとする。 - 特許庁

To provide a plating device to set the uniform and sufficiently large relative speed between a surface to be plated of a substrate and a plating solution over a whole area of the surface to be plated of the substrate.例文帳に追加

基板のめっき面とめっき液との相対速度を基板のめっき面の全面に亘って均一に、かつ十分に大きくできるようにしためっき装置を提供する。 - 特許庁

To prevent any ingress (or leakage) of the liquid such as the plating solution from a space between a seal ring to seal an outer circumferential part of a substrate and the substrate, a support or the like in contact with the seal ring.例文帳に追加

基板の外周部をシールするシールリングと該シールリングと接触する基板やサポート等の間からめっき液等の液体が内部に浸入しない（漏れない）ようにする。 - 特許庁

To provide a nozzle in which the occurrence of electric discharge from a processing solution to a substrate is suppressed, and which is small-size and lightweight and of which the strength is sufficiently secured, and a substrate treatment device provided with the same.例文帳に追加

処理液から基板への放電の発生が抑制されるとともに、小型かつ軽量で十分な強度が確保されたノズルおよびそれを備える基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The equipment, which prepares crystal of biopolymers contained in a solution, is equipped with a pair of convex parts 1 and 2 being positioned face to face to a substrate and on the top of the substrate.例文帳に追加

溶液中に含まれる生体高分子の結晶を調製するための装置は、基板および基板上に形成された対向する一対の凸部１および２を備える。 - 特許庁

After a required developing process time lapsed, a rinse liquid feed nozzle 40 is moved from one end of the substrate W to the other to feed a developing solution onto the entire main surface of the substrate W.例文帳に追加

所要の現像処理時間経過後、リンス液供給ノズル４０が基板Ｗの一端側から他端側に移動して、基板Ｗの主面全体に現像液を供給する。 - 特許庁

The hydrogen generating electrode is manufactured by immersing the electrode substrate with the aqueous solution of tungsten peroxide and carrying out the electro-deposition of tungsten oxide on the surface of the electrode substrate.例文帳に追加

過酸化タングステン酸水溶液に電極基材を浸漬し、電極基材の表面に酸化タングステンを電析させて電極基材を酸化タングステン膜で被覆することで製造する。 - 特許庁

The substrate for the magnetic recording medium is formed by using a polyimide film obtained by applying a solution of solvent soluble polyimide resin on a solid substrate having a smooth surface, removing the solvent and peeling the film.例文帳に追加

表面が平滑な固体基板上に溶剤可溶性ポリイミド樹脂の溶液を塗布し、脱溶媒後剥離して得られるポリイミドフィルムで形成してなる磁気記録媒体用支持体。 - 特許庁

HARD COATING FOR PLASTIC SUBSTRATE FILM, HARD COATED FILM, COATING SOLUTION, METHOD FOR FORMING HARD COATING ON PLASTIC SUBSTRATE FILM, ANTIREFLECTION FILM, HEAT RAY REFLECTION FILM, AND ULTRAVIOLET-SCREENING FILM例文帳に追加

プラスチック基材フィルム用ハードコート膜、ハードコートフィルム、コーティング溶液、プラスチック基材フィルム用ハードコート膜の形成方法、反射防止フィルム、熱線反射フィルム、及び紫外線遮蔽フィルム - 特許庁

The method for forming a phosphorus-containing silicon film comprises the coating of a substrate with a solution containing the higher order silane compound containing phosphorus atom obtained by the above method and the heat-treatment of the coated substrate.例文帳に追加

上記方法で得られたリン原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるリン含有シリコン膜の形成方法。 - 特許庁

A manufacturing method of the micro array includes a process for implementing an anodic oxidation process on a surface of a silicon substrate within a HF solution, and a process for fixing the polynucleotide on the obtained porus silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板の表面をＨＦ溶液中で陽極酸化処理する工程、及び得られたポーラスシリコン基板にポリヌクレオチドを固定化する工程を含む、マイクロアレイの製造方法。 - 特許庁

A substrate W coated with a coating solution for an antireflection film is placed on a heat treatment plate 211, and heated so that the antireflection film can be fired on the substrate W.例文帳に追加

反射防止膜用の塗布液が塗布された基板Ｗが熱処理プレート２１１上に載置されて加熱されることにより、基板Ｗ上に反射防止膜が焼成される。 - 特許庁

A substrate, on which a solution containing a compound of tin and antimony that gives an oxide by heating is coated, is heated and a thin film containing tin oxide and antimony oxide is formed on the substrate.例文帳に追加

加熱により酸化物を与えるスズとアンチモンとの化合物を含む溶液を塗布した基材を加熱して酸化スズと酸化アンチモンとを含む薄膜を基材上に形成する。 - 特許庁

To provide a plating device to set the uniform and sufficiently large relative speed between a surface to be plated of a substrate and a plating solution over a whole area of the surface to be plated of the substrate.例文帳に追加

基板のめっき面とめっき液との相対速度を基板のめっき面の全域に亘って均一に、かつ十分に大きくできるようにしためっき装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a substrate which enables good cleaning of even a thin or small-area substrate even under a sufficiently high cleaning solution spout pressure.例文帳に追加

本発明は、基板が薄厚または小面積で洗浄液噴出圧力を十分に高くすることでも、良好な洗浄が可能な基板の洗浄方法を提供するものである。 - 特許庁

The cathode 104 and the Si substrate 101 are first brought into electrical contact with each other via a first electrolyte solution 131 and the conductive partition wall 108 and the Si substrate 101 are then brought into electrical contact with each other via a second electrolyte solution 141.例文帳に追加

まず、陰電極１０４とＳｉ基板１０１とを第１の電解質溶液１３１を介して電気的に接触させると共に導電性隔壁１０８とＳｉ基板１０１とを第２の電解質溶液１４１を介して電気的に接触させる。 - 特許庁

In the manufacturing method of elements forming a thin film on a substrate, after the solution of a material constituting the thin film is frozen and deaerated, a solution of a frozen material defrosted is coated on the substrate.例文帳に追加

基板上に薄膜を形成する素子の製造方法において、上記薄膜を構成する材料の溶液を一旦凍結させて脱気した後、該凍結物を解凍した溶液を基板上に塗布して薄膜を形成することを特徴とする素子の製造方法。 - 特許庁

The aqueous solution is diluted with a lower primary alcohol such as isopropyl alcohol, and the diluted solution is applied on the surface of the substrate by a spray, etc., to improve the wetting/drying performances to/from the surface of the substrate.例文帳に追加

パーオキソ基で修飾したアナターゼ型チタン微粒子が分散した分散水溶液をイソプロピルアルコールで例示される低級第一アルコールで希釈し、このものを基材表面に例えばスプレーで塗布するようにして該基材表面への濡れ性、乾燥性を改善する。 - 特許庁

To provide a reaction kit (a reaction implement) for causing a small amount of specimen solution to efficiently and simply react with molecules fixed on a substrate without using a large amount of specimen solution even if the substrate has unevenness.例文帳に追加

本発明は、凹凸を有する基板にも多量の試料溶液を使用することなく、少量の試料溶液で効率よく基板上に固定された分子との反応を簡便に行うことが可能な反応キット（反応器具）を提供することを目的としている。 - 特許庁

The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, which is replaced with a new chemical processing solution before its quality is degraded by the increase in the number of reaction products, and a part or the whole of the surface of the substrate is processed at a polishing velocity of 10 μm/min or less.例文帳に追加

ガラス基板を化学加工液に浸漬し、反応生成物の増加により品質が劣化する前の化学加工液を新たな化学加工液に交換すると共に、ガラス基板表面の一部または全部を１０μｍ／分以下の研磨加工速度で加工する。 - 特許庁

This device comprises a means for supporting the substrate W, a nozzle 12 supplying the treating solution to the main surface of the substrate W, and a pipe 16 which is connected to the nozzle 12 and feeds the treating solution in which carbon dioxide dissolved and fine ice particles are contained, to the nozzle 12.例文帳に追加

基板Ｗを支持する手段と、基板Ｗの主面へ処理液を供給するノズル１２と、ノズル１２に接続されノズル１２へ二酸化炭素が溶解し氷の微粒子を含む処理液を送給する配管１６とを備えて装置を構成した。 - 特許庁

It is preferable that the planarizing solution do not contain abrasive grains which makes the surface layer of the substrate oxidized, without discharging a surface layer on the substrate into the solution and the fixed abrasive grain polishing pad is one, in which substantially uniformly distributed abrasive grains are fixedly adhered to the suspension medium.例文帳に追加

平坦化溶液は、基板上の表面層を溶液中に排出せずに酸化させる、砥粒を含まない平坦化溶液であることが好ましく、固定砥粒パッドは、実質的に均一な分布の砥粒が懸濁媒体に固定的に接着される。 - 特許庁

This fault detection method is for the insulating film 12 formed on the electroconductive substrate 11, and by lading the surface of insulating film 12 with the electroconductive solution 14, the electrical resistance between the electroconductive solution 14 and the substrate 11 is measured.例文帳に追加

導電性を有する基板１１の上に形成された絶縁性薄膜１２の欠陥を検出する方法であって、絶縁性薄膜１２の表面に導電性溶液１４を配し、導電性溶液１４と基板１１との間の電気抵抗を測定する。 - 特許庁

The method for immobilizing microorganisms includes a step (1) of disposing a solution containing microorganisms as an electrolytic solution on the surface of the substrate part of which is an electrode, applying constant potential to the electrode and attaching at least part of the microorganisms to the surface of the substrate.例文帳に追加

(1)少なくとも一部が電極である基板表面上に、微生物を含有する溶液を電解液として配置し、電極に定電位を印加して、微生物の少なくとも一部を基板表面に付着させる工程を含む、生きた微生物の固定化方法。 - 特許庁