「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

The carbon nanotube containing solution is filtered, then dropped onto a rotating substrate, and dried, thereby producing a carbon nanotube thin film.例文帳に追加

カーボンナノチューブ含有溶液を濾過してから回転している基板に滴下し、乾燥させることでカーボンナノチューブ薄膜を形成する。 - 特許庁

The silicon substrate 101 is etched through the aperture 104 by means of an acid or alkaline solution to form a groove 105.例文帳に追加

この開口１０４を介して、酸性又はアルカリ性溶液を用いてシリコン基板１０１をエッチングして、溝１０５を形成する。 - 特許庁

Before performing the coating for the substrate, a resist solution is applied to the trial coating surface 353a and a trial coated layer 900 is formed.例文帳に追加

基板に対する塗布処理を行う前に、試行塗布面３５３ａにレジスト液を塗布し試行塗布層９００を形成する。 - 特許庁

The substrate is then dipped in solution of pure water and hydrogen peroxide, and the side wall protective film 4 of the viahole 2a is eliminated almost perfectly.例文帳に追加

次いで、基板を純水と過酸化水素の溶液に浸して、ビアホール２ａの側壁保護膜４をほぼ完全に除去する。 - 特許庁

After a chemical solution treatment such as alkali treatment, etc., has been performed, an outer layer substrate part 15 which became unnecessary is removed.例文帳に追加

そして、エッチングやメッキ、アルカリ処理等の薬液処理を行った後に、不要となった外層基材部分１５を除去する。 - 特許庁

A (Ba, Sr)TiO_3 dielectric material film is formed on (110) alignment LiTaO_3 single crystal substrate with the chemical solution method.例文帳に追加

（１１０）面ＬｉＴａＯ_3単結晶基板上に（Ｂａ，Ｓｒ）ＴｉＯ_3誘電体膜を化学溶液法により作製する。 - 特許庁

This method also includes a cyanogen treatment step of cleaning the substrate 41 on which the conductor layer 29 is formed with a cyanogen-based solution.例文帳に追加

また、第２導体層２９が形成された基板４１をシアン系溶液を用いて洗浄するシアン処理工程を備える。 - 特許庁

Then, the antibody (or antigen) solution is introduced into the region on the surface of the piezoelectric substrate 11 to form antibody 13a and 13b.例文帳に追加

そして、圧電性基板１１の表面上に抗体（又は抗原）溶液を導入して抗体層１３ａ，１３ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a method for improving the storage stability of phenyl phosphate in solution for use as a substrate in diagnostic tests.例文帳に追加

診断試験で基質として用いるために、溶液中でのフェニルホスフェートの貯蔵安定性を改良する方法の提供。 - 特許庁

The method for modifying the surface of the glass substrate contains a process comprising cleaning the surface with an electrolyzed hydrogen peroxide solution.例文帳に追加

ガラス基板の表面改質方法は、ガラス基板を、電解処理した過酸化水素水で表面処理する工程を含む。 - 特許庁

A precursor solution of a given concentration containing ruthenium is injected toward a substrate 5 in a spray method by an injector 1.例文帳に追加

ルテニウムを含有する所定濃度の前駆体溶液を、噴射器１よりスプレー方式によって基板５に向けて噴射する。 - 特許庁

A cleaning solution containing hydrogen peroxide and amine having cyclohexane rings that serves as a skeleton is used to clean a semiconductor substrate with a metal film.例文帳に追加

過酸化水素およびシクロヘキサン環を骨格に持つアミンを含有する金属膜を有する半導体基板の洗浄液。 - 特許庁

The glass member has a film formed by using a solution containing a silanol derivative containing an amino-group on the surface of the glass substrate.例文帳に追加

基材ガラス表面に、アミノ基含有シラノール誘導体を含む溶液を用いて形成された皮膜を有するガラス部材。 - 特許庁

To prevent sensitivity from getting worse with a distortion caused by solution pressure, in a quartz oscillator with a thinned quartz substrate for a high frequency wave.例文帳に追加

水晶基板を薄くした高周波用の水晶振動子が、溶液圧による歪みで感度が低下するのを防止する。 - 特許庁

To prevent the unevenness in treatment due to a gas supply when a substrate on which a coating solution is applied is heat-treated.例文帳に追加

塗布液が塗布された基板を熱処理する際に、ガスの供給に起因した処理のばらつきが生じるのを防止する。 - 特許庁

To more appropriately perform a rinse treatment of a substrate by improving the reliability in results of measuring the mixing degree of a chemical in a rinse solution.例文帳に追加

リンス液に対する薬液の混入度合いの測定結果の信頼性を高め、基板のリンス処理をより適切に行う。 - 特許庁

A method for evaluation of the metal contamination in the semiconductor substrate includes a step of forming a roughened area on one surface out of both sides of the semiconductor substrate, a step of heating the semiconductor substrate after forming the roughened area on one surface and a step for analysis of a metal component in a solution after scanning the roughened area with the solution.例文帳に追加

半導体基板の表裏面の一方に粗面化領域を形成すること、上記粗面化領域形成後の半導体基板を加熱処理すること、および上記粗面化領域上に溶液を走査させた後、該溶液中の金属成分を分析すること、を含む半導体基板の金属汚染評価方法。 - 特許庁

A substrate treatment unit 100 has transfer rollers 30 which transfer a substrate W horizontally, a solution feeder 14 which radially feeds treatment solution in a slanted direction with respect to the substrate W being transferred, and similarly pure water feeders 24a and 24b which radially feed pure water in slanted directions.例文帳に追加

基板処理装置１００は水平状態で基板Ｗを搬送する搬送ローラ３０と、搬送される基板Ｗに対して傾斜した方向から薬液を放射状に供給する薬液供給ユニット１４、同じく傾斜方向から純水を放射状に供給する純水供給ユニット２４ａ、２４ｂを有する。 - 特許庁

This method for etching a nitride silicon layer on the surface of a substrate includes a fist step S1 of exposing the substrate surface to a oxidizing solution, to form an oxide film on the surface of the nitride silicon layer and a second step S2 of exposing the substrate surface to a fluorine- containing solution for etching the oxide film.例文帳に追加

基板表面の窒化シリコン層をエッチングする方法であって、基板表面を酸化性溶液に晒すことによって、前記窒化シリコン層表面に酸化膜を形成する第１ステップＳ１と、基板表面をフッ素含有溶液に晒すことによって、酸化膜をエッチングする第２ステップＳ２とを行うことを特徴としている。 - 特許庁

Metal impurity at the surface area of the substrate is removed by supplying a substrate processing liquid formed of alkali solution of 10 weight% or more including CyDTA (trans-1, 2-diaminocyclohexane 4 acetic acid) reaction of metal impurity dispersed into the substrate processing solution and CyDTA.例文帳に追加

ＣｙＤＴＡ（トランス−１,２−ジアミノシクロヘキサン４酢酸）を含む１０重量％以上のアルカリ溶液からなる基板処理液を基板に供給してこの基板の表面部にある金属不純物を除去し、基板処理液中に分散した金属不純物とＣｙＤＴＡとを反応させる構成とする。 - 特許庁

The manufacturing method of a solar battery cell includes: a process in which the aqueous phosphoric acid solution is jetted against the surface of a semiconductor substrate; and a process in which the semiconductor substrate on which the aqueous phosphoric acid solution is jetted is heated so that n-type impurities are diffused in the semiconductor substrate to form an n-type impurity diffusion layer.例文帳に追加

半導体基板の表面にリン酸水溶液を噴霧する工程と、リン酸水溶液が噴霧された半導体基板を加熱することにより半導体基板にｎ型不純物を拡散させてｎ型不純物拡散層を形成する工程とを含む太陽電池セルの製造方法である。 - 特許庁

In a substrate processor for a single wafer cleaning process, a process (steps S1a) of discharging an ammonia hydrogen peroxide solution- mixed aqueous solution against a substrate to be processed which is being rotated, and a process (step S2a) of intermittently discharging a hydrofluoric acid against the rotating substrate, are performed.例文帳に追加

枚葉式洗浄処理を行う基板処理装置において、処理対象となる基板を回転させつつその基板に対してアンモニア過酸化水素水混合水溶液を吐出する処理（ステップＳ１ａ）と、基板を回転させつつその基板に対してフッ酸を間欠吐出する処理（ステップＳ２ａ）とを行う。 - 特許庁

A method for forming the organic material thin film comprising a process of applying an organic material solution onto the flexible substrate 10, a process of incurvating the flexible substrate 10 so that an applied surface is the outside before the organic material solution solidifies and a process of flattening the incurvated flexible substrate 10, is provided.例文帳に追加

可撓性基板１０上に有機材料溶液を塗布する工程と、該有機材料溶液が固化する前に、上記可撓性基板１０を、塗布面が外側になるように湾曲させる工程と、湾曲させた可撓性基板１０を平坦化する工程とを含んでなる有機材料薄膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the coated steel panel having a process for spraying a coating solution containing a substance to be coated on the surface of a substrate material, a steel panel being the substrate material is vibrated when the coating solution on the surface of the substrate material during or after coating is held to a flowable state.例文帳に追加

基材の表面に被塗物を含む塗布液を噴霧して塗布する工程を有する被覆鋼板の製造方法であって、塗布中あるいは塗布後の基材の表面の塗布液が流動状態にあるときに基材鋼板を振動させることを特徴とする、被覆鋼板の製造方法。 - 特許庁

The resultant glass substrate is subjected to heat treatment, preferably concurrently including chemically strengthening treatment in a fused salt, in a heating stage 4 to relax the permanent set formed on the surface of the glass substrate 1 and then the glass substrate 1 is washed again by using an acid aqueous solution 5a and an alkaline aqueous solution 5b in a second washing stage 5.例文帳に追加

次いで、加熱工程４では加熱処理、好ましくは溶融塩中で化学強化処理を兼ねた加熱処理を行ってガラス基板１の表面に形成されている永久歪みを緩和し、その後、第２の洗浄工程５では再度酸性水溶液５ａ及びアルカリ性水溶液５ｂでガラス基板１を洗浄する。 - 特許庁

The method for manufacturing the noble-metal thin film comprises immersing the inorganic substrate into a solution of a basic organic compound containing a thiol group to form the film of the organic compound on the substrate, subsequently immersing the substrate into an acidic aqueous solution containing noble metal ions, and electrochemically reducing the ions to deposit the noble metal on the surface.例文帳に追加

無機基板を、チオール基を含む塩基性有機化合物の溶液に浸漬して基板上に該有機化合物の膜を作成し、次いでこの基板を、貴金属イオンを含む酸性水溶液に浸漬し、電気化学的に還元して貴金属を表面析出させることからなる貴金属薄膜の製造方法。 - 特許庁

The surface of a semiconductor crystal substrate 15 is brought into contact with a fluoride-containing electrolytic solution, an electrode 25 is arranged in the electrolytic solution, a voltage is applied between the electrode 25 and the crystal substrate 15, and the crystal substrate 15 is irradiated with light 18 radiating from a light source 31 to generate electron-hole pairs.例文帳に追加

半導体結晶基板１５の一面をフッ化物を含有する電解液１２に接触させ、該フッ化物を含有する電解液内に電極２５を配置し、該電極と結晶基板との間に通電すると共に結晶基板に光源３１より光１８を照射してホールと電子の対を発生する。 - 特許庁

The liquid phase epitaxial growing device 1 which epitaxially grows crystal on the lengthwise substrate S is provided with a growing chamber 20 for storing the substrate S stood against a back plate 52a lengthways and a growing solution sink 30 accumulating raw material solution L of crystal grown on the substrate.例文帳に追加

本発明の液相エピタキシャル成長装置１は、縦置きの基板Ｓに結晶をエピタキシャル成長させる装置であって、背板５２ａに立てかけた基板Ｓを縦置きに収容するための成長室２０と、基板に成長させる結晶の原料溶液Ｌを貯留する成長用溶液溜３０とを備える。 - 特許庁

The metal, fine particle is deposited on the conductive substrate from metal colloid solution selected from gold, silver, or platinum, and the conductive substrate where the metal, fine particle is deposited can be manufactured by dipping the conductive substrate into the solution of the sulfur compound having the electron-donating coloring matter molecule and/or the electron-accepting coloring matter molecule.例文帳に追加

金、銀または白金から選ばれる金属のコロイド溶液から導電性基板上に該金属の微粒子を堆積させ、金属微粒子が堆積した導電性基板を、電子供与性色素分子および／または電子受容性色素分子を有するイオウ化合物の溶液に浸漬することによって製造できる。 - 特許庁

The substrate cleaning apparatus 1 includes a carrying mechanism 2 carrying a substrate 9, a rotary brush 3 made of a material to be charged negatively through friction with the substrate 9 and removing contaminant particulates adhered to the substrate 9 when coming in contact with the substrate 9 and rotating and the first cleaning solution supplying section 6 supplying a cleaning solution containing negatively charged microbubbles toward the rotary brush 3.例文帳に追加

基板洗浄装置１は、基板９を搬送する搬送機構２と、基板９との摩擦によりマイナスに帯電する材料で形成され、基板９に接触して回転することにより基板９に付着している汚染粒子を除去する回転ブラシ３と、マイナスに帯電している微小気泡を含む洗浄液を回転ブラシ３に向けて供給する第１洗浄液供給部６と、を備える。 - 特許庁

A process for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium comprising polishing a crystallized glass substrate using abrasive grains, and then washing the substrate using an aqueous organic carboxylic acid solution; a glass substrate for a magnetic recording medium which is manufactured by the process; and a magnetic recording medium obtained using the substrate.例文帳に追加

結晶化ガラス基板を研磨砥粒を用いて研磨した後、有機カルボン酸水溶液を用いて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、その方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板およびこの基板を用いて得られる磁気記録媒体。 - 特許庁

In the coating method wherein the cylindrical substrate to be coated is dipped in the coating solution and the coated substrate is subsequently drawn up to be placed on a cylindrical substrate holding stand, the substrate after coating is moved for 3 sec or more at a speed of 0.5 m/sec or above to be placed on the cylindrical substrate holding stand.例文帳に追加

塗布用溶液中に、被塗布用の筒状基体を浸漬した後に引き上げ、次いで筒状基体保持台上に載置する塗布方法において、塗布後の基体を、０．５ｍ／秒以上の速度で３秒以上移動させた後に、筒状基体保持台上に置くことを特徴とする、塗布方法。 - 特許庁

This method for producing a metallizing substrate 6 comprises coating the surface of a ceramic substrate 1 with a treating solution containing an alloy particle constituted of a copper component and a noble metal component, baking the coated ceramic substrate to prepare a ceramic substrate 5 to which the plated catalyst nucleus 3 is stuck and forming a plated layer 4 on the ceramic substrate 5.例文帳に追加

銅成分と貴金属成分とから構成される合金粒体を含有する処理液をセラミックス基材１表面に塗付した後、焼成してメッキ触媒核３を付着したセラミックス基板５を作製し、このセラミックス基板５上にメッキ層４を設けたメタライジング基板６の製造方法にある。 - 特許庁

A metal fine particle dispersed solution is coated on the substrate 2 and dried, after the net-like first conductive layer 3 is formed on the substrate 2, the first conductive layer 3 is completely covered by the high transparent adhesion layer 7, and after the substrate 2 and a substrate to be transcribed 8 are bonded, a thermal transfer is carried out to peel the substrate 2.例文帳に追加

金属微粒子分散溶液を基材２上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層３を基材２上に形成させた後、第一導電性層３を透明性の高い接着層７で完全に覆い、前記基材２と被転写基板８とを貼り合せた後、熱転写して基材２を剥離する。 - 特許庁

A metal minute particle dispersed solution is applied to the substrate 2 and is dried up, the first conductive layer 3 is completely covered with the highly transparent adhesive layer 7 after forming the network-shaped first conductive layer 3 on the substrate 2, and the substrate 2 is exfoliated by transcribing after pasting the substrate 2 and a transcribed substrate 8.例文帳に追加

金属微粒子分散溶液を基材２上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層３を基材２上に形成させた後、第一導電性層３を透明性の高い粘着層７で完全に覆い、前記基材２と被転写基板８とを貼り合せた後、転写して基材２を剥離する。 - 特許庁

A 1st cladding layer is formed by applying a solution of 1st polyamide fluoride of a low refractive index to a substrate 50, and a 1st core layer is formed by applying a solution of 2nd polyamide fluoride of a high refractive index thereto.例文帳に追加

基板５０に低屈折率の第１フッ素化ポリイミド溶液を塗布して第１クラッド層を形成し、高屈折率の第２フッ素化ポリイミド溶液を塗布して第１コア層を形成する。 - 特許庁

Thereafter, the PEDOT solution 61 and the organic EL solution 62 are integrally solidified by drying them together with an element substrate 2; and a luminescent film 50 comprising a hole transport layer 52 and an organic EL layer 51 is formed.例文帳に追加

この後、素子基板２ごと乾燥させて、ＰＥＤＯＴ液６１および有機ＥＬ液６２を一体に固形化し、正孔輸送層５２、有機ＥＬ層５１からなる発光膜５０を形成する。 - 特許庁

When the needle 53 is projected from the liquid reservoir part 52 so that the tip of the needle 53 comes into contact with the substrate 3, the solution held at the tip of the needle 53 and the solution in the liquid reservoir member 52 are communicated with each other.例文帳に追加

ニードル５３が液溜め部５２から突出し、ニードル５３の先端が基板３に接触するとき、ニードル５３の先端に保持される溶液と液溜め部材５２内の溶液とがつながっている。 - 特許庁

To provide a cleaning system which can effectively remove an organic contaminant or the like deposited on such an electronic material substrate as a silicon wafer with a cleaning solution and can prolong the quality life of the cleaning solution.例文帳に追加

シリコンウエハなどの電子材料基板上に付着した有機汚染物などを洗浄液で効果的に除去でき、かつ洗浄液の品質寿命を長く維持できる洗浄システムを提供する。 - 特許庁

To provide a structure of preventing that the adhesion layer being the noble metal membrane substrate of an acting electrode element is exposed to come into contact with a measuring solution to thereby cause the variation of potential when measuring a solution.例文帳に追加

作用電極素子の貴金属膜下地である密着層が露出し、測定溶液と接触して溶液測定時の電位変動要因となることを防止する構造を提供すること。 - 特許庁

In the method for forming the antifouling layer by coating a solution for forming the antifouling layer containing inorganic particles on a substrate or the coating film, the solution is coated at the surface temperature of 60°C or more.例文帳に追加

基材や塗膜の表面に無機質微粒子を含む液などの防汚層形成用の液を塗布して防汚層を形成する方法において、表面温度を６０℃以上として前記液を塗布する。 - 特許庁

The etched glass substrate is immersed in a sodium hydroxide aqueous solution whose concentration is 0.05 to 3 wt.% or a potassium hydroxide aqueous solution whose concentration is 0.05 to 3 wt.%.例文帳に追加

そしてエッチング後のガラス基板を、濃度が０．０５重量％〜３重量％の水酸化ナトリウム水溶液、又は、濃度が０．０５重量％〜３重量％の水酸化カリウム水溶液に浸漬する。 - 特許庁

Also, in a method for manufacturing a transparent conductive film according to another aspect of the present invention, the copper nanostructure is added in a polymer solution, mixed and agitated, and the polymer solution is applied on a substrate and dried.例文帳に追加

また、本発明の他の一観点に係る透明導電膜の製造方法は、ポリマー溶液中に銅ナノ構造体を加えて混合及び攪拌し、ポリマー溶液を基板上に塗布し、乾燥させる。 - 特許庁

After a cleaning operation (first substrate processing) is finished, an etching solution (second processing solution) reserved in the compounding tank is supplied to a processing tank 10 to carry out an etching operation.例文帳に追加

そして、洗浄処理（第１の基板処理）の完了後、調合槽ＣＢに貯留されているエッチング用処理液（第２の処理液）が処理槽１０に供給されてエッチング処理が実行される。 - 特許庁

A high concentration boron-silicon layer 21 and a low concentration boron-silicon layer 22 are formed under the silicon insulating film 11 of an SOI substrate for producing a stencil mask and wet etching is carried out with an alkali solution such as a KOH solution.例文帳に追加

ステンシルマスク作製用のＳＯＩ基板のシリコン絶縁膜１１の下に高濃度ボロンシリコン層２１、低濃度ボロンシリコン層２２を構成して、ＫＯＨ溶液等のアルカリ溶液でウエットエッチングする。 - 特許庁