「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

As a supplement operation B1 of the hydrogen peroxide solution is conducted immediately before the cleaning process C1 of the substrate, it is possible to restrict influences due to a natural deterioration of the hydrogen peroxide solution to be minimum.例文帳に追加

過酸化水素水の補充動作Ｂ１を基板の洗浄処理Ｃ１の直前に行うので、過酸化水素水の自然劣化による影響を最小限にとどめることができる。 - 特許庁

To limit solution deterioration such as drying, oxidation, etc. of a coating solution inside the slit nozzle during standby in substrate coating methods and devices that coat coating solutions on substrates using slit nozzles.例文帳に追加

スリットノズルを用いて基板上に塗布液を塗布する基板塗布方法及び装置において、待機時間におけるスリットノズル内の塗布液の乾燥及び酸化等の液劣化を抑制する。 - 特許庁

A solvent of a high boiling point is used as the polymer solution 20, and the concentration of the polymer material is adjusted so as to level the polymer solution film 70 on the target substrate 60.例文帳に追加

ここで、ターゲット基板６０上で高分子液膜７０がレベリングを生じるように、高分子液２０には高沸点溶媒が用いられ、高分子材料の濃度が調整されている。 - 特許庁

In the method of cleaning a glass substrate for a magnetic recording medium, the solution used is a 0.01N to 1N aqueous solution of an organic acid having two or more carboxyl groups.例文帳に追加

本発明は、溶液が０．０１Ｎから１Ｎの、カルボキシル基を２つ以上有する有機酸水溶液であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板を洗浄する方法である。 - 特許庁

The nanowire 3 is adhered on the pattern shape area 6 by orienting the nanowire 3 dispersed on the surface of the solution 2 and taking up the transfer substrate 5 from the solution 2.例文帳に追加

溶液２の表面に分散されたナノワイヤ３を表面内で配向させ、転写基材５を溶液２中から引き上げることでパターン状領域６にナノワイヤ３を付着させる。 - 特許庁

A substrate W with an organic matter such as a polymer or the like attached is accommodated in a chamber 65, and a removing solution is fed from a removing-solution nozzle 75 to remove the organic matter.例文帳に追加

ポリマー等の有機物が付着した基板Ｗはチャンバ６５内に収容され、除去液ノズル７５から除去液が供給されて有機物の除去処理が行われる。 - 特許庁

When a resist film is developed by applying a developer solution on an exposed resist film formed on the surface of a substrate, the developer solution used is a mixture chemical containing a water-soluble resin.例文帳に追加

基板の表面に形成された露光後のレジスト膜上へ現像液を塗布してレジスト膜を現像処理する場合に、現像液として、水溶性樹脂を含む混合薬液を使用する。 - 特許庁

The X-ray transmissive substrate 21 is heated by a laser on an underside of a portion where the gold colloidal solution 30 is applied, so that the gold colloidal solution 30 inside the groove 22 is evaporated and desiccated.例文帳に追加

Ｘ線透過性基板２１の金コロイド溶液３０が塗布された部分の下面側をレーザにより加熱し、溝２２内の金コロイド溶液３０を蒸発及び乾燥させる。 - 特許庁

By using etching liquid comprising the mixed solution of nitric acid and hydrochloric acid and hydrochloride, or the mixed solution of hydrochloric acid and nitrate, Pt and Au deposited on a substrate are removed by etching.例文帳に追加

硝酸と塩酸塩との混合水溶液、もしくは塩酸と硝酸塩との混合水溶液からなるエッチング液を使って、基板に付着したＰｔやＡｕをエッチング除去する。 - 特許庁

The solution tank housing 32 to be placed on the substrate- holding stand 31 is provided with solution tanks 33-36 in the circumferential direction, and is equipped with the rotary axis 38 attached to the pinion 39.例文帳に追加

基板保持台３１上に載置される溶液槽収納部３２は、円周方向に溶液槽３３〜３６が設けられ、ピニオン３９が取り付けられた回転軸３８を有している。 - 特許庁

As the web 10, a cellulose triacetate substrate subjected to saponification treatment in place of formation of an undercoating layer and bearing an oriented film formed using a solution of a hydrophilic material as a coating solution 33 is employed.例文帳に追加

ウエブ１０には、下引き層を塗設するかわりに、けん化処理を施したセルローストリアセテート基材に親水性材料溶液を塗布液３３として配向膜を設けたものを用いた。 - 特許庁

The nitrogen oxides are brought into reaction with an aromatic diamino compound to acquire a product solution, and a substrate made of noble metal particulates is made to coexist in the product solution to measure surface- enhanced Raman scattering.例文帳に追加

窒素酸化物を芳香族ジアミノ化合物と反応させた生成物の溶液に、貴金属微粒子からなる基質を共存させて、表面増強ラマン散乱を測定した。 - 特許庁

METHOD OF PREPARING NICKEL-BASED LAMINATED STRUCTURE ON MAGNESIUM ALLOY SUBSTRATE, SURFACE-TREATED MAGNESIUM ALLOY PRODUCT MADE BY THE METHOD AND CLEANING SOLUTION AND SURFACE-TREATING SOLUTION USED FOR THE METHOD例文帳に追加

マグネシウム合金基板におけるニッケル系積層構造の作成方法、該方法による表面処理マグネシウム合金物及び該方法に用いる清浄溶液と表面処理溶液 - 特許庁

To provide a substrate for a microarray with excellent operability for ensuring reliability and reproducibility in hybridization and suppresses the amount of a sample solution and a reagent solution to be used.例文帳に追加

ハイブリダイゼーションにおける信頼性と再現性を確保するとともに、サンプル溶液および試薬溶液の使用量を抑制し、かつ操作性にすぐれたマイクロアレイ用基板を提供すること。 - 特許庁

To suppress deterioration in the reliability of a wiring pattern caused by the baunceback of solutions caused by a shock when the solution for a conductive pattern and the solution for an insulating pattern land on the substrate.例文帳に追加

基材上に導電パターン用溶液及び絶縁パターン用溶液が着弾した際に衝撃で発生する溶液の跳ね返りによる、配線パターンの信頼性の低下を抑制する。 - 特許庁

Sodium sulfite aqueous solution or sodium thiosulfate aqueous solution, as required, is injected into and mixed with the sludge as the substrate, and the sludge is returned to the aeration tank (3) and aeration treated, thereby cutting down the sludge.例文帳に追加

基質化した汚泥に、必要に応じて亜硫酸ナトリウム水溶液、またはチオ硫酸ナトリウム水溶液を注入して攪拌して、曝気槽（３）に戻し、曝気処理して汚泥を消化する。 - 特許庁

An ozone-feeding means (ozone gas treatment step) for applying an ozone gas to resist of a substrate, an ultraviolet-ray irradiation means (ultraviolet-ray treatment step) for irradiating the ultraviolet rays to the resist of the substrate, and an alkaline solution feeding means (alkaline solution treatment step) for applying the alkaline solution to the resist are provided.例文帳に追加

基板のレジストにオゾンガスを施すオゾンガス供給手段（オゾンガス処理工程）と、前記基板のレジストに紫外線を照射する紫外線照射手段(紫外線処理工程)と、前記レジストにアルカリ水溶液を施すアルカリ水溶液供給手段(アルカリ水溶液処理工程）とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide means which uses cleaning liquid after using is made to recrystallize by making into a cleaning liquid carbonic acid alkylene solution which is a mixed solution of an organic film, such as a resist film of substrate top for semiconductors, or substrate superiors for a liquid crystal, a propylene carbonate solution, and are reproduced.例文帳に追加

半導体用基体上または液晶用基板上等のレジスト膜等の有機被膜を炭酸エチレン溶液または炭酸エチレン溶液、炭酸プロピレン溶液の混合溶液である炭酸アルキレン溶液を洗浄液として使用後の使用済洗浄液を再結晶化させて再生させる手段を提供すること。 - 特許庁

In the method of immobilizing the physiological active substance on the substrate, the physiological active substance is dissolved in aqueous solution containing water soluble polymer to form the aqueous solution for immobilizing the physiological active substance, and the aqueous solution for immobilizing the physiological active substance is spotted on the substrate.例文帳に追加

生理活性物質を基板上に固定化する方法であって、水溶性高分子を含有する水溶液に該生理活性物質を溶解し生理活性物質固定用水溶液を作製し、該生理活性物質固定用水溶液を該基板にスポットすることを特徴とする生理活性物質固定化方法を提供する。 - 特許庁

By such a condition that the porous meal substrate is dipped in the solution with its state of the sheet 11, it is possible to clean the metal impurities uniformly without spots, and since the amount of the porous metal substrate to be dipped in the solution in a time is limited, heat generation due to chemical reaction lessens and temperature management of the solution becomes easy.例文帳に追加

こうして多孔質金属基板をシート１１の状態で溶液に浸すことで、斑無く、一様に金属不純物を洗浄することが可能となり、また同時に溶液に浸される多孔質金属板の量が限られるため、化学反応による発熱は少なく、溶液の温度管理が容易ともなる。 - 特許庁

This creatinine biosensor, being a sensor equipped with at least a work pole and an antipole forming a pair therewith on a substrate, is obtained by drying/fixing a reagent solution on an electrode and/or on the substrate on the periphery of the electrode, with the reagent solution obtained by dissolving creatininase, creatinase, sarcosine oxidase, and a mediator, in a buffer solution of pH 7 to 8.5.例文帳に追加

基板上に少なくとも一対の作用極および対極を備えたセンサにおいて、クレアチニナーゼ、クレアチナーゼ、ザルコシンオキシダーゼおよびメデイエーターをpH7〜8.5の緩衝液中に溶解させた試薬溶液を、電極上および／または電極周辺の基板上で乾燥せしめることにより固定化させたクレアチニンバイオセンサ。 - 特許庁

To provide a method of treating a washing aqueous solution for removing metal ions eluted into the washing aqueous solution from the piping of a washing apparatus without specifying eluted ions and replacing the piping, in the treatment of the aqueous solution used for washing a metal substrate, especially an aluminum substrate used for manufacturing magnetic recording medium.例文帳に追加

金属基板、特には磁気記録媒体の製造に用いるアルミニウム基板の洗浄に用いる水溶液の処理において、洗浄用水溶液に洗浄装置の配管から溶出する金属イオンを、溶出イオンを特定せず、また配管を交換することなく除去する水溶液の処理方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a simple and rational liquid phase growing method which can realize relative up/down movement between a substrate and a solution for immersing the substrate into the solution under a high temperature and highly active environment without using a mechanical operation member liable to deteriorate in the vicinity of the high temperature solution; and to provide a liquid phase growing apparatus.例文帳に追加

高温、且つ活性度の高い環境下で基板を溶液に浸漬するための基板と溶液との相対的な上下動を、劣化しやすい機械的な動作部材を高温の溶液近辺に用いることなく実現し、簡便で合理的な液相成長方法及び液相成長装置を提供すること。 - 特許庁

Provided is the method for manufacturing the substrate for the mask blank in which a low thermal expansion glass substrate containing titanium (Ti) oxide is polished using a polishing agent, then treated using an aqueous solution containing hydrofluoric acid, then cleaned using an acidic solution with a pH of 4 or less, and then further cleaned using an alkaline solution.例文帳に追加

チタン（Ｔｉ）の酸化物を含有する低熱膨張ガラス基板を研磨剤により研磨した後、フッ酸を含む水溶液を用いて処理し、次いでｐＨが４以下の酸性溶液を用いて洗浄処理し、更にアルカリ性溶液を用いて洗浄処理することによるマスクブランク用基板の製造方法である。 - 特許庁

In the particulate deposition method, a particulate dispersion solution 30 is applied to the surface of the substrate 10 to form a particulate dispersion solution layer, and then a state with a meniscus-forming means 20 brought into contact with the particulate dispersion solution layer is formed, to obtain a particulate deposition layer 32 in which particulates 31 are oriented with respect to the surface of the substrate 10.例文帳に追加

微粒子堆積方法は、微粒子分散溶液３０を基体１０上に塗布して微粒子分散溶液層を形成した後、メニスカス形成手段２０を該微粒子分散溶液層に接触した状態とし、以て、基体１０表面に対して微粒子３１が配向した状態の微粒子堆積層３２を得る。 - 特許庁

The doping method comprises: a stage where a solid surface is formed on a substrate; a stage where a dopant solution is made adjacent to the solid surface via a hollow member holding the dopant solution; and a stage where, with the substrate as either electrode, voltage is applied to the dopant solution, and the dopant is doped to the solid into a pattern shape.例文帳に追加

基板上に固体の表面を形成する工程と、ドーパント溶液を保持した中空部材を介してドーパント溶液を固体の表面に隣接させる工程と、基板を一方の電極として前記ドーパント溶液に電圧を印加して、固体にドーパントをパターン状にドーピングする工程とを含むドーピング方法を提供する。 - 特許庁

To quickly provide a sufficiently small dried subject, in a sample pretreatment device for recovering a deposit after dissolved in a solution to prepare the dried subject of the recovery solution on a substrate surface by heating the solution to be dried, in fluorescent X-ray analysis of the deposit on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面の付着物を蛍光Ｘ線分析するために、付着物を溶液に溶解させて回収し、その回収溶液を加熱により乾燥させて基板表面に回収溶液の乾燥物を作製する試料前処理装置において、迅速にしかも十分小さい乾燥物が得られるもの等を提供する。 - 特許庁

The method includes: a step to mix a predetermined amount of a polyimide precursor solution into an amideimide resin solution; a step to obtain a self-supporting gel film by flow casting and applying the mixed solution together with a chemical imidizing agent onto a substrate and drying; and a step to peel off the self-supporting gel film from the substrate and to subject it to heat treatment.例文帳に追加

アミドイミド樹脂溶液に所定量のポリイミド前駆体溶液を混合する工程；混合された溶液を化学的イミド化剤とともに支持体上に流延塗布、乾燥して自己支持型ゲルフィルムを得る工程；及び自己支持型ゲルフィルムを支持体から剥離して熱処理する工程；を含む。 - 特許庁

The method for producing a polyimide film includes the following steps of: forming a film of a solvent-soluble block copolymerizable polyimide film on a substrate by spin-coating; removing a solvent from the polyimide film by baking the substrate after film formation; stripping the polyimide film off from the substrate by immersing in a stripping solution; and skimming the polyimide film which is stripped from the substrate and floating on the solution.例文帳に追加

このポリイミド膜作製方法は、溶媒可溶ブロック共重合型ポリイミド膜を基板にスピンコート成膜するステップ、成膜後、基板をベークしてポリイミド膜中の溶媒を脱離させるステップ、剥離溶液に浸漬してポリイミド膜を基板から剥離させるステップ、基板から剥離して溶液上に浮遊したポリイミド膜をすくい取るステップを含む。 - 特許庁

The method contains a step to interact an immobilized heparanase substrate binding protein on a solid support with a labeled heparanase substrate to provide an immobilized labeled substrate, a step to interact a heparanase enzyme solution with the immobilized labeled heparanase substrate in the presence of an agent, and a step to detect the presence or absence of the label in the solution remote from the solid support.例文帳に追加

固体支持体上に固定化したへパラナーゼ基質結合蛋白質を標識ヘパラナーゼ基質と相互作用させる段階、物質の存在下で、へパラナーゼ酵素溶液を、固定化した標識ヘパラナーゼ基質と相互作用させる段階、および固体支持体から離れた溶液中の標識の有無を検出する段階を含む方法を提供する。 - 特許庁

A forming method of an electronic apparatus on a substrate 10 comprises the steps of applying a microembossing work to the substrate 10, applying a surface treatment to the substrate so that a non-depressed part 11 has a quality of repelling a solution of a first material 60, and depositing the solution of a first material 60 on a depression 12 on the substrate 10 formed by the microembossing work.例文帳に追加

電子装置の基板１０上での形成方法であり、基板１０をエンボス加工する工程と、基板をくぼみでない部分１１が第１の材料６０の溶液をはじくように表面処理する工程と、エンボス加工によって形成された基板１０上のくぼみ１２に第１の材料６０の溶液を堆積する工程と、を含む。 - 特許庁

This sensitive substrate deposition device is provided with a vacuum chamber 104 loaded with a substrate 101, a sensitizing solution storage tank 117 connected to the vacuum chamber 104, and a piezoelectric element 121 connected to the sensitizing solution storage tank 117 for evaporating the sensitizing solution in the sensitizing solution storage tank 117 and for introducing fume-shaped sensitive substance to the vacuum chamber 104.例文帳に追加

感光物質蒸着装置は、基板１０１がローディングされる真空チャンバ１０４と、真空チャンバ１０４に連結されている感光液貯蔵タンク１１７と、感光液貯蔵タンク１１７に連結されて感光液貯蔵タンク１１７内の感光液を蒸発させ、ヒューム状の感光物質を真空チャンバ１０４内に導入できる圧電素子１２１とを含む。 - 特許庁

To shorten a DNA chip manufacturing time to enhance productivity by accelerating the reaction of a substrate and the probe in a sample solution in a solution impart apparatus used in the production of a DNA chip and to reduce the necessary concentration of the probe in the sample solution by accelerating the reaction of the substrate and the probe in the sample solution to perform the cost reduction of the DNA chip.例文帳に追加

ＤＮＡチップ製造に使用される溶液付与装置において、基板と試料溶液内のプローブの反応を促進することで、ＤＮＡチップ製作時間を短縮し生産性を向上することと、基板と試料溶液内のプローブの反応を促進することで必要な試料溶液内のプローブの濃度を減少させＤＮＡチップのコストダウンを行うことを目的とする。 - 特許庁

To supply a resist separation liquid with temperature appropriately regulated in accordance with a situation to a substrate, in a substrate processing apparatus configured to produce a resist separation liquid by mixing sulfuric acid with a hydrogen peroxide solution to be supplied to a substrate.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水とを混合してレジスト剥離液を生成し基板に供給する基板処理装置において、状況に応じて適切に温度調節されたレジスト剥離液を基板に供給する。 - 特許庁

After etching a semiconductor substrate through mixed acid etching, the stain film adhered to the surface of the semiconductor substrate upon the mixed acid etching is removed by washing the semiconductor substrate with stain film removing solution containing at least one of aqueous ammonia, alkali ion water or hot water.例文帳に追加

半導体基板を混酸エッチング後に、アンモニア水、アルカリイオン水、温水の少なくとも１つを含むステイン膜除去液で洗浄して、混酸エッチングの際に表面に付着したステイン膜を除去する。 - 特許庁

The surface of a substrate 11 is irrigated by hydrofluoric acid solution to remove an oxide film 13 on the surface of the substrate 11, and also to remove an oxide film 112 in a COP 111 exposed on the surface of the substrate 11.例文帳に追加

基板１１の表面をフッ酸水溶液で洗浄し、基板１１表面の酸化膜１３を除去するとともに、基板１１表面に露出しているＣＯＰ１１１内の酸化膜１１２を除去する。 - 特許庁

Chemicals are jetted out against the edge of a substrate as a cleaning liquid while pure water is supplied to the surface center of the substrate, by which the jetted chemicals or a thin film dissolved in solution is restrained from being scattered on the surface of the substrate.例文帳に追加

純水等の洗浄液を基板表面中心部に供給しつつ、基板周縁に薬液を噴射することにより、噴射された薬液や薄膜の溶解物の基板表面上への飛散を抑える。 - 特許庁

The semiconductor substrate 1 having an oxide film 2 is formed of an SOI wafer having an oxide film and a silicon layer formed on a silicon substrate by removing the silicon substrate with a solution principally containing KOH.例文帳に追加

酸化膜２を備えた半導体基板１が、シリコン基板上に酸化膜とシリコン層が形成されたＳＯＩウエハを、ＫＯＨを主成分とする溶液で該シリコン基板を除去することにより作製される。 - 特許庁

A first substrate 1 to which a second substrate 2 is joined is uniformly etched by an 80° and 38 wt.% potassium hydroxide aqueous solution until an Si substrate 31 of an initial thickness 400 μm becomes 160 μm thick.例文帳に追加

第２の基板２が接合された第１の基板１を液温摂氏８０度の３８wt％水酸化カリウム水溶液で初期厚み４００ミクロンのＳｉ基板３１を厚みが１６０ミクロンになるまで均一にエッチングする。 - 特許庁

This inspection method of the photocatalyst substrate utilizing luminescence is a method for bringing a solution containing materials luminescing by being oxidized into contact with the photocatalyst substrate formed by carrying the photocatalyst layer on a substrate.例文帳に追加

発光を利用した光触媒基体の検査方法は、基材上に光触媒層が担持されている光触媒基体に、酸化されることにより発光する物質を含む溶液を接触させる方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing a gold-plated product comprises the steps of: preparing a substrate; making the electroless plating catalyst deposit on the substrate; and immersing the substrate having the catalyst deposit thereon in the electroless gold-plating solution.例文帳に追加

基材を用意する工程と、該基材上に無電解メッキ用触媒を付着させる工程と、該触媒を付着させた基材を上記無電解メッキ液に浸漬させる工程とを備えた金メッキ製品の製造方法。 - 特許庁

To provide a cylindrical substrate cleaning method capable of avoiding a nonuniform picture image such as half-tone, or the like, which is possibly caused due to an aqueous detergent solution remaining on the cylindrical substrate, thereby providing a cylindrical substrate with a high cleaning quality.例文帳に追加

円筒状基体に残留した水系洗浄剤溶液に起因するハーフトーン等の画像ムラを防止し、清浄度の高い円筒状基体を効率よく得られる円筒状基体の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

When the tip of the needle 53 comes into contact with the substrate 3, the solution held at the tip of the needle 53 and the solution in the liquid reservoir member 52 are communicated with each other, whereby the size and shape of the spot disposed on the substrate 3 can be kept constant.例文帳に追加

ニードル５３の先端が基板３に接触するとき、ニードル５３の先端に保持される溶液と液溜め部材５２内の溶液とがつながっているので、基板３に配置するスポットの大きさや形状を一定に保つことができる。 - 特許庁

The means 28 controls a valve 25 and a constant flow pump 26 according to input of the current signal, and transmits an activity adjusting substrate solution stored in an activity adjusting substrate solution storage container 23 to a supply line 7.例文帳に追加

手段２８は、この電流信号の入力に基づきバルブ２５及び定流量ポンプ２６を制御し、活性調整用基質溶液保管容器２３に貯溜されている活性調整用基質溶液を供給ライン７に対して送出する。 - 特許庁

The collagen used as the substrate for the cell culture can be used as a solution dissolved in acetic acid, and a coated film obtained by covering with the solution and subjecting to a UV irradiation is preferably used as the substrate of the cell culture.例文帳に追加

細胞培養基質として使用するコラーゲンは、酢酸で溶解した溶液として使用することができ、また、該溶液を被覆することにより構成した被膜に紫外線を照射したものを細胞培養基質として使用してもよい。 - 特許庁