「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

Then the substrate is uniformly etched by an 80° and 32 wt.% potassium hydroxide aqueous solution until the Si substrate 31 becomes a desired thickness of 140 μm.例文帳に追加

次に液温摂氏８０度の３２wt％水酸化カリウム水溶液でＳｉ基板３１を厚みが所望の１４０ミクロンになるまで均一にエッチングする。 - 特許庁

This process for producing the modified substrate includes a step of exposing to radiation a substrate while in contact with an aqueous solution containing a hydrophilic polymer and an antioxidant.例文帳に追加

また基材を親水性高分子および抗酸化剤を含む水溶液と接触下、放射線照射する該改質基材の製造方法。 - 特許庁

Then, a release layer 20 between the substrate 10 and the resin layer 30 is dissolved with alkaline solution, so that the resin layer 30 is eliminated from the substrate.例文帳に追加

その後、基板１０と樹脂層３０との間にある剥離層２０をアルカリ溶液で溶解させ、樹脂層３０を基板１０上から除去する。 - 特許庁

The optical pattern etching method includes steps of: forming a photosensitive hydrofluoric acid etching material on a semiconductor or quartz glass substrate; exposing the substrate along a pattern; heating the substrate; subjecting the substrate to development by using an alkali developing solution; and subjecting the substrate to hydrofluoric acid etching by using a solution having ≥30% to ≤50% concentration of hydrofluoric acid.例文帳に追加

光パターンエッチング方法は、半導体または石英ガラスからなる基板上に感光性フッ酸エッチング材料を形成する工程と、基板をパターン露光する工程と、基板を加熱する工程と、基板にアルカリ現像液を用いて現像を施す工程と、基板にフッ酸濃度30％以上50％以下の溶液を用いてフッ酸エッチングを行う工程とを備える。 - 特許庁

A developing solution discharging nozzle 11 of this substrate developing apparatus supplies developing solution from discharging nozzle 11 to substrates W1, W2, in this order, from the starting point on one side outside a first substrate W1 over the substrate W1 and a second substrate W2 mounted in parallel, to the stopping position on the other side outside second substrate W2.例文帳に追加

現像液吐出ノズル１１が第1の基板Ｗ１外の一方側の移動開始位置から並設される第1の基板Ｗ１および第2の基板Ｗ２上を通過して第2の基板外の他方側の停止位置まで移動しながら現像液吐出ノズル１１から現像液を基板Ｗ１およびＷ２上に順次供給する。 - 特許庁

A cleaning fluid to which an ultrasonic vibration is given by a cleaning-fluid supply part 60 with reference to the substrate W is supplied to the main face of the substrate W to which a developing solution is supplied by a developing-solution supply part 30, and the whole face of the substrate W is cleaned.例文帳に追加

現像液供給部３０によって現像液の供給された基板Ｗに対して洗浄液供給部６０により超音波振動の付与された洗浄液を基板Ｗの主面に供給して基板Ｗ全面を洗浄する。 - 特許庁

A step for applying polymer solution on a substrate having irregularities on the surface by using a spin coat method, a step for curing the polymer solution applied on the surface of the substrate, thereby obtaining a resin film, and a step for peeling the resin film from the substrate are performed.例文帳に追加

表面に凹凸構造を有する基板上に、スピンコート法を用いてポリマー溶液を塗布する工程と、基板表面に形成されたポリマー溶液を硬化させて樹脂フィルムとする工程と、樹脂フィルムを前記基板から剥離する工程とを設ける。 - 特許庁

To provide a device capable of preventing a carriage roller or the internal wall face of a treatment tank from being contaminated by a treatment solution containing solidification components at the time of treating a substrate by carrying the substrate in the treatment tank, and supplying the treatment solution to the substrate.例文帳に追加

処理槽内において基板を搬送しつつ基板に対し処理液を供給して基板の処理を行う場合に、固化成分を含んだ処理液によって搬送ローラや処理槽の内壁面などが汚染されることを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

This exposure device for transferring the image of a pattern through solution on a substrate to carry out the exposure of a substrate is provided with a collector for collecting solution supplied on the substrate, and characterized by arranging a moisture absorption heating element inside the collector.例文帳に追加

パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、前記基板上に供給された液体を回収する回収部を備え、前記回収部の内側に吸湿発熱体が配置されることを特徴とする。 - 特許庁

A substrate on the surface of which a Co film is formed as a seed layer is prepared, and when a Cu film is deposited on the Co film of the substrate by electrolytic plating using a plating solution mainly composed of a copper sulfate solution, before immersing the substrate surface into the plating solution, a negative voltage is applied to the substrate so that the surface potential of Co becomes lower than the oxidation potential of Co.例文帳に追加

表面にシード層としてＣｏ膜が形成された基板を準備し、Ｃｏ膜の上に硫酸銅溶液を主体とするメッキ液を用いて、電解メッキにより基板のＣｏ膜上にＣｕ膜を成膜するにあたり、基板表面をメッキ液に浸漬する前に、基板に対して、Ｃｏの表面電位がＣｏの酸化電位より低くなるような負の電圧を印加する。 - 特許庁

This manufacture method includes a first process for immersing a sintered substrate in a solution of mixed salts, of nickel and cobalt and providing alkaline treatment to form a nickel-cobalt solid solution hydroxide layer on the surface of the sintered substrate, a second process for providing heat treatment to the sintered substrate in the presence of alkaline aqueous solution and oxide, a third process for filling nickel hydroxide containing cobalt in pores of the sintered substrate.例文帳に追加

焼結基板をニッケルとコバルトの混合塩溶液に浸漬した後、アルカリ処理して、焼結基板の表面にニッケル・コバルト固溶水酸化物層を形成する第１工程と、この焼結基板をアルカリ水溶液と酸素の存在下で加熱処理する第２工程と、この焼結基板の細孔内にコバルトを含む水酸化ニッケルを充填する第３工程を備える。 - 特許庁

2) The method of manufacturing the organic thin film comprising forming the lattice-like patterns by casting a hydrophobic organic solvent solution of a polymer on a substrate, then forming the film by further casting a functional dyestuff solution from above the same or forming the film by immersing the patterns together with the substrate into the functional dyestuff solution.例文帳に追加

２）基板上にポリマーの疎水性有機溶媒溶液をキャストすることにより格子状パターンを形成した後、更にその上から機能性色素溶液をキャストして膜形成するか、又は、その基板ごと機能性色素溶液に浸漬して膜形成する有機薄膜の製造方法。 - 特許庁

This pH sensor 100 has a semiconductor substrate 101, an oxide film 102 formed on the semiconductor substrate 101, a solution storage part 110 formed on the oxide film 102 to hold a solution 105, and an electrode 107 contacting with the solution 105 near the oxide film 102.例文帳に追加

ｐＨセンサ１００は、半導体基板１０１と、半導体基板１０１上に形成される酸化物膜１０２と、酸化物膜１０２上で溶液１０５を保持するよう設けられた溶液貯留部１１０と、酸化物１０２膜の近傍で溶液１０５と接触する電極１０７とを備える。 - 特許庁

The treatment method includes an etching step of etching a ZnO single crystal substrate having a Zn polar surface as a main surface using a solution containing an EDTA chelate compound as an etchant, and a cleaning step of, after the etching, cleaning the substrate using an electrolyte solution having a ligand as a cleaning solution.例文帳に追加

Ｚｎ極性面を主面としたＺｎＯ単結晶の基板を、ＥＤＴＡキレート化合物を含む溶液をエッチャントとして用いてエッチングするエッチング工程と、エッチングの後、配位子を有する電解質溶液を洗浄液として用いて基板を洗浄する洗浄工程と、を有する。 - 特許庁

The coating method of coating the surface of the substrate 1 with a coating solution 2 includes a solvent treatment process as a pretreatment process or an aftertreatment process for the coating process of applying the coating solution 2, in which a marginal part of the substrate 1 is selectively exposed to an atmosphere of a solvent 2a contained in the coating solution 2.例文帳に追加

基板１の表面に塗布液２を塗布する塗布方法であって、塗布液２を塗布する塗布工程の前処理工程又は後処理工程として、塗布液２に含まれる溶剤２ａの雰囲気に基板１の縁部を選択的に晒す溶剤処理工程を実施する。 - 特許庁

Analysis for a solution is carried out using an inductively coupled plasma mass spectrograph in an evaluating method for evaluating water quality comprising a process for bringing the substrate into contact with evaluated water, a process for dissolving thereafter a surface of the substrate with the solution, and a process for recovering the solution to conduct analysis.例文帳に追加

基板を被評価水に接触させる工程、次いで該基板の表面を溶解液で溶解する工程、次いで上記溶解液を回収し、分析する工程からなる水質の評価方法において、溶解液の分析を誘導結合プラズマ質量分析装置で行う。 - 特許庁

In a radiation imaging grid, a gold colloidal solution 30 is dropped and applied on an X-ray transmissive substrate 21 on which a groove 22 having a high aspect ratio is formed, in such an amount as the gold colloidal solution 30 will not overflow.例文帳に追加

高いアスペクト比を有する溝２２が形成されたＸ線透過性基板２１に、溝２２から溢れない量の金コロイド溶液３０を滴下して塗布する。 - 特許庁

The organic material layers Y2 to Y6 are formed in the layer-by-layer electrostatic self-assembly process by alternately dipping the substrate 10 in a positive electrolyte polymer solution and in a negative electrolyte polymer solution.例文帳に追加

有機材料層Ｙ２〜Ｙ６は、正の電解質ポリマー水溶液と負の電解質ポリマー水溶液とに基板１０を交互に浸す交互吸着法により形成する。 - 特許庁

The polymer solution film 19A is formed on a surface of a substrate 11 by coating it with the polymer solution in which an aligning polymer or its precursor is dissolved.例文帳に追加

基板１１の表面上に、配向性高分子又はその前駆体を溶解した高分子溶液を塗布することにより高分子溶液膜１９Ａを形成する。 - 特許庁

The polymer thin film is prepared by coating a polymer solution containing a polymer dissolved in a solvent on the flat surface of a substrate, and drying the solution under a condition close to the saturated vapor pressure of the solvent.例文帳に追加

高分子が溶媒により溶解した高分子溶液を平坦な基板表面に塗布し、前記溶媒の飽和蒸気圧付近で乾燥し、高分子薄膜を作製する。 - 特許庁

A lift-off remover 50 comprises a removing solution bath 1, an ultrasonic wave generator 2 provided at the bottom of the removing solution bath 1, and a holder member 3 for holding a substrate 10 to be processed.例文帳に追加

リフトオフ用剥離装置５０は、剥離液槽１と、剥離液槽１の底部に超音波発生装置２と、処理する基板１０を保持する保持部材３とを備える。 - 特許庁

A solution of a copolymer having a hydrophilic group and a hydrophobic group as side chains is developed on the surface of a solution to form the monomolecular film of the copolymer, Then, this monomolecular film is transferred to and accumulated on a substrate to prepare the LB film.例文帳に追加

側鎖として親水性基と疎水性基を有する共重合体の溶液を水面に展開して当該共重合体の単分子膜を形成する。 - 特許庁

To provide an electroplating solution for forming a metallic microcircuit, particularly an electroplating solution by which the problem of the occurrence of defects due to the melting of a substrate metal layer can be solved.例文帳に追加

微細金属回路を形成するための電解めっき液、とくに下地金属層溶解による欠陥の発生を解消する電解めっき液を提供することにある。 - 特許庁

When the above process is repeated with respect to each of the solution reservoirs 31, 32, 33, an epitaxial layer based on each reaction solution can be successively formed on the substrate W.例文帳に追加

以上の工程を、各溶液溜容器３１，３２，３３について行えば、各反応溶液に基づくエピタキシャル層を基板Ｗ上に順次積層させることができる。 - 特許庁

A gas comprising the same component as the solvent is made to actively be present around the droplet comprising the solution by coating the substrate with the solvent of the discharged solution.例文帳に追加

吐出する溶液の溶媒を基板上に塗布することにより、前記溶液からなる液滴の周囲に、溶媒と同じ成分からなる気体を積極的に存在させる。 - 特許庁

This prevents stripping between the stiffener sheet 9 and the elongate substrate 1, and in turn, prevents etching solution and developing solution from entraining in a gap therebetween.例文帳に追加

これによって、補強シート９と長尺基材１との間で剥離することを防止して、それらの間にエッチング液や現像液などが浸入することを防止する。 - 特許庁

The method is characterized by etching the surface of the resin substrate with an etching solution including a Pd compound, and then contacting it with an aqueous solution including a reducing agent.例文帳に追加

Ｐｄ化合物を含むエッチング液を用いて樹脂基材表面をエッチング処理した後、還元剤を含む水溶液に接触させることを特徴とする方法。 - 特許庁

The SiC wafer 12, wax 19 and sapphire substrate 21 which are not dissolved in the fluoronitric acid solution 36 are taken out of the fluoronitric acid solution and the peeling process ends.例文帳に追加

フッ硝酸溶液３６に不溶のＳｉＣウェハ１２、ワックス１９、及びサファイア基板２１を、フッ硝酸溶液３６から取り出して剥離工程が終了する。 - 特許庁

A recovered resist peeling solution R2 is returned to a peeling solution tank 13 and a separated gas G is used for dewatering a substrate W supplied to each gas knife 12 in the chambers 11.例文帳に追加

回収レジスト剥離液Ｒ２は、剥離液槽１３に戻入され、分離ガスＧは、チャンバ１１内のガスナイフ１２へ供給された基板Ｗの液切りに使用される。 - 特許庁

Next, a solution applying process 12 is effected in non-oxidizing atmosphere to apply a solution obtained by dispersing the powder of amorphous silicon into a solvent on the pattern forming region of the glass substrate.例文帳に追加

次に、非酸化雰囲気において溶液塗布工程１２を行ない、アモルファスシリコンの粉末を溶媒に分散させた溶液を、ガラス基板のパターン形成領域に塗布する。 - 特許庁

To evenly discharge a treatment solution out of a discharge port of a nozzle in applying a coating solution to an object substrate to be treated by preventing deposition of foreign mater in a flow path in the inside of the nozzle.例文帳に追加

ノズル内の流路における異物の付着を防止し、被処理基板に対する塗布液の塗布の際に、ノズル吐出口から処理液を均一に吐出する。 - 特許庁

Just after the recombinant mixture solution 10 is injected from the first cell 5, the light-emitting quantity of the substrate mixture solution is measured with the photosensitive portion of a luminator.例文帳に追加

第一のセル５からの組換え体混合液１０の注入終了と同時に、基質混合液１１の発光量をルミノメーター感光部９により測定する。 - 特許庁

Further, the tin oxide membrane provided on the substrate may be immersed in the palladium solution but it is preferable to drop the palladium solution on the surface of the tin oxide membrane.例文帳に追加

又、基板に設けられた酸化スズ薄膜を、パラジウム溶液中に浸してもよいが、パラジウム溶液を、酸化スズ薄膜表面に滴下して行うことが好ましい。 - 特許庁

The main surface of a silicon substrate 121 provided with the Cu film 103 is brought into contact with an alkali aqueous solution, polycarboxylic acid, BTA, and an alkali aqueous solution in this order.例文帳に追加

Ｃｕ膜１０３が設けられたシリコン基板１２１の主面に、アルカリ性水溶液、ポリカルボン酸、ＢＴＡおよびアルカリ性水溶液をこの順に接触させる。 - 特許庁

This substrate processing device 1 is provided with a sulfuric acid tank 102 for storing sulfuric acid 103 therein, and a hydrogen peroxide water solution tank 142 for storing a hydrogen peroxide water solution 143 therein.例文帳に追加

基板処理装置１は、硫酸１０３を貯留する硫酸槽１０２と、過酸化水素水１４３を貯留する過酸化水素水槽１４２とを備える。 - 特許庁

A method for manufacturing a substrate with a Cu pattern is provided, in which the substrate with the Cu pattern is formed by treating a resin substrate with a strong alkaline aqueous solution, applying or printing a conductor ink containing copper element-containing particles to the treated resin substrate, and heating the patterned resin substrate to a temperature of 120°C or more in a gas atmosphere containing formic acid.例文帳に追加

樹脂基板を強アルカリ水溶液で処理した後、銅元素含有粒子を含む導体インクを塗布あるいは印刷により成形した後、ギ酸を含むガス雰囲気中で１２０℃以上に加熱するＣｕパターン付基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning apparatus and a substrate cleaning method in which the semiconductor wafers may be cleaned more reliably in comparison with the prior art when it is applied particularly to the substrate cleaning method of a spray system to clean the substrate by spraying chemical solution to the substrate.例文帳に追加

基板洗浄装置及び基板洗浄方法に関し、特に基板に薬液を噴霧して基板を洗浄するスプレイ方式の基板洗浄装置に適用して、従来に比して一段と確実に半導体ウエハを洗浄することができるようにする。 - 特許庁

In order to separate the substrate support 20 from the substrate 25 to be processed, the support substrate 21 is separated from the substrate 25 to be processed by dissolving and removing the metal layer 22 formed on the bonding face 21a of the support substrate 21 using an acid or alkali solution.例文帳に追加

基板支持体２０の被処理基板２５からの分離工程では、支持基材２１の接着面２１ａに形成された金属層２２を酸又はアルカリ性の溶解液を用いて溶解除去することで、支持基材２１を被処理基板２５から分離する。 - 特許庁

To provide semiconductor substrate cleaning solution capable of surely removing residues existing on a semiconductor substrate after dry etching and/or ashing at semiconductor production, and suppressing corrosion on a semiconductor substrate having a Low-k film deterioration layer, and the like, and to provide a semiconductor substrate cleaning method that uses the solution.例文帳に追加

半導体製造におけるドライエッチング及び／又はアッシング後の半導体基板に存在する残渣を確実に除去できると共に、Ｌｏｗ−ｋ膜変質層等を有する半導体基板に対する腐食を抑制することができる半導体基板洗浄液、及びそれを用いた半導体基板の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

In the surface processing method of a semiconductor substrate, after the surface of the semiconductor substrate is subjected to hydrogen termination with hydrofluoric acid solution, the semiconductor substrate is irradiated with light in a solution containing one kind or more of compounds selected from quinhydrone, hydroquinone, semiquinone and quinone thus rendering the surface of a semiconductor substrate inactive.例文帳に追加

半導体基板表面をフッ酸溶液により水素終端した後、キンヒドロン、ヒドロキノン、セミキノン及びキノンから選ばれた１種以上の化合物を含む溶液中で、半導体基板に光を照射することにより、半導体基板表面を不活性化させることを特徴とする半導体基板の表面処理方法である。 - 特許庁

To provide a substrate processing system for coating surfaces of substrates to be processed with a film of a processing solution and forming a predetermined pattern on each substrate in cooperation of an exposure device, which system can coat the processing solution on each substrate uniformly and can increase a substrate processing throughput when cooperated with the exposure device.例文帳に追加

被処理基板の表面に処理液の膜を塗布形成し、露光装置と連動して基板に所定のパターンを形成する基板処理システムにおいて、各基板に処理液を均一に塗布することができ、露光装置と連動した際の基板処理のスループットを向上することのできる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

A substrate treating method comprises the steps of: preparing a substrate having the ruthenium film formed on its entire substrate surface including the surfaces of the recesses for wiring; keeping the substrate surface in contact with a plating solution for a prescribed time so that an additive in the plating solution is adsorbed onto the ruthenium film; and subsequently carrying out electroplating to form a conductive film on the surface of the ruthenium film.例文帳に追加

配線用凹部の表面を含む全表面にルテニウム膜を形成した基板を用意し、基板表面をめっき液に所定時間接触させてめっき液中の添加剤をルテニウム膜に吸着させ、しかる後、電解めっきによりルテニウム膜の表面に導電膜を成膜する。 - 特許庁

A sample solution is spotted onto a substrate in a matrix to manufacture a sample chip.例文帳に追加

基板上に対して多数の分注部材により試料溶液をマトリクス状にスポッティングして試料チップを作製する。 - 特許庁

To provide a valve with a sensor for process solution, and an apparatus and a method for treating a substrate using the same.例文帳に追加

処理液感知器を有するバルブ、これを利用する基板処理装置及び基板処理方法が提供される。 - 特許庁

The temperature of the semiconductor substrate when the aqueous phosphoric solution is jetted is preferred to be 60-120°C.例文帳に追加

ここで、リン酸水溶液の噴霧時の半導体基板の温度が６０℃以上１２０℃以下であることが好ましい。 - 特許庁