「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A substrate formed of the ceramic material is immersed into a conducting solution containing a metal to deposit the conducting material on the substrate surface.例文帳に追加

セラミック材料で形成された基体を、金属を含む導電化溶液に浸漬し、基体表面に導電化材料を付着させる。 - 特許庁

Succeedingly, the glass substrate 111 is immersed in an etching solution, the melting of the glass substrate 111 is carried out until the thickness is set to 0.2 mm (step S13).例文帳に追加

引き続き、ガラス基板１１１をエッチング液に浸漬し、厚さが０．２ｍｍになるまで、ガラス基板１１１を溶融する（ステップＳ１３）。 - 特許庁

FIREFLY LUMINESCENT SUBSTRATE BIOSYNTHESIS SYSTEM USING NATURAL L- CYSTEINE OR ITS DERIVATIVE, AND FIREFLY SUBSTRATE SOLUTION CONTAINING THE SYSTEM例文帳に追加

天然型Ｌ−システインまたはその誘導体を用いたホタル発光基質の生合成システム及び本システムを含んだ発光基質溶液 - 特許庁

A substrate 11 consisting of a compound containing Zn is immersed in a solution of copper sulfate to deposit a Cu thin film 12 on the substrate 11.例文帳に追加

Ｚｎを含む化合物からなる基板１１を硫酸銅溶液に浸漬してこの基板１１上にＣｕ薄膜１２を形成する。 - 特許庁

In a state that a mask plate having at least one aperture is laminated on a substrate, an coating solution containing microcapsules is applied to the laminated surface of the substrate.例文帳に追加

少なくとも１つの開口部を有するマスク板を基板上に積層した状態でマイクロカプセルを含む塗工液を塗布する。 - 特許庁

Since a palladium-containing metal has a resistance to the alkaline solution used for hydrothermal synthesis and an adhesive property to the main body of the substrate 30, the metal does not peels from the substrate 30.例文帳に追加

圧電体素子(40)を形成する設置面に、少なくともパラジウムを含む保護層(31)が形成されている基板(30)を使用する。 - 特許庁

This method of forming a ZnO semiconductor thin film involves a step of forming the ZnO semiconductor thin film on a substrate 10 by bringing the substrate 10 into contact with an aqueous solution 11.例文帳に追加

基板１０を水溶液１１に接触させることによって、基板１０上にＺｎＯ系半導体薄膜を形成する。 - 特許庁

In a substrate processing apparatus 100, substrate treatment liquid TL can be supplied only to a substrate processing region TS on a substrate PB to be processed by, for example, immersing a substrate holding member 110, to which the substrate PB to be processed is set, into the substrate treatment liquid TL in the substrate processing region TS, the substrate treatment liquid being accommodated in a solution holding container 130.例文帳に追加

基板処理装置１００は、例えば、処理対象基板ＰＢがセットされた基板保持部材１１０を溶液保持容器１３０に収容されている基板処理領域ＴＳの基板処理溶液ＴＬに浸漬することにより、処理対象基板ＰＢの基板処理領域ＴＳのみに基板処理溶液ＴＬを供給することができる。 - 特許庁

The method for manufacturing a mask blank includes steps of dropping a resist solution 13 containing a resist material and a solvent onto a square substrate 2, rotating the substrate 2 to spread the dropped resist solution 13 over the substrate 2, and drying the resist solution 13 on the substrate 2 to form a resist coating film comprising the resist material on the substrate 2.例文帳に追加

四角形状の基板２上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液１３を滴下し、前記基板２を回転させ、滴下されたレジスト液１３を前記基板２上に広げるとともに、前記基板２上のレジスト液１３を乾燥させて、前記基板２上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

The method for producing the mask blank includes steps of dropping a resist solution 13 containing a resist material and a solvent onto a square substrate 2, rotating the substrate 2 to spread the dropped resist solution 13 over the substrate 2, and drying the resist solution 13 on the substrate 2 to form a resist coating film composed with the resist material on the substrate 2.例文帳に追加

四角形状の基板２上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液１３を滴下し、前記基板２を回転させ、滴下されたレジスト液１３を前記基板２上に広げるとともに、前記基板２上のレジスト液１３を乾燥させて、前記基板２上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

Provided is a substrate processing method including: cleaning a processed substrate W in a cleaning tank 221 prepared in the substrate processing apparatus 2 by immersing the processed substrate W in a cleaning solution in a longitudinal direction while the cleaning solution is supplied from a cleaning solution supply portion to the cleaning tank 221; and drying the processed substrate W picked up from the cleaning tank 221 in a drying chamber 21 communicating with an upper area of the cleaning tank 221.例文帳に追加

基板処理装置２に設けられた洗浄槽２２１では、洗浄液供給部から洗浄液を供給しながら当該洗浄液に被処理基板Ｗを縦向きの状態で浸漬して洗浄が行われ、この洗浄槽２２１の上方領域と連通する乾燥室２１では、洗浄槽２２１から引き上げられた被処理基板Ｗの乾燥が行われる。 - 特許庁

A substrate treating device is provided with a substrate base 2 for supporting a substrate 1, a shield plate 3 arranged while keeping a given interval with the substrate 1 mounted on the substrate base 2, and a pipe 5 for discharging the treating solution 4 readily evaporated or degassed onto the substrate 1 from the lower surface of the shield plate 3.例文帳に追加

基板１を支持する基板ベース２と、基板ベース２に載置された基板１と一定間隔を保って配設されたシールド板３と、シールド板３の下面より基板１上に気化又はガス抜けし易い処理液４を吐出させるパイプ５とを備えている。 - 特許庁

In the method for manufacturing the uneven substrate for forming the uneven structure by dipping the crystal semiconductor substrate 1 in an alkaline solution containing a surfactant and etching the surface of the substrate, an adhesive 2 is adhered in a dotted manner on the surface of the substrate 1 before dipping the substrate 1 in the alkaline solution.例文帳に追加

界面活性剤を含むアルカリ性溶液中に結晶系半導体基板１を浸漬し、該基板の表面をエッチングすることによって凹凸構造を形成する凹凸基板の製造方法において、前記基板１をアルカリ性溶液中に浸漬する前に、基板１の表面に点状に粘着剤２を付ける。 - 特許庁

The method includes: a step of applying a ceramic precursor solution for forming a compact layer 2 to a surface of a substrate 1; and a step of heating the precursor solution for forming the compact layer 2.例文帳に追加

基材１表面に緻密層２を形成するためのセラミックスの前駆体溶液を塗布した後、前駆体溶液を熱処理して緻密層２とする。 - 特許庁

To provide a solution supply device constituted so as to supply a solution to a substrate so as to make the same uniform in thickness.例文帳に追加

この発明は基板に溶液を均一な厚さになるよう供給することができるようにした溶液の供給装置を提供することにある。 - 特許庁

A solution in which a thin film-forming material is dissolved into a solvent is ejected by an inkjet method, so that the droplets of the solution are arranged on the substrate.例文帳に追加

薄膜形成材料が溶媒に溶解している溶液をインクジェット法で吐出することにより、前記溶液の液滴を基板上に配置する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device, which is capable of preventing a processing solution from dripping down from nozzles, after the processing solution is sprayed from the nozzles.例文帳に追加

この発明はノズル体から処理液を噴射した後、その処理液がノズル体から滴下するのを防止した基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

This treatment method is performed so as to bring the washing aqueous solution into contact with the same member as the metal substrate to remove metal ions contained in the aqueous solution eluted from piping.例文帳に追加

洗浄用水溶液を金属基板と同一の部材と接触させ、配管から溶出し水溶液中に含まれる金属イオンを除去する。 - 特許庁

Thus, it is possible to reduce the discharge of the rinse solution outside the substrate W at each feeding position, and to reduce the consumption of the rinse solution.例文帳に追加

各供給位置における基板Ｗより外側においてリンス液を吐出することが少ないので、リンス液の消費量を少なくすることができる。 - 特許庁

Liquid droplets of the solution in which a thin film forming material are arranged on the substrate by ejecting the solution by a ink-jet method.例文帳に追加

薄膜形成材料が溶媒に溶解している溶液をインクジェット法で吐出することにより、前記溶液の液滴を基板上に配置する。 - 特許庁

Therefore, the processing solution containing chemicals are hardly condensed on the lower surface of the cover 9, so that the substrate can be prevented from being contaminated by the processing solution condensed on the cover 9.例文帳に追加

したがって、薬液を含む処理液がカバー９の下面に結露することはなく、カバー９への結露に起因して基板が汚染されるのを防止できる。 - 特許庁

Liquid droplets of the solution in which a thin film forming material is dissolved are arranged on the substrate by ejecting the solution by an ink-jet method.例文帳に追加

薄膜形成材料が溶媒に溶解している溶液をインクジェット法で吐出することにより、前記溶液の液滴を基板上に配置する。 - 特許庁

To provide a process solution for removing processing residuals from a semiconductor substrate following CMP processing, and a method of using the process solution.例文帳に追加

CMP処理に続いて半導体基材から処理残留物を除去するためのプロセス溶液、及び該プロセス溶液を使用する方法を提供すること。 - 特許庁

(2) By impressing the electric voltage on the reaction solution containing the enzyme and substrate in the reaction vessel, the enzymatic reaction products are produced in the reaction solution.例文帳に追加

(1)加水分解酵素およびその基質を含む反応溶液に電圧を印加することにより、当該加水分解酵素の酵素反応を制御する。 - 特許庁

The manufacturing method of the proton conductive film is to heat a suspension of dispersed solution containing polyimide or polyamic acid and the phosphosilicate gel after coating the solution on a substrate.例文帳に追加

プロトン伝導性膜の製造方法は、ポリイミドまたはポリアミック酸と、ホスホシリケートゲルとを含む懸濁分散液を基板に塗布した後、加熱する。 - 特許庁

Water solution containing phosphoric acid, nitric acid, an organic acid salt, and surfactant is used as an etching solution composition for etching the metal film on a substrate.例文帳に追加

リン酸、硝酸、有機酸塩、界面活性剤を含有する水溶液を、基板上の金属膜をエッチングするためのエッチング液組成物として用いる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING SILANE COUPLING AGENT SOLUTION, SILANE COUPLING AGENT SOLUTION, METHOD FOR TREATING SURFACE OF SUBSTRATE WITH THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING RETARDATION FILM例文帳に追加

シランカップリング剤溶液の製造方法、シランカップリング剤溶液、それを用いた基材の表面処理方法、ならびにそれを用いた位相差板の製造方法 - 特許庁

A polyimide precursor film 5 obtained by preparing a solution of a polyimide precursor, applying the solution to form a film on a substrate 6 and drying is mounted on an XYZ stage 4.例文帳に追加

ポリイミド前駆体の溶液を調製し、これを基板６上に成膜後、乾燥させ、得られたポリイミド前駆体皮膜５をＸＹＺステージ４に載置する。 - 特許庁

To provide a device for feeding a solution with which the application data quantity of the solution to be applied to a substrate can be reduced.例文帳に追加

この発明は基板に塗布する溶液の塗布データ量を少なくすることができるようにした溶液の供給装置を提供することにある。 - 特許庁

This cleaning device 1 cleans, by using a cleaning solution E, a substrate material C whose surface is treated by using a treatment solution D for forming a circuit.例文帳に追加

この洗浄装置１は、回路形成のため処理液Ｄを用いて表面処理された基板材Ｃを、洗浄液Ｅを用いて洗浄する。 - 特許庁

Accordingly, the amount of developing solution, wastefully falling down from the substrate W, can be reduced whereby the wasteful consumption of the developing solution can be restrained.例文帳に追加

したがって、基板Ｗから無駄にこぼれ落ちる現像液量を削減することができ、現像液を無駄に消費することを抑制することができる。 - 特許庁

To offer a substrate treatment unit which feeds treatment solution to a substrate which is transferred horizontally for treating it and is able to maintain prescribed quality, without increasing the amount of treatment solution used.例文帳に追加

水平に搬送される基板に処理液を供給して処理を施す基板処理装置において、使用する処理液の量を多くすることなく所定の品質の基板処理を行うこと。 - 特許庁

Then, the metal precursor film is formed on the substrate 2 by performing a process for applying the metal precursor solution to the substrate 2 and a process for drying the applied metal precursor solution.例文帳に追加

次に、基板２に金属前駆体溶液を塗布する工程、および、塗布された金属前駆体溶液を乾燥する工程を実施することによって、基板２上に金属前駆体膜を形成する。 - 特許庁

To improve products in yield by a method, where particles are prevented from readhering to a processed substrate, in a process where the processed substrate is immersed into a processing solution and a cleaning solution for processing and cleaning.例文帳に追加

被処理基板を処理液及び洗浄液に浸漬して洗浄処理を施す過程における被処理基板へのパーティクルの再付着の防止等により製品歩留まりの向上を図れるようにすること。 - 特許庁

To provide an aqueous coating solution for forming an undercoat for protecting a substrate which allows the inspection about whether it is coated by coloring and also allows easy decoloring, and to provide a method of forming a photocatalytic layer in which the undercoat is formed using the above coating solution and the photocatalytic layer not attacking the substrate is formed thereon.例文帳に追加

着色により被覆されているか否かの検査が可能で、且つ消色も容易である基板保護用下塗層を形成するための水性塗布液を提供すること。 - 特許庁

To provide substrate treatment equipment wherein a substrate is sucked, held and rotated by a spin chuck, and treatment by a treatment solution can be performed while the corrosion of the equipment which is caused by the treatment solution is prevented.例文帳に追加

処理液による装置の腐食を防止しつつ、基板をスピンチャックで吸引保持しつつ回転させて、当該基板に処理液による処理を施すことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A substrate made of a porous material such as paper is impregnated with a water solution of lead nitrate, and a water solution of sodium sulfide packed in an ink cartridge with a very small nozzle is blown to the surface of the substrate.例文帳に追加

硝酸鉛水溶液を紙などの多孔質材料からなる基板中に含浸させ、硫化ナトリウム水溶液を微細ノズルのインクカートリッジに入れて、前記基板の表面に吹き付ける。 - 特許庁

To eliminate an accident in which a surface of a functional element substrate, on which a group of functional elements are formed, is soiled with the leaked solution, even if the solution overflows or leaks from a liquid container of the solution containing a functional material.例文帳に追加

機能性材料を含有する溶液の液容器から溶液があふれたり漏れたりしても、機能性素子基板の機能性素子群形成面を漏れた溶液によって汚すという事故をなくす。 - 特許庁

The wet etching system comprises a nitrohydrofluoric solution supply 6 ejecting nitrohydrofluoric solution for etching a polysilicon film formed on a substrate, and an NO_2 gas supply 7 for mixing the nitrohydrofluoric solution with NO_2 gas.例文帳に追加

基板上に形成されたポリシリコン膜をエッチングするためのフッ硝酸溶液を吐出するフッ硝酸溶液供給部６と、フッ硝酸溶液にＮＯ_2ガスを混合するＮＯ_2ガス供給部７とを備える。 - 特許庁

After the recombinant mixture solution 10 is reacted for a constant time, a constant volume of the reacted recombinant mixture solution is injected into the second cell 8, and a constant volume of a substrate solution is also injected into the second cell 8.例文帳に追加

この組換え体混合液１０は一定時間反応させた後、その一定量を第二のセル８に注入するとともに、基質溶液７の一定量を第二のセル８に注入する。 - 特許庁

To provide a solution supply nozzle of which the periphery of the discharge outlet can sufficiently be washed and which can precisely supply a solution to the center of a substrate and to provide a solution supply apparatus.例文帳に追加

吐出口近傍の洗浄を十分に行うことができ、しかも溶液を基板の中心に正確に供給することができる溶液供給ノズル及び溶液供給装置の提供。 - 特許庁

To provide a resist coating apparatus and a resist coating method capable of evenly coating a resist solution in a small resist solution discharge amount to a substrate even if the resist solution is hardly dispersed.例文帳に追加

レジスト液が拡散しにくい場合であっても、少ないレジスト液吐出量でレジスト液を基板上に均一に塗布することができるレジスト塗布処理装置およびレジスト塗布処理方法を提供すること。 - 特許庁

Moreover, before the solution is supplied to the center part of the substrate W, a pre-wet liquid S is supplied to the solution to enhance the wetness of the surface of the substrate W, and by rotating the substrate W, the pre-wet liquid S may be coated onto the surface of the substrate W.例文帳に追加

また前記溶液を基板Ｗの中心部に供給する前に、当該溶液に対して基板Ｗの表面の濡れ性を高めるためにプリウエット液Ｓを供給すると共に、当該基板Ｗを回転させて前記プリウエット液Ｓを基板Ｗの表面に塗布してもよい。 - 特許庁

A peripheral section treating unit, which removes an applied solution from the peripheral section of a substrate G after the solution is applied to the substrate G by means of a coating unit is provided with a stage 71, on which the substrate G is placed and a positioning mechanism 72, which positions the substrate G carried onto the stage 71.例文帳に追加

塗布処理ユニット２２で塗布液が塗布された後、基板Ｇの周縁部の塗布液を除去する周縁部処理ユニット２３は、基板を載置するステージ７１と、搬送機構４２により、ステージ７１上に搬入された基板Ｇを位置合せするための位置合わせ機構７２とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of the light emitting element includes a step (S1) of washing an Si substrate, a step (S2) of sticking an erbium solution on the Si substrate, and steps (S3, S4) of heat-treating the Si substrate the erbium solution stucked thereto under a vacuum, and is characterized by forming a light emission layer of an erbium compound on the Si substrate.例文帳に追加

Ｓｉ基板を洗浄する工程（Ｓ１）と、Ｓｉ基板にエルビウム溶液を付着させる工程（Ｓ２）と、エルビウム溶液が付着したＳｉ基板を真空下で熱処理する工程（Ｓ３，Ｓ４）とを有し、Ｓｉ基板上にエルビウム化合物による発光層を形成することを特徴とする。 - 特許庁