「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Solution tanks 21, 21 and a channel 23 are formed on a channel substrate 1.例文帳に追加

流路基板１は、溶液槽２１，２１及び流路２３が形成されている。 - 特許庁

A similar effect can be attained when the substrate is subjected to preliminary plating instead of the immersion of the substrate in the pretreatment solution.例文帳に追加

被メッキ物を前処理液に浸漬しても良いし、前処理液で予備メッキしても同様の効果が得られる。 - 特許庁

The oxide films 18 formed on the surface of the semiconductor substrate 13 are removed by dipping the substrate 13 in an etching solution 21.例文帳に追加

半導体基板１３表面に形成された酸化膜１８をエッチング液２１中に浸漬して除去する。 - 特許庁

The microchip comprises a substrate 102 and a passage formed on the surface of the substrate 102 to allow a sample solution to pass through.例文帳に追加

マイクロチップは、基板１０２と、該基板１０２の表面に形成された試料溶液の通る流路とを備える。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus in which only a substrate processing region on one face of a substrate to be processed can be easily and quickly processed using a substrate treatment solution.例文帳に追加

処理対象基板の一面の基板処理領域のみを簡単かつ迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of extremely fine recesses and projections on a surface of a substrate, when megahertz ultrasonic waves are given to a mixed solution by use of the mixed solution containing an ammonia solution and hydrogen peroxide solution for cleaning the substrate.例文帳に追加

アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液を用いメガヘルツの超音波を混合溶液に付与して基板の洗浄を行う場合に、基板の表面に極く微小な凹凸が発生することを防止できる方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the composite structure comprises preparing a reaction solution comprising the disk-like molecules, a silica source, a sol-gel reaction catalyst and water, subjecting the solution to a sol-gel reaction, coating a substrate with the reaction solution, before the reaction solution is perfectly gelled, and then drying the coated substrate to form the thin coating film.例文帳に追加

ディスク状分子、シリカ源、ゾルゲル反応触媒および水を含む反応溶液を調製してゾルゲル反応を行い、完全にゲル化する前の溶液を基板に塗布し、乾燥して薄膜化することによって製造される。 - 特許庁

A liquid film LF1 of a HFE solution (a first treatment solution) is formed on a substrate surface Wf and further a liquid film LF2 of a DIW (a second treatment solution) is formed on the liquid film LF1 of the HFE solution.例文帳に追加

基板表面Ｗｆ上にＨＦＥ液（第１処理液）の液膜ＬＦ１が形成され、さらにＨＦＥ液の液膜ＬＦ１上にＤＩＷ（第２処理液）の液膜ＬＦ２が形成される。 - 特許庁

To remove gas dissolved in a processing solution with ease and reduce its cost, in a processing solution supply system for supplying the processing solution to a module for performing substrate processing using the processing solution.例文帳に追加

処理液を用いて基板処理を行うモジュールに対し処理液を供給する処理液供給システムにおいて、処理液に溶存する気体を容易に除去し、且つ、掛かるコストを低減する。 - 特許庁

To provide a rinsing solution used particularly for rinsing a substrate after the treatment of residue on ashing with a removing solution in the treatment of the substrate subjected to ashing after dry etching through a photoresist pattern formed on the substrate as a mask and a method for treating a substrate with the rinsing solution.例文帳に追加

特に、基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとしてドライエッチング、アッシングが施された基板の処理において、該アッシング後の残渣物を剥離液で処理した後の基板の洗浄（リンス）に用いられるリンス液およびこれを用いた基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

A developing solution is supplied on the substrate 100 by a developing solution discharging nozzle 11, while moving the developing solution discharging nozzle 11 together with a rinse liquid discharging nozzle 16 from the position in one side out of the substrate 100 to the position in the other side out of the substrate 100, passing over the substrate 100.例文帳に追加

現像液吐出ノズル１１をリンス液吐出ノズル１２とともに基板１００外の一方側の位置から基板１００上を通過して基板１００外の他方側の位置へ移動させつつ現像液吐出ノズル１１により現像液を基板１００上に供給する。 - 特許庁

To provide a chemical polishing solution for a glass substrate, which is used for polishing the surface of the glass substrate to reduce the thickness of the substrate and has a life longer than that of a conventional one.例文帳に追加

従来よりも寿命が長い、ガラス基板表面を薄板化研磨するためのガラス基板用化学研磨液を提供する。 - 特許庁

In the substrate drying method for spin-drying the substrate cleaned by using the cleaning solution, the holding member for holding the substrate is heated.例文帳に追加

洗浄液で洗浄済みの基板をスピン乾燥させる基板乾燥方法において、前記基板を保持する保持部材を加熱するようにする。 - 特許庁

To provide a solution processing apparatus which can prevent contamination on a substrate, caused when mist or the like generated in spin drying operation during substrate solution processing or after solution processing moves toward the upper side of the substrate and which can increase the efficiency of mist or the like to be discharged to the outside of the apparatus.例文帳に追加

基板の液処理中または液処理後のスピン乾燥中に発生するミスト等の基板上方への舞い上がりによる基板の汚染を防止し、また、ミスト等の処理装置外への排出効率を高めた液処理装置を提供する。 - 特許庁

To uniformly treat the surface of a substrate with a treatment solution concerning a device for converting the substrate into an inclining posture after forming the liquid layer of the treatment solution on the surface of the substrate in a horizontal state.例文帳に追加

水平状態で基板表面に処理液の液層を形成した後、基板を傾斜姿勢に変換する装置において、基板表面内を処理液で均一に処理できるようにする。 - 特許庁

Consequently, the charges which are electrostatically charged on the surface of the substrate can be destaticized efficiently, and at the same time, the electrostatics, which is generated by the friction between the cleaning solution and substrate when the substrate, is cleaned with a solution can be suppressed.例文帳に追加

その結果、基板表面に帯電している電荷を効率よく除電するとともに、洗浄処理のときに洗浄液と基板の摩擦により発生する静電気を抑制することができる。 - 特許庁

To make the number of revolutions for shaking off a substrate automatically correctable at the time of coating the substrate with a resist solution when the resist solution is applied to the substrate by the spin coating method and the thickness of the obtained resist film deviates from a target film thickness.例文帳に追加

基板にスピンコーティング法によりレジスト液を塗布し、得られたレジスト膜が目標膜厚から外れていたときに、塗布時の基板の振り切り回転数を自動的に補正できるようにすること。 - 特許庁

A thick layer of a rinse solution covers the whole of the substrate surface Wf that is subjected to a rinse process of delivering the rinse solution from a rinse nozzle 8 to the substrate surface Wf, and a paddle-like rinse layer 21 is formed on the substrate surface Wf.例文帳に追加

リンスノズル８からのリンス液の吐出によりリンス処理を受けた基板表面Ｗｆ全体にはリンス液が盛られた状態で付着して、いわゆるパドル状のリンス層２１が形成される。 - 特許庁

It is effective to fire the substrate by using a carbon crucible 2 and bringing the surface of the substrate coated with the gel solution into contact with the crucible, or to fire the substrate by housing the substrate coated with the gel solution in a space surrounded by crucible walls.例文帳に追加

炭素るつぼ２を用い、基材のゲル溶液がコーティングされた面をるつぼに接触させて焼成したり、ゲル溶液がコーティングされた基材をるつぼの壁面で囲まれた空間に収容して焼成するのが有効である。 - 特許庁

The plating processing apparatus 20 includes: a substrate rotation holding mechanism 110 for rotatably holding a substrate 2; and a plating solution supply mechanism 30 for supplying a plating solution 35 to the substrate 2 held by the substrate rotation holding mechanism 110.例文帳に追加

めっき処理装置２０は、基板２を回転保持する基板回転保持機構１１０と、基板回転保持機構１１０に保持された基板２に対してめっき液３５を供給するめっき液供給機構３０と、を備えている。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus for supplying process solution on a substrate surface by conveying the substrate in the horizontal direction, the substrate processing apparatus includes a substrate support unit for attaching the substrate to the bottom plane, a shower unit for supplying the process solution, being located downward being spaced with the substrate at a predetermined interval, and a conveyer unit conveying the substrate support unit in the horizontal direction.例文帳に追加

基板を水平方向に搬送して基板の表面に処理液を供給する基板処理装置において、基板を底面に付着する基板支持ユニット、基板と所定の間隔で離隔して下部に位置し、処理液を供給するシャワーユニット、基板支持ユニットを水平方向に搬送する搬送ユニットを含む基板処理装置。 - 特許庁

The method comprises putting and transferring the substrate 2 on a water-permeable belt 1, and spouting a cleaning solution from a cleaning solution spouting means 3 to the substrate.例文帳に追加

透水性ベルト１上に基板２を積載して搬送し、洗浄液噴射手段３から基板面に向かって洗浄液を噴射する基板の洗浄方法。 - 特許庁

To protect a device formed on a substrate as the processing object and also improve solution processing efficiency by controlling the static charge on the substrate generated during the solution processing.例文帳に追加

液処理中に生じる被処理基板の帯電を抑制して、被処理基板に形成されるデバイスの保護を図ると共に、液処理効率の向上を図れるようにすること。 - 特許庁

To eliminate a problem such as re-adhesion of mists of a chemical solution to a substrate and also to eliminate leaving of unevenness of the chemical solution in the substrate processing apparatus used for processes using chemical solutions.例文帳に追加

薬液処理を行なう基板処理装置において、基板に対する薬液ミストの再付着などの問題がなく、なおかつ、薬液ムラを残さないようにする。 - 特許庁

The solution flows out from a coating die to a substrate in a film forming process 82.例文帳に追加

膜形成工程８２では溶液が塗布ダイから支持体に向けて流出する。 - 特許庁

A strip solution 102 is supplied on the surface of a semiconductor substrate 104.例文帳に追加

ストリップ溶液１０２が半導体基板１０４の表面上に供給される。 - 特許庁

A chemical solution is supplied to the lower surface of the substrate W by a liquid supply part 7a.例文帳に追加

基板Ｗの下面には液供給部７ａより薬液が供給される。 - 特許庁

SOLUTION SPRAY MANUFACTURING APPARATUS, MANUFACTURED PATTERN WIRING BOARD AND DEVICE SUBSTRATE例文帳に追加

溶液噴射製造装置ならびに製造されるパターン配線基板及びデバイス基板 - 特許庁

This prevents the coating solution 38 from attaching to the rear side of the glass substrate 12.例文帳に追加

このため、コーティング液３８がガラス基板１２の裏面側に付着することがない。 - 特許庁

SOLUTION EJECTING MANUFACTURING DEVICE, PATTERN WIRING BOARD AND DEVICE SUBSTRATE TO BE MANUFACTURED例文帳に追加

溶液噴射製造装置ならびに製造されるパターン配線基板及びデバイス基板 - 特許庁

COATING SOLUTION FOR FORMATION OF TRANSPARENT ION GETTER FILM, FILM-ATTACHED SUBSTRATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY CELL例文帳に追加

透明イオンゲッター膜形成用塗布液、被膜付基材および液晶表示セル - 特許庁

To provide coating solution to form a ferro-electric thin film on a substrate.例文帳に追加

基板上に強誘電体薄膜を形成するための塗布溶液を提供する。 - 特許庁

A developing solution tank 33 reserving a developing solution that is fed to a substrate S is arranged below a developing tank 30.例文帳に追加

基板Ｓに供給すべき現像液が貯留されている現像液タンク３３は、現像槽３０の下方に配置されている。 - 特許庁

The transparent substrate 2 is set up in a solution spouting device 50, and deposition of organic EL layers 4 is carried out in the solution spouting device 50.例文帳に追加

この透明基板２を溶液噴出装置５０にセットし、溶液噴出装置５０で有機ＥＬ層４を成膜する。 - 特許庁

Nozzles 11-13 discharge the coating solution and moves so that they pass on the substrate S during discharging the coating solution.例文帳に追加

ノズル１１〜１３は、塗布液を吐出するとともに塗布液の吐出中において基板Ｓ上を通過するように移動する。 - 特許庁

When processing a substrate with a phosphor acid solution, a control section 51 stores a new phosphor acid solution in a processing tank 1 at first.例文帳に追加

制御部５１は、燐酸溶液で基板を処理するにあたり、まず、処理槽１に燐酸溶液の新液を貯留させる。 - 特許庁

To well coat a substrate with a coating solution by always continuously discharging the coating solution in a liquid column state regardless of a coating condition.例文帳に追加

塗布条件に関わりなく塗布液を常に連続的な液柱状に吐出して良好に塗布液を基板に塗布する。 - 特許庁

The needle 53 pulls the solution out of the liquid reservoir member 52 and disposes the solution held at the liquid reservoir member 52 on the substrate 3.例文帳に追加

ニードル５３が液溜め部材５２から溶液を引っ張りだし、液溜め部材５２に保持された溶液を基板３に配置する。 - 特許庁

PHOTOCATALYST, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, COATING SOLUTION FOR SUBSTRATE LAYER OF PHOTOCATALYST, COATING SOLUTION FOR PHOTOCATALYST FILM, AND FUNCTIONAL BODY例文帳に追加

光触媒体、光触媒体の製造方法、光触媒体の下地層用塗布液、光触媒膜用塗布液および機能体 - 特許庁

A sample solution 3 containing fluorescence molecules 5 is placed on the SiO_2 film 7 of the supporting substrate and a cover glass 8 is placed on the sample solution 3.例文帳に追加

その支持基板のＳｉＯ_２膜７上に蛍光分子５を含む試料溶液３を載せ、その上にカバーガラス８を載せる。 - 特許庁

To provide an application apparatus and an application method for applying a coating solution to a substrate at an increased apparatus efficiency while preventing oxidation of the coating solution.例文帳に追加

塗布液の酸化を防止しながら装置効率を上げて基板に塗布を行う塗布装置および塗布方法を提供する。 - 特許庁

A developing solution as a processing solution is fed into the closed vessel to make the substrate to undergo still development, and then rinses are supplied so as to discharge the processing solution from the closed vessel.例文帳に追加

そして密閉容器内に処理液例えば現像液を供給して静止現像を行い、次いでリンス液を供給して前記処理液を排出する。 - 特許庁

When a processing solution is discharged from a lower processing-solution outlet 37, the processing solution is supplied to the substrate side space S1a to process the lower surface of the wafer W.例文帳に追加

下側処理液吐出口３７から処理液が吐出されることにより、基板側の空間Ｓ１ａに処理液が供給され、ウエハＷの下面が処理される。 - 特許庁

Developing solution 16 is supplied from a developing solution supplying nozzle 15 on a photoresist film 12 formed on a glass substrate 10, and is subjected to mounting of the developing solution 16.例文帳に追加

ガラス基板１０上に形成されたフォトレジスト膜１２の上に現像液供給ノズル１５から現像液１６を供給して、現像液１６を液盛りする。 - 特許庁

A processing bath 1 for dipping processing of a substrate therein with a processing solution is provided in its both bottom sides with processing-solution supply parts 9 for supplying the processing solution into the bath 1.例文帳に追加

基板を処理液で浸漬処理する処理槽１内の底部の両側それぞれに、処理槽１内に処理液を供給する処理液供給部９を設ける。 - 特許庁